[發明專利]一種粒子發射方法和裝置

有效

• 申請號: 201310206872.9
• 申請日: 2013-05-29
• 公開（公告）號: CN103310476B
• 公開（公告）日: 2018-12-25
• 發明（設計）人: 陳偉偉;張靜霞;徐韋
• 申請（專利權）人: 新奧特（北京）視頻技術有限公司
• 主分類號: G06T13/00
• 分類號: G06T13/00
• 代理公司: 北京潤澤恒知識產權代理有限公司 11319
• 代理人: 蘇培華

本發明提供了一種粒子發射方法和裝置。所述方法包括：接收選擇的粒子系統和針對所述粒子系統設置的發射屬性，所述發射屬性包括粒子數量N和粒子發射參數，N為正整數；創建N個粒子系統，針對每個粒子系統配置相同的粒子發射參數；所述N個粒子系統間隔預定時間逐個發射粒子，在發射粒子時，將當前發射粒子在發射方向的坐標值設置為零，將已發射粒子在發射方向的坐標位置縮減或增加預設值。本發明可以解決無法生成整齊的粒子效果圖的問題。

技術領域

本發明涉及計算機圖形學領域，特別是涉及一種粒子發射方法，以及一種粒子發射裝置。

背景技術

Reeves于1983年提出了粒子系統為模糊物體建模的方法，其基本思想是把模糊的物體看做眾多粒子組成的粒子團，粒子可以看做簡單的點。各粒子均具有自己的屬性，如顏色、形狀、大小、生存周期和速度等等，粒子的動力學性質決定了其在不同的時刻的狀態，粒子隨時間的推移而不斷變化。

粒子由粒子系統發射，一個粒子系統是由一個粒子發射器、多個粒子影響器共同構成的，即粒子系統產生粒子效果。

粒子的發射是在空間中發射的，在空間三個維度的坐標分別為X、Y和Z，觀察者從Z方向觀看粒子效果，粒子相對于觀察者的位置在前還是在后，與Z方向的坐標值相關，即Z方向呈現的是粒子發射的展示效果。

以上背景技術中存在的問題是，當粒子發射的初始位置相同時(比如點發射)，粒子發射呈現的效果卻可能是雜亂無章的，沒有一個順序的關系，無法做到粒子發射都是從最前面發射出來的，或者從后面發射出來的，也即是，按照背景技術中的粒子發射方法，無法生成整齊的粒子效果圖。

發明內容

本發明提供了一種粒子發射的方法及裝置，以解決背景技術中的粒子發射方法無法生成整齊的粒子效果圖的問題。

為了解決上述問題，本發明公開了一種粒子發射方法，包括：

接收選擇的粒子系統和針對所述粒子系統設置的發射屬性，所述發射屬性包括粒子數量N和粒子發射參數，N為正整數；

創建N個粒子系統，針對每個粒子系統配置相同的粒子發射參數；

所述N個粒子系統間隔預定時間逐個發射粒子，在發射粒子時，將當前發射粒子在發射方向的坐標值設置為零，將已發射粒子在發射方向的坐標位置縮減或增加預設值。

優選地，所述發射屬性還包括粒子整齊方式，所述粒子整齊方式包括衰減在前和衰減在后。

優選地，所述將已發射粒子在發射方向的坐標位置縮減或增加預設值的步驟包括：

當所述粒子整齊方式為衰減在前時，將已發射粒子在發射方向的坐標位置增加預設值；

當所述粒子整齊方式為衰減在后時，將已發射粒子在發射方向的坐標位置縮減預設值。

優選地，通過調用粒子系統函數針對每個粒子系統配置相同的粒子發射參數。

優選地，每個粒子系統發射一個粒子；

所述粒子系統的發射屬性還包括粒子在發射位置的X坐標值和Y坐標值、發射速度、發射角度、發射范圍。

本發明還提供了一種粒子發射裝置，包括：

屬性接收模塊，用于接收選擇的粒子系統和針對所述粒子系統設置的發射屬性，所述發射屬性包括粒子數量N和粒子發射參數，N為正整數；

系統創建模塊，用于創建N個粒子系統，針對每個粒子系統配置相同的粒子發射參數；

粒子發射模塊，用于所述N個粒子系統間隔預定時間逐個發射粒子，在發射粒子時，將當前發射粒子在發射方向的坐標值設置為零，將已發射粒子在發射方向的坐標位置縮減或增加預設值。