[發明專利]顯示屏的高耐磨性防指紋膜層及制作上述膜層的方法有效
| 申請號： | 201310214086.3 | 申請日： | 2013-05-31 |
| 公開（公告）號： | CN103252937A | 公開（公告）日： | 2013-08-21 |
| 發明（設計）人： | 林海平 | 申請（專利權）人： | 浙江星星瑞金科技股份有限公司 |
| 主分類號： | B32B9/04 | 分類號： | B32B9/04 |
| 代理公司： | 臺州市方圓專利事務所 33107 | 代理人： | 蔡正保;朱新穎 |
| 地址： | 318015 浙江省*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 顯示屏 耐磨性 指紋 制作 上述 方法 | ||
1.一種顯示屏的高耐磨性防指紋膜層，顯示屏包括基片（1），其特征在于，本膜層包括真空蒸鍍附在基片（1）表面的改性二氧化硅層（2）和真空蒸鍍附在改性二氧化硅層（2）表面的AF層（3）。
2.根據權利要求1所述的顯示屏的高耐磨性防指紋膜層，其特征在于，所述改性二氧化硅層（2）的厚度13～15納米。
3.本制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法，其特征在于，本方法包括以下步驟：
A、前處理：對改性二氧化硅進行真空脫氣處理；
B、準備真空蒸鍍：先將基片（1）安裝在真空蒸鍍膜機真空室頂面上，在第一組蒸發源內加入經過真空脫氣處理的改性二氧化硅，在第二組蒸發源內加入AF；
C、執行真空蒸鍍：先抽真空和調整真空室內溫度，再依次進行真空蒸鍍改性二氧化硅層（2）和真空蒸鍍AF層（3），得到產品；
D、出產品：將產品從真空蒸鍍膜機真空室頂面上卸下并運出真空室。
4.根據權利要求3所述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法，其特征在于，所述改性二氧化硅中二氧化硅成分重量百分比為99.6～99.7；其余為金屬氧化物。
5.根據權利要求3所述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法，其特征在于，所述步驟A采用下述真空蒸鍍膜機進行處理。
6.根據權利要求5所述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法，其特征在于，所述改性二氧化硅放在真空蒸鍍膜機內的時間為至少執行1次真空蒸鍍。
7.根據權利要求3所述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法，其特征在于，所述改性二氧化硅為顆粒狀。
8.根據權利要求3至7中的任意一項所述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法，其特征在于，所述B中蒸發源與基片（1）的高度為880～930毫米。
9.根據權利要求3至7中的任意一項所述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法，其特征在于，所述步驟C中真空室內的壓強低于5.0-3pa后再執行真空蒸鍍改性二氧化硅層（2）。
10.根據權利要求3至7中的任意一項所述的制作上述顯示屏的高耐磨性防指紋膜層的方法，其特征在于，所述步驟C中真空室內溫度調整至20～40攝氏度。
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