[發明專利]三維多孔鎳薄膜的制備方法有效
| 申請號： | 201310174939.5 | 申請日： | 2013-05-13 |
| 公開（公告）號： | CN103243357A | 公開（公告）日： | 2013-08-14 |
| 發明（設計）人： | 黎學明;陳沛伶;李曉林;李武林;楊文靜 | 申請（專利權）人： | 重慶大學 |
| 主分類號： | C25D3/12 | 分類號： | C25D3/12;C25D5/00 |
| 代理公司： | 北京智匯東方知識產權代理事務所(普通合伙) 11391 | 代理人： | 張群峰;范曉斌 |
| 地址： | 400030 *** | 國省代碼： | 重慶;85 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 三維 多孔 薄膜 制備 方法 | ||
1.一種三維多孔鎳薄膜的制備方法，包括：
提供紫銅片作為陰極并提供鎳片作為陽極；
配制電鍍液，所述電鍍液中NiSO4含量為1.0～2.0mol/L，H2SO4含量為0.1～0.3mol/L，H3BO3含量為0.8～1.0mol/L，NH4Cl含量為1.0～2.0mol/L，表面活性劑總含量為0.7～1.4g/L；以及
利用所述電鍍液、所述陰極和所述陽極，采用氫氣泡動態模板電沉積法在所述紫銅片上形成三維多孔鎳薄膜。
2.權利要求1的方法，其中所述紫銅片作為陰極之前和/或所述鎳片在作為陽極之前經過相應的前處理。
3.權利要求2的方法，其中所述前處理依次包括打磨、去離子水洗、堿洗、去離子水洗、酸洗和去離子水洗。
4.權利要求3的方法，其中堿洗條件為：洗滌溶液0.5～1.0mol/L?Na2CO3；浸泡時間5～10min；以及溶液溫度范圍10～35℃；以及
酸洗條件為：洗滌溶液0.5～1.0mol/L?HCl；浸泡時間5～10min；溶液溫度范圍10～35℃。
5.權利要求1的方法，其中在電沉積過程中不對電鍍液采取任何攪拌措施。
6.權利要求1的方法，還包括對三維多孔鎳薄膜進行后處理，即用去離子水對其清洗3～5次，然后用保護性氣體吹干保存。
7.權利要求1的方法，其中所述表面活性劑為十二烷基硫酸鈉、十二烷基磺酸鈉、丁炔二醇中的任意兩種之組合。
8.權利要求1的方法，其中電沉積條件為：時間20～40s；電流密度3.0～6.0A/cm2；以及鍍液溫度為25±5℃。
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