[發明專利]曝光機曝光能量的校正方法及應用其的曝光方法無效
| 申請號： | 201310184852.6 | 申請日： | 2013-05-17 |
| 公開（公告）號： | CN104166314A | 公開（公告）日： | 2014-11-26 |
| 發明（設計）人： | 張鴻明 | 申請（專利權）人： | 川寶科技股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市浩天知識產權代理事務所 11276 | 代理人： | 宋菲;劉云貴 |
| 地址： | 中國臺*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 曝光 能量 校正 方法 應用 | ||
1.一種曝光機曝光能量的校正方法，其特征在于，該曝光機具有多個供電裝置、多個曝光裝置及一承載臺，這些供電裝置分別與這些曝光裝置電連接，該曝光機曝光能量的校正方法包含下列步驟：
A.提供一處理單元及多個光能量感測單元于該曝光機，這些供電裝置及這些光能量感測單元電連接該處理單元；
B.使這些曝光裝置分別與這些光能量感測單元相對，并使這些曝光裝置分別對這些光能量感測單元投光；
C.使該處理單元記錄這些曝光裝置的投光能量，并計算出這些投光能量的最小值；以及
D.使該處理單元調整這些供電裝置的供電量，以使這些曝光裝置的投光能量的校正值相等且小于或等于該最小值。
2.如權利要求1所述的曝光機曝光能量的校正方法，其特征在于，這些光能量感測單元設置于該承載臺。
3.如權利要求1所述的曝光機曝光能量的校正方法，其特征在于，這些光能量感測單元分別為紫外線傳感器。
4.一種曝光機的曝光方法，其特征在于，應用如權利要求1至3中任一項所述的曝光機曝光能量的校正方法，該曝光機的曝光方法還包含下列步驟：
E.放置一感光電路板于該曝光機的承載臺上；以及
F.使這些曝光裝置與該感光電路板相對，并使這些曝光裝置依照該校正值對該感光電路板曝光。
5.如權利要求4所述的曝光機的曝光方法，其特征在于，該步驟B及該步驟F中，這些曝光裝置與這些光能量感測單元之間的距離，與這些曝光裝置與該感光電路板之間的距離相等。
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