[發(fā)明專利]釤摻雜氟鈹磷酸鹽的發(fā)光薄膜及其制備方法和電致發(fā)光器件無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310196684.2 | 申請(qǐng)日: | 2013-05-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104178154A | 公開(公告)日: | 2014-12-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 周明杰;陳吉星;王平;張娟娟 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技術(shù)有限公司;深圳市海洋王照明工程有限公司 |
| 主分類號(hào): | C09K11/72 | 分類號(hào): | C09K11/72;C09K11/73;H01L33/50 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝傳鑫;熊永強(qiáng) |
| 地址: | 518000 廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 摻雜 磷酸鹽 發(fā)光 薄膜 及其 制備 方法 電致發(fā)光 器件 | ||
1.一種釤摻雜氟鈹磷酸鹽的發(fā)光薄膜,其特征在于,其化學(xué)通式為:BeMe4(PO4)3F:xSm3+;其中,BeMe4(PO4)3F是基質(zhì),Sm3+是激活光離子,為發(fā)光薄膜的發(fā)光中心,Me選自Mg,Ca,Sr或Ba元素,x的取值范圍為0.01~0.05。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的釤摻雜氟鈹磷酸鹽的發(fā)光薄膜,其特征在于,x的取值為0.02。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的釤摻雜氟鈹磷酸鹽的發(fā)光薄膜,其特征在于,包括下述化學(xué)式的發(fā)光薄膜:
BeMg4(PO4)3F:0.01Sm3+;BeMg4(PO4)3F:0.02Sm3+;BeMg4(PO4)3F:0.05Sm3+;BeCa4(PO4)3F:0.02Sm3+;BeCa4(PO4)3F:0.01Sm3+;BeCa4(PO4)3F:0.05Sm3+;BeCa4(PO4)3F:0.05Sm3+;BeSr4(PO4)3F:0.02Sm3+;BeSr4(PO4)3F:0.01Sm3+;BeSr4(PO4)3F:0.05Sm3+;BeBa4(PO4)3F:0.01Sm3+;BeBa4(PO4)3F:0.05Sm3+。
4.一種釤摻雜氟鈹磷酸鹽的發(fā)光薄膜的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
陶瓷靶材的制備:分別選用純度為99.99%的MeO,BeF2,P2O5和Sm2O3粉體,均勻混合后,在900~1300℃下燒結(jié),制得陶瓷靶材,其中,MeO,BeF2,P2O5和Sm2O3的摩爾比為8:2:3:x;
將制得的陶瓷靶材和ITO玻璃襯底裝入鍍膜設(shè)備的腔體中,密封腔體后,對(duì)腔體進(jìn)行抽真空處理,控制腔體真空度為1.0×10-3Pa~1.0×10-5Pa;
設(shè)置鍍膜工藝參數(shù):設(shè)置基靶間距為45~95mm,襯底溫度為250℃~750℃,鍍膜激光的能量為80~300W,過程中通入流量為10~40sccm的氧氣,工作壓強(qiáng)為0.5~5Pa;待工藝參數(shù)設(shè)置完成后,進(jìn)行鍍膜處理;隨后在ITO玻璃襯底的ITO層表面制得釤摻雜氟鈹磷酸鹽的發(fā)光薄膜,該發(fā)光薄膜的其化學(xué)通式為:BeMe4(PO4)3F:xSm3+;其中,BeMe4(PO4)3F是基質(zhì),Sm3+是激活光離子,為發(fā)光薄膜的發(fā)光中心,Me選自Mg,Ca,Sr或Ba元素,x的取值范圍為0.01~0.05。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的釤摻雜氟鈹磷酸鹽的發(fā)光薄膜的制備方法,其特征在于,所述陶瓷靶材制備過程中的燒結(jié)溫度為1250℃。
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