[發(fā)明專利]用于測試沉積過程的掩膜組件、沉積裝置和測試方法

有效

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• 申請日: 2013-05-21
• 公開（公告）號: CN103668046B
• 公開（公告）日: 2017-05-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 金珉鎬;車裕敏;樸錫煥
• 申請（專利權(quán)）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: C23C14/02
• 分類號: C23C14/02;C23C14/00
• 代理公司: 北京德琦知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11018
• 代理人: 張紅霞,周艷玲

1.一種用于測試沉積過程的掩膜組件，包括：

支撐構(gòu)件，具有被構(gòu)造為允許沉積材料經(jīng)過的第一開口，所述支撐構(gòu)件支撐基底基板，所經(jīng)過的沉積材料在所述支撐構(gòu)件沿第一方向移動的同時被沉積在所述基底基板上；

遮擋構(gòu)件，被容納在所述支撐構(gòu)件中，并且具有比所述第一開口小的第二開口；和

驅(qū)動構(gòu)件，被構(gòu)造為響應(yīng)所述支撐構(gòu)件的移動而旋轉(zhuǎn)，并使所述遮擋構(gòu)件響應(yīng)所述驅(qū)動構(gòu)件的旋轉(zhuǎn)而相對于所述基底基板移動，

其中，所述基底基板相對于所述支撐構(gòu)件不移動。

2.如權(quán)利要求1所述的掩膜組件，其中所述支撐構(gòu)件包括：

具有所述第一開口的底部部分；和

從所述底部部分彎曲以便支撐所述基底基板的側(cè)壁。

3.如權(quán)利要求2所述的掩膜組件，其中所述遮擋構(gòu)件被構(gòu)造為根據(jù)所述掩膜組件的移動沿與所述第一方向相反的方向相對于所述基底基板移動。

4.如權(quán)利要求3所述的掩膜組件，其中所述第二開口沿與所述第一方向基本垂直的第二方向延伸。

5.如權(quán)利要求2所述的掩膜組件，其中所述遮擋構(gòu)件具有比所述第一開口大的面積，并且位于所述底部部分上。

6.如權(quán)利要求2所述的掩膜組件，進(jìn)一步包括：

位于所述底部部分上的軌道單元；和

聯(lián)接單元，被聯(lián)接到所述遮擋構(gòu)件并且被插入所述軌道單元中，以便允許所述遮擋構(gòu)件沿所述軌道單元移動。

7.如權(quán)利要求1所述的掩膜組件，其中

所述驅(qū)動構(gòu)件被構(gòu)造為根據(jù)所述掩膜組件的移動而旋轉(zhuǎn)，并且

所述遮擋構(gòu)件被構(gòu)造為根據(jù)所述驅(qū)動構(gòu)件的旋轉(zhuǎn)而移動。

8.如權(quán)利要求7所述的掩膜組件，其中所述驅(qū)動構(gòu)件包括被構(gòu)造為因摩擦力而旋轉(zhuǎn)的第一小齒輪。

9.如權(quán)利要求8所述的掩膜組件，其中所述驅(qū)動構(gòu)件進(jìn)一步包括第二小齒輪，該第二小齒輪被構(gòu)造為從所述第一小齒輪接收動力并且接觸所述遮擋構(gòu)件的側(cè)表面。

10.如權(quán)利要求9所述的掩膜組件，其中所述遮擋構(gòu)件包括鋸齒，該鋸齒在所述遮擋構(gòu)件的所述側(cè)表面上并且被構(gòu)造為嚙合所述第二小齒輪的鋸齒。

11.如權(quán)利要求7所述的掩膜組件，其中所述驅(qū)動構(gòu)件包括交替設(shè)置的N極部分和S極部分，并且被構(gòu)造為因磁力而旋轉(zhuǎn)。

12.一種用于測試沉積過程的掩膜組件，包括：

支撐構(gòu)件，具有被構(gòu)造為允許沉積材料經(jīng)過的第一開口，同時支撐基底基板，所經(jīng)過的沉積材料在所述支撐構(gòu)件移動的同時被沉積在所述基底基板上；

遮擋構(gòu)件，被容納在所述支撐構(gòu)件中，并且包括具有比所述第一開口小的第二開口的可旋轉(zhuǎn)構(gòu)件；和

驅(qū)動構(gòu)件，被構(gòu)造為根據(jù)所述支撐構(gòu)件的移動來旋轉(zhuǎn)所述可旋轉(zhuǎn)構(gòu)件，以便改變所述第二開口相對于所述基底基板的位置。

13.如權(quán)利要求12所述的掩膜組件，其中所述支撐構(gòu)件包括：

具有所述第一開口的底部部分；和

從所述底部部分彎曲以便支撐所述基底基板的側(cè)壁。

14.如權(quán)利要求12所述的掩膜組件，其中所述遮擋構(gòu)件進(jìn)一步包括被聯(lián)接到所述可旋轉(zhuǎn)構(gòu)件以便旋轉(zhuǎn)所述可旋轉(zhuǎn)構(gòu)件的旋轉(zhuǎn)軸。

15.如權(quán)利要求14所述的掩膜組件，其中

所述第一開口包括左第一開口和右第一開口，并且

所述遮擋構(gòu)件包括與所述左第一開口重疊的左遮擋構(gòu)件和與所述右第一開口重疊的右遮擋構(gòu)件。

16.如權(quán)利要求15所述的掩膜組件，其中

所述驅(qū)動構(gòu)件包括第一驅(qū)動構(gòu)件和第二驅(qū)動構(gòu)件，所述第一驅(qū)動構(gòu)件被構(gòu)造為沿第一方向旋轉(zhuǎn)，所述第二驅(qū)動構(gòu)件被構(gòu)造為根據(jù)所述支撐構(gòu)件的移動沿與所述第一方向相反的第二方向旋轉(zhuǎn)，

所述左遮擋構(gòu)件的可旋轉(zhuǎn)構(gòu)件的第二開口相對于所述基底基板的位置被構(gòu)造為因所述第一驅(qū)動構(gòu)件的旋轉(zhuǎn)而改變，并且

所述右遮擋構(gòu)件的可旋轉(zhuǎn)構(gòu)件的第二開口相對于所述基底基板的位置被構(gòu)造為因所述第二驅(qū)動構(gòu)件的旋轉(zhuǎn)而改變。

17.如權(quán)利要求16所述的掩膜組件，其中所述第一驅(qū)動構(gòu)件和所述第二驅(qū)動構(gòu)件中的每個驅(qū)動構(gòu)件包括被構(gòu)造為因摩擦力而旋轉(zhuǎn)的第一小齒輪。