[發明專利]拉晶爐四循環水冷卻系統在審
| 申請號: | 201310198078.4 | 申請日: | 2013-05-26 |
| 公開(公告)號: | CN103276442A | 公開(公告)日: | 2013-09-04 |
| 發明(設計)人: | 徐靂 | 申請(專利權)人: | 哈爾濱晶石光電技術有限公司 |
| 主分類號: | C30B15/00 | 分類號: | C30B15/00;C30B35/00 |
| 代理公司: | 哈爾濱東方專利事務所 23118 | 代理人: | 陳曉光 |
| 地址: | 150070 黑龍江省哈*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 拉晶爐四 循環 水冷 系統 | ||
技術領域:
本發明涉及一種拉晶爐四循環水冷卻系統。
背景技術:
拉晶爐是加工藍寶石的主要工具,寶石的提煉要經過超過1000℃的高溫,整個高溫過程要長達幾十小時,所以對于生長室的所有加熱部件和電阻直流加熱系統的一些熱穩定性來說,水冷卻是必須的。循環冷卻系統通常鍋爐采用一個冷卻箱,在加熱過程中,由于受熱部分單一,而且回流的面積比較局限,液體流動時,只有少部分腔體的液體在循環,從而導致散熱不完全。
水冷系統中的水溫與流量對藍寶石的加工是有很大的影響的,水溫最好能夠恒溫(水溫的控制比較難),恒流量(流量的控制設置需要流量計),水溫主要是控制熱場的梯度,梯度在某個水溫、某個流量(流量實際也是單位時間帶走熱量的快慢)調整好后,如果以上兩個量變化了肯定影響熱場的梯度,影響晶棒的成型和引起晶棒變形。
水冷系統的正常運轉是十分重要的,必須隨時保持個冷卻部位的水路暢通,不得堵塞。當水溫過高時,特別是主爐水溫過高或者局面因水垢堵塞造成水溫過高,都會影響成晶率,甚至造成更大的損失,必須及時排除。
發明內容:
本發明的目的是提供一種拉晶爐四循環水冷卻系統。
上述的目的通過以下的技術方案實現:
一種拉晶爐四循環水冷卻系統,其組成包括:?內膽壁,所述的內膽壁與外殼之間形成循環水空腔,在所述的循環水空腔中,圍繞所述的內膽壁均勻設置4個分水隔板,由所述的內膽壁、外殼、分水隔板形成四個分水槽,所述的分水槽的下端設置有進水管,所述的分水槽的上端設置有出水管。
所述的拉晶爐四循環水冷卻系統,所述的四個分水槽與橫隔板連接,所述的橫隔板、內膽壁、外殼形成底水槽,所述的底水槽的底端設置有總進水管,所述的底水槽的上端設置有總出水管,所述的內膽壁、外殼上設置有側法蘭,所述的內膽壁、外殼的上部安裝有法蘭。
拉晶爐四循環水冷卻系統,循環使用軟化水,冷卻水采用下進上出的方式,充滿整個冷卻部位,總水進來后,分配到幾個分水器,在分支流入冷卻部位,最后流入回水匯流器,集中進入總回水,回到循環水池;
為了保護生長室內的所有加熱部件和電阻直流加熱系統的一些部件的熱穩定性,此循環系統在生長室部件上的水套上配有流量控制器(在入口處)和溫度傳感器(在出口出),從而很好的控制循環系統中的水溫,保證晶體正常形成;并用可拆卸的管子接頭進行供排水,在緊急情況下能快速拆除水管水管用多層強化橡膠制成,短期加熱達到160℃,過壓達到10Bar,為了防止水被固體顆粒污染,還在每個水管的入口處安裝細過濾器,以保護流量控制器,這樣進入水套的水溫就是穩定的,在15℃——20℃,且在生長過程中不發生變化;
該冷卻系統采用自動模式檢測,使用了一下反饋耦合信號:
①通過流量控制器WFM1——WFM9在想控制水流量;
②通過溫度傳感器WL1——WL9水套溫度控制信號;
③通過流量控制器WFM1——WFM9的設定點標準化信號。
有益效果:
1.本發明采用多循環水冷卻,能減少循環面積,有效地提高冷卻效果,循環速度快,冷卻效果顯著,既能滿足拉晶爐高溫冷卻降溫的工作特定條件,又使循環水資源得到充分利用。
2.?本發明工作時,循環使用軟化水,即防止水垢又降低了成本,是個好辦法,冷卻水采用下進上出的方式,這樣可以充滿整個冷卻部位,總水進來后,分配到幾個分水器,在分支流入各個冷卻部位,最后流入回水匯流器,集中進入總回水,回到循環水池。
3.本發明把整個爐體分為四部分,防止散熱不完全,從而避免局部過熱現象,提高拉晶爐的使用壽命。
附圖說明:
附圖1是本發明的主剖視圖。圖中,1為內膽壁,2為外殼,?4為分水槽,5為進水管,6為出水管,7為橫隔板,8為底水槽,?9為總進水管,10為總出水管,11為側法蘭,12為上法蘭。
附圖2是附圖1的俯視圖。圖中,3為分水隔板。
具體實施方式:
實施例1:
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