[發明專利]X熒光光譜儀真空分光室的殘留油污水汽的清除方法

有效

• 申請號: 201310182736.0
• 申請日: 2013-05-16
• 公開（公告）號: CN104162523A
• 公開（公告）日: 2014-11-26
• 發明（設計）人: 王平;邵星煒;鄒誠
• 申請（專利權）人: 寶山鋼鐵股份有限公司
• 主分類號: B08B7/04
• 分類號: B08B7/04
• 代理公司: 上海集信知識產權代理有限公司 31254
• 代理人: 周成;肖祎

1.一種X熒光光譜儀真空分光室的殘留油污水汽的清除方法，在對X熒光光譜儀分光室內表面的可視油污、水汽進行清理擦除后實施，其特征在于包括以下步驟：對分光室進行加溫烘烤使殘留的油污水分揮發出來；將分子篩置入分子篩儲存盒并使分子篩儲存盒進入分光室對揮發出來的油污水分進行吸附；進行X熒光光譜儀分光室負壓脈沖氣流吹掃油污、水汽；使各分光器輪流交替真空泄漏,通過脈沖負壓吹掃氣流進行清除；以及使通過脈沖負壓吹掃氣流吹走的油氣、水汽排出，以完成分光室內污染的徹底清除。

2.根據權利要求1所述的X熒光光譜儀真空分光室的殘留油污水汽的清除方法，其特征在于，對分光室進行加溫烘烤是開啟X射線并維持所要求功率的熱輻射和分光系統恒溫加熱。

3.根據權利要求1所述的X熒光光譜儀真空分光室的殘留油污水汽的清除方法，其特征在于，所述分子篩儲存盒包括上蓋和容器主體，所述分子篩儲存盒的外形符合X熒光光譜儀樣品系統尺寸，并且分子篩儲存盒上下四周均有壓力釋放孔。

4.根據權利要求3所述的X熒光光譜儀真空分光室的殘留油污水汽的清除方法，其特征在于，在所述分子篩儲存盒的上蓋安裝有小于分子篩顆粒目數的金屬網罩。

5.根據權利要求1所述的X熒光光譜儀真空分光室的殘留油污水汽的清除方法，其特征在于，所述對揮發出來的油污水分進行吸附的步驟包括將裝有分子篩的儲存盒通過樣品搬送系統送入X熒光光譜儀樣品室進行真空預抽，以及待到真空度正常后打開分光室光閘，以使儲存盒內的分子篩對分光室中殘留的油污蒸汽和水汽分子進行有效吸附。

6.根據權利要求6所述的X熒光光譜儀真空分光室的殘留油污水汽的清除方法，其特征在于，儲存盒內的分子篩對分光室中殘留的油污蒸汽和水汽分子進行吸附后再由原路退出，以此往復完成吸附作業。

7.根據權利要求1所述的X熒光光譜儀真空分光室的殘留油污水汽的清除方法，其特征在于，在分光器的通道上加設有氣流泄漏口并加裝控制電磁閥，電磁閥通過自封閉快速接頭與分光器連接；電磁閥不通電時一直處于關閉狀態，使分光室保持真空度；進行X熒光光譜儀分光室負壓脈沖氣流吹掃油污、水汽的步驟，是在維持著高真空度的負壓狀態下；當進行分光室污染清除時，由脈沖信號發生器產生可調節的周期脈沖信號推動放大電路，產生脈沖電壓并驅動電磁閥以一定的周期頻率開閉，以形成分光室的分光器真空泄漏，以對電磁閥開通周期的調節控制形成脈沖氣流，以形成負壓脈沖氣流通道，從而形成負壓脈沖吹掃氣流。

8.根據權利要求1所述的X熒光光譜儀真空分光室的殘留油污水汽的清除方法，其特征在于，通過脈沖負壓吹掃氣流吹走的油氣、水汽是沿著真空管道排出到真空泵外面，以完成分光室內污染的清除。

9.根據權利要求1至8之任一項所述的X熒光光譜儀真空分光室的殘留油污水汽的清除方法，其特征在于，X熒光光譜儀真空分光室殘留油污水汽的清除方法的技術參數設置成：分光系統啟動恒溫加熱功能，使分光室保持35±1℃；X射線功率維持在600W,保持分光室內的熱輻射；使用納X型分子篩進行吸附；分光系統分光室內維持30±2Pa壓力的真空泄漏量；電磁閥開閉動作頻率為0.2～1Hz。