[發明專利]掩模板以及掩模板的制備方法

無效

• 申請號: 201310207017.X
• 申請日: 2013-05-29
• 公開（公告）號: CN103293847A
• 公開（公告）日: 2013-09-11
• 發明（設計）人: 薛靜;吳昊;崔子巍;趙秀強;尹巖巖
• 申請（專利權）人: 北京京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G03F1/26
• 分類號: G03F1/26
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種掩模板以及掩模板的制備方法。

背景技術

隨著光電顯示技術的日益成熟，顯示裝置的應用領域越來越廣泛。其中基于壽命長、光效高、輻射低、功耗低等特點，液晶顯示裝置逐漸取代了傳統射線管顯示設備而成為了近年來顯示設備產品主流的研究方向。

作為液晶顯示裝置制備過程中一種常用工藝手段，光刻工藝用于在基板上形成液晶顯示裝置中陣列基板和彩膜基板各結構單元的圖形。其中，光刻工藝中以光刻膠為材料，將光刻膠涂覆在準備刻蝕的薄膜上，利用掩模板形成光刻膠的圖形，該光刻膠的圖形可以保護下面的材料薄膜在后續刻蝕工藝中不被刻蝕掉，從而形成各結構單元的圖形。

但發明人在研發過程中發現現有技術至少存在以下缺陷：由于液晶顯示裝置中各結構單元的圖形各不相同，而且在開發過程中常常需要對各結構單元的圖形進行調整。因此，對于現有技術的掩模板而言，重復制備不僅造成了浪費，增加了成本支出，另外還會導致開發和制作的過程變長。

發明內容

本發明的實施例提供一種掩模板以及掩模板的制備方法，該掩模板的掩模圖形可調，因此掩模板可重復利用，節約了掩模板的制備成本。

為解決上述技術問題，本發明的實施例采用如下技術方案：

一種掩模板，包括多個交疊設置的子掩模板，每個所述子掩模板中包括透光區域和遮光區域，多個所述子掩模板的遮光區域共同形成所述掩模板的掩模圖形。

進一步的，每一個所述子掩模板中的所述透光區域與所述遮光區域之間的位置關系不相同。

進一步的，所述子掩模板的所述遮光區域的形狀可設置為長方形或正方形或三角形或圓形。

進一步的，所述子掩模板的所述遮光區域包括不透光的金屬材料。

優選的，所述子掩模板通過一次構圖工藝形成所述遮光區域。

進一步的，所述子掩模板中還包括覆蓋所述透光區域和所述遮光區域的透明的保護層。

優選的，所述保護層的厚度為100微米。

另一方面，本發明實施例還提供了一種掩模板的制備方法，包括：

根據所述掩模板的掩模圖形確定所需的子掩模板，所述子掩模板中包括透光區域和遮光區域；

交疊設置多個所述子掩模板以形成所述掩模板。

進一步的，在完成所述交疊設置多個子掩模板以形成掩模板的步驟以后，還包括：

校準所述掩模板的所述掩模圖形是否符合要求；

若符合，則完成校準；若不符合，則重復所述交疊設置多個子掩模板以形成掩模板的步驟。

本發明實施例提供的一種掩模板以及掩模板的制備方法，該掩模板中包括多個交疊設置的子掩模板，每個子掩模板中包括透光區域和遮光區域，多個子掩模板的遮光區域共同形成掩模板的掩模圖形，通過調整多個子掩模板的遮光區域之間的位置關系從而形成具有不同掩模圖形的掩模板，用以滿足不同光刻工藝的需要，降低了液晶顯示裝置中陣列基板和彩膜基板制備工藝的開發成本，縮短了開發和制作所需時間。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發明實施例的子掩模板的結構示意圖之一；

圖2為本發明實施例的子掩模板的結構示意圖之二；

圖3為本發明實施例的子掩模板的結構示意圖之三；

圖4為本發明實施例的子掩模板的結構示意圖之四；

圖5為本發明實施例的掩模板的結構示意圖之一；

圖6為本發明實施例的掩模板的結構示意圖之二；

圖7為本發明實施例的掩模板的結構示意圖之三；

圖8為本發明實施例的掩模板的結構示意圖之四；

圖9為本發明實施例的掩模板的結構示意圖之五；

圖10為本發明實施例的掩模板制備方法的流程示意圖。

具體實施方式

本發明的實施例提供一種掩模板以及掩模板的制備方法，該掩模板的掩模圖形可調，因此掩模板可重復利用，節約了掩模板的制備成本。