[發(fā)明專利]X熒光光譜儀真空分光室的殘留油污水汽的清除方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310182736.0
• 申請日: 2013-05-16
• 公開（公告）號: CN104162523A
• 公開（公告）日: 2014-11-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王平;邵星煒;鄒誠
• 申請（專利權(quán)）人: 寶山鋼鐵股份有限公司
• 主分類號: B08B7/04
• 分類號: B08B7/04
• 代理公司: 上海集信知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31254
• 代理人: 周成;肖祎

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種理化檢測裝置，具體說有關(guān)一種X熒光光譜儀的清潔方法。

背景技術(shù)

X熒光光譜儀擔負著進廠原料如鐵礦石和各類輔料的品位測試、冶煉所需的燒結(jié)礦等爐料的成分分析、進行高爐鐵水各化學元素的成分分析、各類成品板材鍍層厚度的測試，以及承擔大量科研項目中試樣的測試分析任務(wù)，因此X熒光光譜儀是現(xiàn)代冶金企業(yè)重要的理化檢測儀器設(shè)備。

X熒光光譜儀分光系統(tǒng)結(jié)構(gòu)復(fù)雜內(nèi)部形狀不規(guī)則、涉及部件多，出現(xiàn)油污水汽污染清理困難,作業(yè)效率低下針對性差，很難徹底清除，由于油污水汽殘留的存在嚴重影響了分析檢測數(shù)據(jù)的準確性。在維護時雖然能對分光系統(tǒng)內(nèi)表面可視油污水汽進行常規(guī)清理，但在之后很長的一段時間內(nèi)沉集在分光器犄角旮旯無法解體清理的油污、水汽會逐漸揮發(fā)出來，污染樣品造成分析檢測數(shù)據(jù)的異常，尤其是硫、磷、硅等元素化學含量分析受影響尤甚。分光系統(tǒng)油污清理效率低、速度慢，且清洗效果不徹底。不可能對大型精密的X射線電子光學系統(tǒng)進行分解清洗，由于缺少系統(tǒng)性和針對性的分光系統(tǒng)油污清理方法，不能有效地指導(dǎo)X熒光光譜儀分光系統(tǒng)的點檢維護作業(yè)，檢修時間長、效果差造成不必要的時間損失，造成分光室的二次污染，增加停機時間降低了儀器運行的有效運行率。

分光室內(nèi)的油污中硫、磷、硅等元素的含量較高，雖然經(jīng)過常規(guī)清理，但殘留在分光室內(nèi)的剩余油污在X射線熱輻射的作用下，揮發(fā)出來并污染進入分光室的待測樣品，由于這些污染物的干擾使硫、磷、硅等輕元素含量測量不準，如在未徹底進行分光室清理時，測量鐵水樣品誤差極大。

X熒光光譜儀分光系統(tǒng)的X射線管由于老化或其質(zhì)量缺陷會造成鈹窗破裂，引起高壓絕緣油進入分光系統(tǒng)，使光譜儀分光室和真空管道內(nèi)部污染；另外，真空系統(tǒng)中的真空泵在長期運行后，其中的真空泵油也會對真空分光室造成擴散污染。此時X熒光光譜儀就無法正常使用，因此需要對所述的污染進行清除。X射線管的最大輸出功率受陽極元素熔點和導(dǎo)熱度的限制，陽極產(chǎn)生的熱量要用流動的水進行冷卻。由于冷卻水管的劣化破裂等因素，水汽不可避免進入真空分光室而引起污染。為了防止上述故障引起X熒光光譜儀分光系統(tǒng)的污染，就需要對分光室內(nèi)表面的油污、水汽進行常規(guī)清理擦除后，還需在保證設(shè)備的完整性不進行解體的情況下，對分光室內(nèi)表面殘余的油污和水汽高效快速地予以清除。

在發(fā)明名稱為“真空管道清潔裝置及系統(tǒng)”的中國專利申請公開第CN201020210793.7號介紹了一種真空管道清潔裝置及系統(tǒng)，其中真空管道清潔裝置包括：至少二個清潔桿、至少一個毛刷頭以及牽引裝置；所述清潔桿之間以配合結(jié)構(gòu)活動連接并構(gòu)成清潔桿組；所述毛刷頭設(shè)置在至少一個清潔桿上；所述牽引裝置設(shè)置在所述清潔桿組的兩端。適用于清潔彎曲連接處較多的真空管道，用牽引裝置來回拉動清潔桿來清理真空管道。該專利申請涉及機械硬件管道清潔裝置，并不涉及X熒光光譜儀分光室內(nèi)殘留油污水汽的清除。

在發(fā)明名稱為“真空管線清潔分離系統(tǒng)”的中國專利申請公開第CN200780037472.2號介紹了一種真空管線清潔分離系統(tǒng)，其用于從真空排除物中除去液體物質(zhì)和碎屑以及提供不含污染物的真空返回,利用真空排出管線與輸入真空物流誘發(fā)的循環(huán)旋轉(zhuǎn)的氣旋分離液體和碎屑，使液體和碎屑落到底部排出到收集室，而清潔的真空流引向清潔的真空出口孔。該專利申請涉及真空管線清潔分離系統(tǒng)，也并不涉及X熒光光譜儀分光室內(nèi)殘留油污水汽的清除。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是提供一種X熒光光譜儀真空分光室的殘留油污水汽的清除方法，可高效快速地徹底清除X熒光光譜儀真空分光室內(nèi)表面殘余的油污和水汽，以避免引起X熒光光譜儀分光系統(tǒng)的污染。

本發(fā)明的一種X熒光光譜儀真空分光室的殘留油污水汽的清除方法，在對X熒光光譜儀分光室內(nèi)表面的可視油污、水汽進行清理擦除后實施，其特征在于包括以下步驟：對分光室進行加溫烘烤使殘留的油污水分揮發(fā)出來；將分子篩置入分子篩儲存盒并使分子篩儲存盒進入分光室對揮發(fā)出來的油污水分進行吸附；進行X熒光光譜儀分光室負壓脈沖氣流吹掃油污、水汽；使各分光器輪流交替真空泄漏,通過脈沖負壓吹掃氣流進行清除；以及使通過脈沖負壓吹掃氣流吹走的油氣、水汽排出，以完成分光室內(nèi)污染的徹底清除。

其中，對分光室進行加溫烘烤是開啟X射線并維持一定功率的熱輻射和分光系統(tǒng)恒溫加熱。

其中，所述分子篩儲存盒包括上蓋和容器主體，所述分子篩儲存盒的外形符合X熒光光譜儀樣品系統(tǒng)尺寸，并且分子篩儲存盒上下四周均有壓力釋放孔。

其中，在所述分子篩儲存盒的上蓋安裝有小于分子篩顆粒目數(shù)的金屬網(wǎng)罩。