[發明專利]一種鋅陽極氧化膜層的制備方法

有效

• 申請號: 201310180558.8
• 申請日: 2013-05-16
• 公開（公告）號: CN103243371A
• 公開（公告）日: 2013-08-14
• 發明（設計）人: 林志峰;李相波;許立坤
• 申請（專利權）人: 中國船舶重工集團公司第七二五研究所
• 主分類號: C25D11/34
• 分類號: C25D11/34
• 代理公司: 青島高曉專利事務所 37104
• 代理人: 張世功

1.一種鋅陽極氧化膜層的制備方法，其特征在于包括基體處理、電解液配制和膜層制備三個步驟，其具體工藝步驟為：

（1）、基體處理：選用純度大于99.9%的鋅片或帶有鋅涂層的碳鋼作為基體，先將基體用1200目SiC砂紙進行打磨，然后依次用丙酮、乙醇和去離子水超聲清洗基體表面5min后用密封膠封裝，形成工作面積為邊長5mm的正方形基體鋅面；

（2）、電解液配制：將氯化鈰、鹽酸、硼酸和檸檬酸加入蒸餾水中充分攪拌至固體物質全部溶解后再加入正硅酸乙酯，在40～50°C溫度下用常規的磁力攪拌器在200轉/分的攪速下攪拌5min使各種物質充分溶解，得到配制好的電解液，其中氯化鈰的濃度為0.01～0.05mol/L，正硅酸乙酯的濃度為0.001～0.003mol/L，鹽酸的濃度為0.5～2g/L，硼酸的濃度為2～4g/L，檸檬酸的濃度為1～2g/L，余者為蒸餾水；

（3）膜層制備：以處理后的基體為陽極，鉑鈮絲電極為陰極，飽和甘汞電極（SCE）為參比電極，采用常規的陽極電氧化技術在基體鋅面上沉積氧化膜層，陽極電氧化過程的電流密度為10～40mA/cm²，沉積時間為10～20min，得到鋅陽極氧化膜層。