[發明專利]顯示屏的高耐磨性防指紋膜層及制作上述膜層的方法

有效

• 申請號: 201310214086.3
• 申請日: 2013-05-31
• 公開（公告）號: CN103252937A
• 公開（公告）日: 2013-08-21
• 發明（設計）人: 林海平
• 申請（專利權）人: 浙江星星瑞金科技股份有限公司
• 主分類號: B32B9/04
• 分類號: B32B9/04
• 代理公司: 臺州市方圓專利事務所 33107
• 代理人: 蔡正保;朱新穎

技術領域

本發明屬于作業技術領域，涉及一種納米膜層狀產品，特別是一種顯示屏的高耐磨性防指紋膜層。

本發明屬于作業技術領域，涉及一種納米膜層狀產品，特別是一種制作顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法。

背景技術

采用電容式觸控的手機和平板電腦等電子產品的顯示屏均具有強化玻璃面板。在實際使用中，強化玻璃面板表面極易被外界的污物和用戶的指紋所污染。

為此，人們設計出了耐摩擦防指紋膜，如中國專利文獻記載的一種觸摸屏用防指紋膜[申請號：201120330917.X；授權公告號:CN202208152U]，強化玻璃上表面為緩沖層，緩沖層的上表面為AF膜；緩沖層為SiO2薄膜，AF膜為疏水性和疏油性的高分子聚合物。

AF膜同時具有疏水性和疏油性兩種特性，基于良好的疏水性和疏油性，AF膜不易粘附外界的灰塵及污物，并且在粘附污物和指紋的情況下，也具有較易除去表面異物的特性。同時該防指紋膜還有效地保證良好地透光性。因此，防指紋膜被廣泛應用在手機顯示屏和平板電腦顯示屏中。

為了保證防指紋膜符合實際使用壽命，即需要檢驗防指紋膜的耐磨特性。本領域常規檢測方法是顯示屏先經受零號鋼絲球以1千克的重量往復摩擦；再以純水進行接觸角檢測，磨后接觸角需大于90°。經過試驗，該防指紋膜經過5000次往復摩擦后接觸角小于90°，即存在著使用壽命低的問題。

上述觸摸屏用防指紋膜[申請號：201120330917.X；授權公告號:CN202208152U]中SiO₂緩沖層是通過PECVD所制備的，該制備方法存在著設備投資大、成本高，對氣體的純度要求高；涂層過程中產生的劇烈噪音、強光輻射、有害氣體、金屬蒸汽粉塵等對人體有害；即存在著生產成本高、投資回報周期長的問題。

發明內容

本發明的目的是針對現有的技術存在上述問題，提出了一種顯示屏的高耐磨性防指紋膜層，本發明要解決的技術問題是如何提高耐磨性。

本發明還提出了一種制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法，本發明要解決的技術問題是如何降低生產成本與設備投資成本。

本發明的目的可通過下列技術方案來實現：一種顯示屏的高耐磨性防指紋膜層，顯示屏包括基片，其特征在于，本膜層包括真空蒸鍍附在基片表面的改性二氧化硅層和真空蒸鍍附在改性二氧化硅層表面的AF層。

本顯示屏的高耐磨性防指紋膜層經過多組樣品5000次往復摩擦試驗，以純水進行接觸角檢測，磨后接觸角均大于100°。

在上述的顯示屏的高耐磨性防指紋膜層中，所述改性二氧化硅層的厚度13～15納米。

在上述的顯示屏的高耐磨性防指紋膜層中，所述AF層的厚度15～17納米。

本制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法，其特征在于，本方法包括以下步驟：

A、前處理：對改性二氧化硅進行真空脫氣處理；

B、準備真空蒸鍍：先將基片安裝在真空蒸鍍膜機真空室頂面上，在第一組蒸發源內加入經過真空脫氣處理的改性二氧化硅，在第二組蒸發源內加入AF；

C、執行真空蒸鍍：先抽真空和調整真空室內溫度，再依次進行真空蒸鍍改性二氧化硅層和真空蒸鍍AF層，得到產品；

D、出產品：將產品從真空蒸鍍膜機真空室頂面上卸下并運出真空室。

在上述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法中，所述改性二氧化硅中二氧化硅成分重量百分比為99.6～99.7；其余為金屬氧化物。

在上述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法中，所述金屬氧化物為三氧化二鋁、氧化鉀、氧化鈉、三氧化二鐵、氧化鈣或氧化鎂。

在上述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法中，所述步驟A采用下述真空蒸鍍膜機進行處理。

在上述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法中，所述改性二氧化硅放在真空蒸鍍膜機內的時間為至少執行1次真空蒸鍍。

在上述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法中，所述改性二氧化硅為顆粒狀。顆粒直徑約為4～6毫米

在上述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法中，所述B中蒸發源與基片的高度為880～930毫米。

在上述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法中，所述步驟C中真空室內的壓強低于5.0^-3pa后再執行真空蒸鍍改性二氧化硅層。

在上述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法中，所述步驟C中真空室內溫度調整至20～40攝氏度。