[發(fā)明專利]膜制造方法及膜制造裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310200298.6
• 申請日: 2013-05-27
• 公開（公告）號: CN103572208A
• 公開（公告）日: 2014-02-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 筑后了治;牧野博之
• 申請（專利權(quán)）人: 住友重機械工業(yè)株式會社
• 主分類號: C23C14/08
• 分類號: C23C14/08;C23C14/58
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 徐殿軍

1.一種膜制造方法，其特征在于，具備：

成膜工序，在該工序中通過離子鍍法在成膜對象物上形成氧化銦膜；及

退火工序，該工序在所述成膜工序之后，對所述氧化銦膜進行退火處理，

在所述成膜工序中，將腔室內(nèi)的壓力設(shè)為0.3Pa以下，將所述成膜對象物的溫度設(shè)為100℃以下，

在所述退火工序中，在100℃以下對所述氧化銦膜進行退火處理。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的膜制造方法，其特征在于，

在所述成膜工序中，將所述腔室內(nèi)的水分分壓設(shè)為5.8×10^－4Pa以下。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的膜制造方法，其特征在于，

在所述成膜工序中，將所述腔室內(nèi)的水分分壓設(shè)為3.9×10^－4Pa以下。

4.一種膜制造裝置，其特征在于，具備：

成膜裝置，其通過離子鍍法在成膜對象物上形成氧化銦膜；及

退火裝置，其對通過所述成膜裝置形成于所述成膜對象物上的所述氧化銦膜進行退火處理，

所述成膜裝置具有：

真空腔室；

壓力維持構(gòu)件，其將成膜時的所述真空腔室內(nèi)的壓力維持在0.3Pa以下；及

溫度維持構(gòu)件，其將成膜時的所述成膜對象物的溫度維持在100℃以下，

所述退火裝置具有在100℃以下對所述氧化銦膜進行加熱的退火爐。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的膜制造裝置，其特征在于，

所述成膜裝置具有將成膜時的所述腔室內(nèi)的水分分壓維持在5.8×10^－4Pa以下的水分分壓維持構(gòu)件。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的膜制造裝置，其特征在于，

所述水分分壓維持構(gòu)件將成膜時的所述腔室內(nèi)的水分分壓維持在3.9×10^－4Pa以下。