[發(fā)明專利]一種粒子發(fā)射方法和裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310206872.9
• 申請(qǐng)日: 2013-05-29
• 公開（公告）號(hào): CN103310476B
• 公開（公告）日: 2018-12-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳偉偉;張靜霞;徐韋
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 新奧特（北京）視頻技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G06T13/00
• 分類號(hào): G06T13/00
• 代理公司: 北京潤澤恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11319
• 代理人: 蘇培華

1.一種粒子發(fā)射方法，其特征在于，包括：

接收選擇的粒子系統(tǒng)和針對(duì)所述粒子系統(tǒng)設(shè)置的發(fā)射屬性，所述發(fā)射屬性包括粒子數(shù)量N和粒子發(fā)射參數(shù)，N為正整數(shù)；

創(chuàng)建N個(gè)粒子系統(tǒng)，針對(duì)每個(gè)粒子系統(tǒng)配置相同的粒子發(fā)射參數(shù)；

所述N個(gè)粒子系統(tǒng)間隔預(yù)定時(shí)間逐個(gè)發(fā)射粒子，在發(fā)射粒子時(shí)，將當(dāng)前發(fā)射粒子在發(fā)射方向的坐標(biāo)值設(shè)置為零，將已發(fā)射粒子在發(fā)射方向的坐標(biāo)位置縮減或增加預(yù)設(shè)值；

所述發(fā)射屬性還包括粒子整齊方式，所述粒子整齊方式包括衰減在前和衰減在后，當(dāng)所述粒子整齊方式為衰減在前時(shí)，將已發(fā)射粒子在發(fā)射方向的坐標(biāo)位置增加預(yù)設(shè)值；當(dāng)所述粒子整齊方式為衰減在后時(shí)，將已發(fā)射粒子在發(fā)射方向的坐標(biāo)位置縮減預(yù)設(shè)值。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，通過調(diào)用粒子系統(tǒng)函數(shù)針對(duì)每個(gè)粒子系統(tǒng)配置相同的粒子發(fā)射參數(shù)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，每個(gè)粒子系統(tǒng)發(fā)射一個(gè)粒子；

所述粒子系統(tǒng)的發(fā)射屬性還包括粒子在發(fā)射位置的X坐標(biāo)值和Y坐標(biāo)值、發(fā)射速度、發(fā)射角度、發(fā)射范圍。

4.一種粒子發(fā)射裝置，其特征在于，包括：

屬性接收模塊，用于接收選擇的粒子系統(tǒng)和針對(duì)所述粒子系統(tǒng)設(shè)置的發(fā)射屬性，所述發(fā)射屬性包括粒子數(shù)量N和粒子發(fā)射參數(shù)，N為正整數(shù)；

系統(tǒng)創(chuàng)建模塊，用于創(chuàng)建N個(gè)粒子系統(tǒng)，針對(duì)每個(gè)粒子系統(tǒng)配置相同的粒子發(fā)射參數(shù)；

粒子發(fā)射模塊，用于所述N個(gè)粒子系統(tǒng)間隔預(yù)定時(shí)間逐個(gè)發(fā)射粒子，在發(fā)射粒子時(shí)，將當(dāng)前發(fā)射粒子在發(fā)射方向的坐標(biāo)值設(shè)置為零，將已發(fā)射粒子在發(fā)射方向的坐標(biāo)位置縮減或增加預(yù)設(shè)值；

所述發(fā)射屬性還包括粒子整齊方式，所述粒子整齊方式包括衰減在前和衰減在后；

所述粒子發(fā)射模塊包括：

第一調(diào)整子模塊，用于當(dāng)所述粒子整齊方式為衰減在前時(shí)，將已發(fā)射粒子在發(fā)射方向的坐標(biāo)位置增加預(yù)設(shè)值；

第二調(diào)整子模塊，用于當(dāng)所述粒子整齊方式為衰減在后時(shí)，將已發(fā)射粒子在發(fā)射方向的坐標(biāo)位置縮減預(yù)設(shè)值。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于，通過調(diào)用粒子系統(tǒng)函數(shù)針對(duì)每個(gè)粒子系統(tǒng)配置相同的粒子發(fā)射參數(shù)。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于，每個(gè)粒子系統(tǒng)發(fā)射一個(gè)粒子；

所述粒子系統(tǒng)的發(fā)射屬性還包括粒子在發(fā)射位置的X坐標(biāo)值和Y坐標(biāo)值、發(fā)射速度、發(fā)射角度、發(fā)射范圍。