[發明專利]一種真空鍍膜設備的門體結構

有效

• 申請號: 201310226359.6
• 申請日: 2013-06-07
• 公開（公告）號: CN103276353B
• 公開（公告）日: 2019-02-05
• 發明（設計）人: 董小虹;張中弦;梁航;黃拿燦
• 申請（專利權）人: 廣東世創金屬科技股份有限公司
• 主分類號: C23C14/00
• 分類號: C23C14/00;C23C14/52;C23C14/54
• 代理公司: 廣州廣信知識產權代理有限公司 44261
• 代理人: 張文雄

1.一種鍍膜設備的門體結構，其特征在于，包括真空室門體(4)和真空室門蓋(3)，真空室門體(4)與真空室腔體(2)密封連接構成密封式具有筒狀結構的真空室；在真空室腔體(2)外表面設有真空室腔體蓋(1)，通過真空室門蓋(3)和真空室腔體蓋(1)將真空室整體圍合，形成真空室圍蔽結構；在真空窒門體(4)的立面上設有一個或多個觀察窗(5)，并在觀察窗(5)上面安裝有攝像裝置(7)；在真空室門蓋(3)的正面，安裝有顯示屏(8)，供視頻監控和工藝監控使用。

2.根據權利要求1所述一種鍍膜設備的門體結構，其特征在于，在觀察窗(5)上設有紅外測溫裝置(6)，以記錄真空室內溫度及工件的鍍膜狀況。

3.根據權利要求1或2所述一種鍍膜設備的門體結構，其特征在于，在真空室門蓋(3)的內側面中設有線槽盒裝置，使鍍膜設備真空室外的布線整齊、簡潔。