[發明專利]一種波長轉換裝置及其制作方法、相關發光裝置

有效

• 申請號: 201310228456.9
• 申請日: 2013-06-08
• 公開（公告）號: CN104100933A
• 公開（公告）日: 2014-10-15
• 發明（設計）人: 許顏正;田梓峰;李乾;徐虎
• 申請（專利權）人: 深圳市繹立銳光科技開發有限公司
• 主分類號: F21V9/10
• 分類號: F21V9/10
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及照明及顯示技術領域，特別是涉及一種波長轉換裝置及其制作方法、相關發光裝置。

背景技術

利用激光或者LED等光源激發熒光粉以獲得預定單色光或者多色光，是一種廣泛應用于照明光源、投影顯示等領域的技術方案。這種技術方案往往是利用激光或者LED出射光入射到高速旋轉的熒光粉色輪上，以實現良好的散熱。

現有技術中的色輪包括兩層結構：下層是鏡面鋁基板，上層是涂覆在鋁基板上的熒光粉片。

鏡面鋁基板主要起到反射和導熱作用，鏡面鋁基板一般有三層結構構成：鋁基材，高反射層和表面介質保護層，其中高反射層一般采用高純鋁或者高純銀，在高反射層表面鍍上介質層，這個介質層是有低折射率MgF₂或者是SiO₂和高折射率層材料TiO₂組成，起到對高純鋁/銀層的保護和增強反射作用。這種鏡面鋁基板存在兩個方面的問題，第一，表面介質層與高反射層的熱膨脹系數不匹配，介質層在沖壓成型過程中容易遭到破壞，甚至膜層脫落；第二，對于反射率更高的高反射銀層來說，在受到高溫時，介質層保護層和高反射層之間會產生間隙，使得高反射層與空氣產生接觸，銀原子很容易與大氣中的硫化氫，氧氣等發生硫化、氧化反應而使高反射層的反射率和熱穩定性急劇降低；對于反射鋁層來說，鋁的穩定性高于銀，但是反射率不高。因此，在目前工藝條件下，鏡面鋁基板不能耐受高溫，而難以應用于較大功率的發光裝置中。

發明內容

本發明實施例主要解決的技術問題是提供了一種可以耐受較高溫度的波長轉換裝置及其制作方法、相關發光裝置。

本發明實施例提供了一種波長轉換裝置，其特征在于，包括：

熒光粉層，該熒光粉層包括熒光粉；

漫反射層，包括白色散射粒子，白色散射粒子用于對入射光進行散射；

高導熱基板，該高導熱基板為氮化鋁基板、氮化硅基板、碳化硅基板、氮化硼基板、氧化鈹基板中的一種；

熒光粉層、漫反射層、高導熱基板依次層疊設置并固定。

優選地，高導熱基板的導熱系數大于等于100W/mK。

優選地，漫反射層包括第一玻璃粉，第一玻璃粉用于粘接白色散射粒子。

優選地，熒光粉層還包括第二玻璃粉，該第二玻璃粉用于粘接熒光粉。

優選地，白色散射粒子包括硫酸鋇粉末、氧化鋁粉末、氧化鎂粉末、氧化鈦粉末、氧化鋯粉末中的至少一種。

優選地，漫反射層包括第一玻璃粉，第一玻璃粉用于粘接白色散射粒子，第一玻璃粉和第二玻璃粉為同一種高熔點玻璃粉。

本發明實施例還提供了一種發光裝置，其特征在于，包括上述波長轉換裝置，該發光裝置還包括一用于出射激發光的激發光源，熒光粉用于吸收該激發光以產生受激光，漫反射層用于對該受激光或者受激光與未被吸收的激發光的混合光進行散射反射。

本發明實施例還提供了一種波長轉換裝置的制作方法，其特征在于，該制作方法包括：

A、獲取高導熱基板，該高導熱基板為氮化鋁基板、氮化硅基板、碳化硅基板、氮化硼基板、氧化鈹基板中的一種；

B、獲取漫反射層，該漫反射層包括白色散射粒子，白色散射粒子用于對入射光進行散射；

C、獲取熒光粉層，該熒光粉層包括熒光粉；

D、將熒光粉層、漫反射層、高導熱基板依次層疊設置并固定。

優選地，步驟B與步驟D包括：

在高導熱基板表面上燒結一層漫反射層，該漫反射層包括白色散射粒子以及第一玻璃粉，燒結的溫度低于高導熱基板的熔點，并將熒光粉層固定在該基板表面上的漫反射層的表面。

優選地，步驟B、步驟C與步驟D包括：

在高導熱基板表面上燒結一層漫反射層，該漫反射層包括白色散射粒子以及第一玻璃粉，燒結的溫度低于高導熱基板的熔點，并在該高導熱基板表面上的漫反射層的表面燒結一層熒光粉層，該熒光粉層包括第二玻璃粉和熒光粉，且燒結溫度T3≤Tf+400℃，其中Tf為第一玻璃粉的軟化溫度。

優選地，在高導熱基板表面上燒結一層漫反射層包括：

B1、獲取白色散射粒子、第一玻璃粉、有機載體；

B2、將白色散射粒子、第一玻璃粉、有機載體混合，以得到散射粒子漿體；

B3、將散射粒子漿體涂覆在高導熱基板上；

B4、將被散射粒子漿體涂覆的高導熱基板進行燒結成型，以得到漫反射層。

優選地，在該基板表面上的漫反射層的表面燒結一層熒光粉層包括：

C1、獲取第二玻璃粉、熒光粉、有機載體；