[發明專利]掩模板以及掩模板的制備方法無效
| 申請號： | 201310207017.X | 申請日： | 2013-05-29 |
| 公開（公告）號： | CN103293847A | 公開（公告）日： | 2013-09-11 |
| 發明（設計）人： | 薛靜;吳昊;崔子巍;趙秀強;尹巖巖 | 申請（專利權）人： | 北京京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號： | G03F1/26 | 分類號： | G03F1/26 |
| 代理公司： | 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 模板 以及 制備 方法 | ||
1.一種掩模板，其特征在于，包括多個交疊設置的子掩模板，每個所述子掩模板中包括透光區域和遮光區域，多個所述子掩模板的遮光區域共同形成所述掩模板的掩模圖形。
2.根據權利要求1所述的掩模板，其特征在于，每一個所述子掩模板中的所述透光區域與所述遮光區域之間的位置關系不相同。
3.根據權利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述子掩模板的所述遮光區域的形狀可設置為長方形或正方形或三角形或圓形。
4.根據權利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述子掩模板的所述遮光區域包括不透光的金屬材料。
5.根據權利要求4所述掩模板，其特征在于，所述子掩模板通過一次構圖工藝形成所述遮光區域。
6.根據權利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述子掩模板中還包括覆蓋所述透光區域和所述遮光區域的透明的保護層。
7.根據權利要求6所述的掩模板，其特征在于，所述保護層的厚度為100微米。
8.一種掩模板的制備方法，其特征在于，包括：
根據所述掩模板的掩模圖形確定所需的子掩模板，所述子掩模板中包括透光區域和遮光區域；
交疊設置多個所述子掩模板以形成所述掩模板。
9.根據權利要求8所述的制備方法，其特征在于，在完成所述交疊設置多個子掩模板以形成掩模板的步驟以后，還包括：
校準所述掩模板的所述掩模圖形是否符合要求；
若符合，則完成校準；若不符合，則重復所述交疊設置多個子掩模板以形成掩模板的步驟。
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G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
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