[發明專利]凹版轉印組合物及凹版轉印工藝有效

申請號：	201310201161.2	申請日：	2013-05-27
公開（公告）號：	CN103897511B	公開（公告）日：	2017-02-15
發明（設計）人：	王裕銘;謝志瑋	申請（專利權）人：	財團法人工業技術研究院
主分類號：	C09D127/06	分類號：	C09D127/06;C09D133/12;C09D133/04;C09D169/00;B41M1/10
代理公司：	中科專利商標代理有限責任公司11021	代理人：	宋焰琴
地址：	中國臺灣新竹***	國省代碼：	臺灣;71
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摘要：
搜索關鍵詞：	凹版組合工藝
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【權利要求書】：

1.一種凹版轉印組合物，包括：

7～92重量份的功能性材料；

1～76重量份的高分子材料；

4～13重量份的溶劑；以及

1～2.5重量份的助劑；

其中該組合物的表面張力介于20～40mN/m。

2.如權利要求1所述的凹版轉印組合物，其中該功能性材料包括：導電金屬粉末、絕緣粉末或蝕刻膏體。

3.如權利要求1所述的凹版轉印組合物，其中該高分子材料的表面能介于15～50mN/m。

4.如權利要求1所述的凹版轉印組合物，其中該高分子材料包括：聚氯乙烯(polyvinylchloride；PVC)、聚甲基丙烯酸甲酯(poly?methyl?methacrylate；PMMA)、聚丙烯酸酯(polyacrylate)、聚碳酸酯(polycarbonate；PC)，或前述的組合。

5.如權利要求1所述的凹版轉印組合物，其中該溶劑的沸點大于250℃。

6.如權利要求1所述的凹版轉印組合物，其中該溶劑包括：二丙二醇(Dipropylene?glycol；DPG)、三乙二醇(Triethylene?glycol；TEG)、三丙二醇甲醚(Tripropylene?glycol?methyl?ether；TPGME)、四甘醇二甲醚(Tetraethylene?glycol?dimethyl?ether；TEGDME)，或前述的組合。

7.如權利要求1所述的凹版轉印組合物，其中該助劑包括：分散劑、表面張力調整劑、消泡劑，或前述的組合。

8.如權利要求7項所述的凹版轉印組合物，其中該助劑包括：含芳烷基的化合物(aralkyl-based?compound)、含聚醚改性聚二甲基的化合物(polyether?modified?polydimethyl-based?compound)，或前述的組合。

9.一種凹版轉印工藝，包括：

提供一模具，其具有一凹版圖案；

將一如權利要求1～8中任一項所述的凹版轉印組合物填入該模具的凹版圖案中；

將該模具之中的該凹版轉印組合物轉印至一轉印介質(blanket)上；以及

將該轉印介質(blanket)上的該凹版轉印組合物轉印至一基材；

其中該凹版轉印組合物經由該轉印介質(blanket)轉印至該基材的轉印率達到80％以上。

10.如權利要求9所述的凹版轉印工藝，其中該模具包括：不銹鋼、玻璃、陶瓷、銅，或前述的組合。

11.如權利要求9所述的凹版轉印工藝，其中該轉印介質(blanket)包括：聚二甲基硅氧烷(Polydimethylsiloxane；PDMS)、聚氯乙烯(polyvinylchloride；PVC)、聚碳酸酯(polycarbonate；PC)，或前述的組合。

12.如權利要求9所述的凹版轉印工藝，其中該基材包括：玻璃、聚對苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene?terephthalate；PET)，或前述的組合。

13.如權利要求9所述的凹版轉印工藝，其中經由該轉印介質(blanket)轉印至該基材的圖案具有50微米以下的線寬。