[發明專利]沉積裝置及使用該裝置的薄膜沉積方法

有效

• 申請號: 201310183635.5
• 申請日: 2013-05-17
• 公開（公告）號: CN103805944B
• 公開（公告）日: 2017-12-26
• 發明（設計）人: 任子賢;田炳勛;李寬熙
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: C23C14/22
• 分類號: C23C14/22;C23C14/54
• 代理公司: 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司11204
• 代理人: 余朦,姚志遠

1.一種沉積裝置，包括：

沉積室，具有第一等候區域、沉積區域以及第二等候區域；

保持部件，設置在所述沉積區域中，并且用于固定基底基板；

第一組沉積源，用于從所述第一等候區域向所述沉積區域移動、并且向所述基底基板提供第一組沉積物質；以及

第二組沉積源，以所述第一組沉積源的移動方向為準與所述第一組沉積源相互面對設置，用于從所述第二等候區域向所述沉積區域移動、并且向所述基底基板提供與所述第一組沉積物質不同的第二組沉積物質，

其中，所述第一組沉積源與所述第二組沉積源相互獨立地移動。

2.根據權利要求1所述的沉積裝置，其特征在于，

按照所述第一組沉積源的移動方向設置有所述第一等候區域、所述沉積區域和所述第二等候區域。

3.根據權利要求2所述的沉積裝置，其特征在于，

所述第一組沉積源和所述第二組沉積源用于交替地向所述基底基板提供所述第一組沉積物質和所述第二組沉積物質。

4.根據權利要求2所述的沉積裝置，其特征在于，

所述第一組沉積源和所述第二組沉積源用于同時向所述基底基板提供所述第一組沉積物質和所述第二組沉積物質。

5.根據權利要求1所述的沉積裝置，其特征在于，所述第一組沉積源包括：

第一沉積噴嘴部，用于提供第一物質；以及

第二沉積噴嘴部，用于提供與所述第一物質不同的第二物質，

所述第一組沉積物質是所述第一物質和所述第二物質的混合物。

6.根據權利要求1所述的沉積裝置，其特征在于，

所述第一組沉積源在與所述移動方向相互交叉的方向上的寬度等于所述第二組沉積源在與所述移動方向交叉的方向上的寬度，

所述第一組沉積源在與所述移動方向相互交叉的方向上的寬度等于所述沉積室在與所述移動方向交叉的方向上的寬度。

7.根據權利要求1所述的沉積裝置，還包括：

第一傳輸部件，用于移動所述第一組沉積源；以及第二傳輸部件，用于移動所述第二組沉積源。

8.根據權利要求7所述的沉積裝置，所述第一傳輸部件和所述第二傳輸部件分別包括：

本體部件，用于收容對應的沉積源；以及

驅動部件，與所述本體部件連接。

9.根據權利要求7所述的沉積裝置，還包括：

第一導軌，至少從所述第一等候區域延伸至所述沉積區域，并且用于引導所述第一傳輸部件；以及

第二導軌，至少從所述第二等候區域延伸至所述沉積區域，并且用于引導所述第二傳輸部件。

10.一種薄膜沉積方法，包括：

在具有第一等候區域、設置有基底基板的沉積區域以及第二等候區域的沉積室的所述第一等候區域和所述第二等候區域分別設置第一組沉積源和第二組沉積源以使得所述第一組沉積源和所述第二組沉積源在一方向上相互面對設置；

沿著與所述一方向平行的方向從所述第一等候區域開始，所述第一組沉積源在所述沉積區域中進行往返的期間，通過排出第一組沉積物質，從而在所述基底基板上沉積第一薄膜；以及

沿著與所述一方向平行的方向從所述第二等候區域開始，所述第二組沉積源在所述沉積區域中進行往返的期間，通過排出與所述第一組沉積物質不同的第二組沉積物質，從而在所述第一薄膜上沉積第二薄膜。

11.根據權利要求10所述的薄膜沉積方法，其特征在于，所述第一組沉積源包括：

第一沉積噴嘴部，用于提供第一物質；以及

第二沉積噴嘴部，用于提供與所述第一物質不同的第二物質，

所述第一組沉積物質是所述第一物質和所述第二物質的混合物。

12.根據權利要求11所述的薄膜沉積方法，其特征在于，所述第二組沉積源包括：

第三沉積噴嘴部，用于提供第三物質；以及

第四沉積噴嘴部，用于提供與所述第三物質不同的第四物質，

所述第二組沉積物質是所述第三物質和所述第四物質的混合物。

13.根據權利要求10所述的薄膜沉積方法，其特征在于，

在沉積所述第一薄膜的步驟中，從所述第一等候區域開始，所述第一組沉積源在所述沉積區域中進行多次往返。