[發明專利]測量AR減反膜厚度和折射率的裝置在審
| 申請號: | 201310210421.2 | 申請日: | 2013-05-31 |
| 公開(公告)號: | CN104215187A | 公開(公告)日: | 2014-12-17 |
| 發明(設計)人: | 朱崢嶸;埃德加·吉尼奧;趙連芳 | 申請(專利權)人: | 昆山勝澤光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G01B11/06 | 分類號: | G01B11/06;G01N21/41 |
| 代理公司: | 南京正聯知識產權代理有限公司 32243 | 代理人: | 郭俊玲 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 測量 ar 減反膜 厚度 折射率 裝置 | ||
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技術領域
本發明涉及一種光學測量裝置,特別涉及一種測量AR減反膜厚度和折射率的裝置。
背景技術
AR減反膜通常鍍在超白壓延玻璃的光面,可以有效的提高光伏玻璃的透過率。目前測量AR減反膜的主要方法是使用橢偏儀。橢偏儀精度較高,但是結構復雜,價格較昂貴,而且測量速度慢,不能用于在線測量。
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發明內容
為了克服上述缺陷,本發明提供了一種結構簡單,測量速度快,測量準確測量AR減反膜厚度和折射率的裝置。
本發明為了解決其技術問題所采用的技術方案是:一種測量AR減反膜厚度和折射率的裝置,包括至少兩個光源和一個計算裝置,以及對應每個光源的光學系統、光線接收器和光譜分析裝置,所述每個光源的光線通過對應的光學系統以大于0度且小于90度的傾斜角照射至AR減反膜膜面同一側的同一點,且反射后的光線被對應的光線接收器接收,所述每個光線接收器通過光纖或光路連接對應的光譜分析裝置,且每個光譜分析裝置均通過數據線連接計算裝置。
作為本發明的進一步改進,所述每個光學系統與對應的每個光線接收器位于同一平面,并且它們與AR減反膜垂直方向所成的傾斜角度相同且不重合。
作為本發明的進一步改進,所述光源為寬光譜的光源,且光源通過光學系統后的光線為偏振光或者非偏振光。
作為本發明的進一步改進,所述光學系統為一種或多種光學元件組成的透射式光學系統、反射式光學系統或光纖。
本發明的有益效果是:本發明的AR減反膜測量裝置具有結構簡單,測量速度快,測量準確的特點,與橢偏儀相比,本裝置無活動部件,所以運行的可靠性很高,同時信號采集速度也很高,所以可以用于在線測量。
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附圖說明
圖1為本發明結構示意圖;
圖中標示:1-光源;2-計算裝置;3-光學系統;4-光線接收器;5-光譜分析裝置;6-AR減反膜。
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具體實施方式
為了加深對本發明的理解,下面將結合實施例和附圖對本發明作進一步詳述,該實施例僅用于解釋本發明,并不構成對本發明保護范圍的限定。
圖1示出了本發明一種測量AR減反膜厚度和折射率的裝置的一種實施方式,以兩個光源和一個計算裝置為例,以及對應的兩個光學系統3、兩個光線接收器4和兩個光譜分析裝置5,光譜分析裝置5可以是光譜儀,但不限于光譜儀,可以是其它種類的光譜分析儀器,所述每個光源1的光線通過對應的光學系統2以大于0度且小于90度的傾斜角照射至AR減反膜6膜面的同一點,且反射后的光線被對應的光線接收器4接收,所述每個光線接收器4通過光纖或光路連接對應的光譜分析裝置5,且每個光譜分析裝置5均通過數據線最終連接計算裝置2,數據線可以為各種數據線,端口也可以為各種端口;所述每個光學系統3與對應的每個光線接收器4位于同一平面,并且它們與AR減反膜6垂直方向所成的傾斜角度相同且不重合,所述光源1為寬光譜的光源,且光源1通過光學系統后的光線為非偏振光,所述光學系統3為多種光學元件組成的透射式光學系統。
如圖1所示,兩個光源(或兩個以上光源)1所打出的寬光譜斜入射光打到AR減反膜6膜面的同一點,光線接收器4得到反射光并通過光纖或其他光學系統導入光譜分析裝置5中,光譜分析裝置5把各波段的光譜信號通過數據線傳到計算裝置2里面,計算裝置2可以由光譜信號計算出AR減反膜6的膜面在兩個(或兩個以上,不包括零度)角度的相對于波長的反射率曲線。
計算裝置2再通過預先儲存的程序,對兩個反射率曲線進行分析,計算出在膜厚為a,?折射率為某個波長的函數或某個常數時,膜面的反射率曲線和測量的反射率曲線最接近,從而膜的厚度和折射率被同時測得,在對測量數據進行分析時,不限定優化算法。
該裝置主要用于AR減反膜的膜厚以及折射率測定,也可用于測量其他的膜的厚度或折射率。
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