[發明專利]薄膜沉積設備以及用其沉積薄膜的方法

有效

• 申請號: 201310181188.X
• 申請日: 2013-05-16
• 公開（公告）號: CN103805941B
• 公開（公告）日: 2019-01-11
• 發明（設計）人: 韓政洹
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/54;C23C14/24;C23C14/12
• 代理公司: 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司 11204
• 代理人: 余朦;姚志遠

一種薄膜沉積設備和利用該薄膜沉積設備沉積薄膜的方法。該薄膜沉積設備包括：腔體，具有襯底和安裝在襯底上的掩模；沉積源，向襯底供應沉積氣體；以及掩模測量單元，測量腔體內的掩模的狀態。

相關申請的引用

本申請要求于2012年11月5日向韓國知識產權局提交的韓國專利申請10-2012-0124473的優先權，其全部內容通過引用并入本文。

技術領域

本公開的實施方式涉及薄膜沉積設備以及用該薄膜沉積設備沉積薄膜的方法。

背景技術

在薄膜成形（例如，有機發光二極管顯示器（OLED）的薄膜的成形）過程中，沉積技術可包括生成沉積源的蒸汽、以及將該蒸汽沉積在襯底的表面上。例如，沉積程序可包括將掩模放置在襯底上并使得來自沉積源的蒸汽通過掩模上的孔，從而在襯底上形成具有期望圖案的薄膜。

發明內容

本發明的實施方式提供一種具有改進結構以直接且快速地檢測掩模上出現的缺陷的薄膜測量設備以及利用該薄膜測量設備沉積薄膜的方法。

根據本發明的一個實施方式，提供一種薄膜沉積設備，包括：腔體，具有襯底和安裝在襯底上的掩模；沉積源，向襯底供應沉積氣體；以及掩模測量單元，測量腔體內的掩模的狀態。

薄膜測量單元可包括單個測量裝置，以測量掩模的形狀精確度、孔尺寸、孔均勻度、污染水平以及定位精度。

掩模測量單元可包括多個測量裝置。多個測量裝置中的每一個被分配為測量掩模的形狀精確度、孔尺寸、孔均勻度、污染水平以及定位精度中的不同因素。

掩模可被分為與多個測量裝置的數量對應的多個區域。因此，多個測量裝置中的每一個可被分配多個區域中的一個區域，并針對掩模的所分配的區域測量形狀精確度、孔尺寸、孔均勻度、污染水平以及定位精度。

根據本發明另一個方面，提供一種沉積薄膜的方法，該方法包括：將襯底和掩模安裝在包括沉積源和掩模測量單元的腔體內；利用掩模測量單元測量掩模的狀態；以及根據測量結果在必要時更換掩模。

薄膜測量單元可包括單個測量裝置，以測量掩模的形狀精確度、孔尺寸、孔均勻度、污染水平以及定位精度。

掩模測量單元可包括多個測量裝置。多個測量裝置中的每一個測量被分配給其的形狀精確度、孔尺寸、孔均勻度、污染水平以及定位精度中的不同因素。

所述掩模被分為與多個測量裝置的數量對應的多個區域。因此，多個測量裝置中的每一個可被分配多個區域中的一個區域，并針對掩模的所分配的區域測量形狀精確度、孔尺寸、孔均勻度、污染水平以及定位精度。

根據本發明的實施方式的薄膜沉積設備以及利用該薄膜沉積設備沉積薄膜的方法能夠提前且直接測量掩模上的缺陷，因而促使有缺陷的掩模的更換。因此，可減少之后發生的缺陷，并可顯著提高生產效率。

附圖說明

通過參照附圖詳細描述示例性實施方式，特征對本領域技術人員將更加顯而易見，在附圖中：

圖1A和圖1B示出了根據實施方式的薄膜沉積設備的構造；

圖2A和圖2B示出了根據另一個實施方式的薄膜沉積設備的構造；

圖3A和圖3B示出了根據另一個實施方式的薄膜沉積設備的構造。

具體實施方式

以下將參照附圖詳細描述實施方式。

首先，參照圖1A和圖1B描述根據實施方式的薄膜沉積設備100。