[發(fā)明專利]一種真空鍍膜設備的門體結構有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310226359.6 | 申請日: | 2013-06-07 |
| 公開(公告)號: | CN103276353B | 公開(公告)日: | 2019-02-05 |
| 發(fā)明(設計)人: | 董小虹;張中弦;梁航;黃拿燦 | 申請(專利權)人: | 廣東世創(chuàng)金屬科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/00 | 分類號: | C23C14/00;C23C14/52;C23C14/54 |
| 代理公司: | 廣州廣信知識產(chǎn)權代理有限公司 44261 | 代理人: | 張文雄 |
| 地址: | 528313 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 真空鍍膜 設備 新型 結構 | ||
本發(fā)明涉及一種鍍膜設備的門體結構,其特征在于:包括真空室門體和真空室門蓋,真空室門體與真空室腔體密封連接構成密封式具有筒狀結構的真空室;在真空室腔體外表面設有真空室腔體蓋,通過真空室門蓋和真空室腔體蓋將真空室整體圍合,形成真空室圍蔽結構;在真空窒門體的立面上設有一個或多個觀察窗,在觀察窗上面安裝有攝像裝置;在真空室門蓋的立面上,安裝有顯示屏,供視頻監(jiān)控和工藝監(jiān)控使用。本發(fā)明使用整體外蓋圍蔽結構,相當于形成雙層門體結構,使真空室腔體和真空室門體的立面方便布置及隱藏管線,整體外觀整齊、簡潔,通過觀察窗,進行實時監(jiān)控和記錄真空室內(nèi)部的工作狀況,實現(xiàn)自動監(jiān)控的目的,并具有通用性好,使用率高、使用方便和成本較低的顯著有益效果。
技術領域
本發(fā)明涉及真空鍍膜設備,特別涉及一種用于真空鍍膜設備的門體結構。屬于真空設備技術領域。
技術背景
現(xiàn)有技術中,真空鍍膜設備由于在鍍膜過程中工件處于密閉的真空環(huán)境中,觀察其工作過程一般是采用在真空室上,設置一個或多個觀察窗,操作者透過所述觀察窗,進行人工觀察和記錄真空室內(nèi)溫度及工件鍍膜的狀況,這種方法存在人為誤差和勞動強度大、效率低,只能觀察不能記錄的等缺陷。另外,真空鍍膜設備的真空室其外圍部件和管線較多,影響設備整體美觀。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術問題,即本發(fā)明的目的,一是為了克服現(xiàn)有鍍膜設備需要人工觀察鍍膜過程,存在人為誤差、勞動強度大和效率低的缺陷,二是克服現(xiàn)有鍍膜設備的真空室其外圍部件和管線較多,影響設備整體美觀的缺陷,提供一種真空鍍膜設備的門體結構。
本發(fā)明的目的可以通過采取以下技術方案達到:
一種鍍膜設備的門體結構,其結構特點在于,包括真空室門體和真空室門蓋,真空室門體與真空室腔體密封連接構成密封式具有筒狀結構的真空室;在真空室腔體外表面設有真空室腔體蓋,通過真空室門蓋和真空室腔體蓋將真空室整體圍合,形成真空室圍蔽結構;在真空窒門體的立面上設有一個或多個觀察窗,在觀察窗上面安裝有攝像裝置;在真空室門蓋的立面上,安裝有顯示屏,供視頻監(jiān)控和工藝監(jiān)控使用。
本發(fā)明的目的還可以通過采取以下技術方案達到:
進一步地,在觀察窗上可以設有紅外測溫裝置,以記錄真空室內(nèi)溫度及工件的鍍膜狀況。
進一步地,在真空室門蓋的內(nèi)側面中可設有線槽盒等裝置,使鍍膜設備真空室外的布線整齊、簡潔。
本發(fā)明具有如下突出的有益效果:
1、本發(fā)明由于使用整體外蓋圍蔽結構,相當于形成雙層門體結構,使真空室腔體和真空室門體的立面更方便布置及隱藏管線,整體外觀整齊、簡潔,因此克服現(xiàn)有技術的多功能鍍膜設備存在線路布置散亂,影響美觀的缺陷。
2、本發(fā)明涉及的真空室門體可以設置一個或多個觀察窗,通過觀察窗,可以安裝紅外測溫裝置和攝像裝置,進行實時監(jiān)控和記錄真空室內(nèi)部的工作狀況,實現(xiàn)自動監(jiān)控的目的。
3、本發(fā)明由于真空室門蓋的立面設置顯示屏,通過顯示屏,可以進行視頻監(jiān)控和工藝監(jiān)控。本發(fā)明具有通用性好,使用率高、使用方便和成本較低的顯著有益效果。
附圖說明
圖1是本發(fā)明具體實施例1的結構示意圖。
圖2是本發(fā)明具體實施例1的外形結構示意圖。
具體實施方式
下面結合具體實施例對本發(fā)明作進一步詳細描述。
具體實施例1:
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





