[發(fā)明專(zhuān)利]一種Al-Cu-N耐磨硬質(zhì)涂層及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310174222.0 | 申請(qǐng)日: | 2013-05-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104141107A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-11-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃峰;郭軍;李艷玲;孟凡平 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C14/06 | 分類(lèi)號(hào): | C23C14/06;C23C14/35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 al cu 耐磨 硬質(zhì) 涂層 及其 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及耐磨涂層及其制備領(lǐng)域,具體涉及一種Al-Cu-N耐磨硬質(zhì)涂層及其制備方法。
背景技術(shù)
摩擦是我們經(jīng)常遇到的現(xiàn)象,世界上有三分之一到二分之一的能源被摩擦消耗掉,而且損壞機(jī)器和工程結(jié)構(gòu),降低工作效率。在機(jī)器及器件的表面涂覆耐磨涂層已成為降低摩擦損耗的一種有效途徑。至今,尋找和研制耐磨涂層一直是材料技術(shù)專(zhuān)家的一項(xiàng)重要任務(wù)。
研究人員發(fā)現(xiàn)通過(guò)向金屬氮化物(例如:CrN、TiN、AlN等)中摻雜適當(dāng)量的金屬元素(例如:Ni、Ag、Cu等),制備得到硬質(zhì)相/軟質(zhì)相納米復(fù)合涂層,涂層的硬度、耐磨性和韌性等力學(xué)性能得到不同程度的改善。常見(jiàn)的過(guò)渡金屬氮化物、碳化物、硼化物等涂層具有高的硬度,但韌性相對(duì)較低。金屬具有較好的塑性和韌性,但硬度較低。
塊體AlN的硬度只有12GPa左右,傳統(tǒng)上不用作耐磨涂層。但是,在AlN加入適量的金屬相,可以提高AlN涂層的綜合性能,已有的研究主要集中于提高涂層的硬度上。如J.Musil等人在573K,直流偏壓為-100V的條件下制備了Al-Cu-N涂層,當(dāng)PN2小于0.09Pa時(shí),涂層由Al2Cu和AlN相構(gòu)成,而當(dāng)P增加到0.12Pa或更高時(shí),形成的是非晶態(tài)的涂層,涂層硬度降低。
通過(guò)對(duì)文獻(xiàn)作進(jìn)一步的檢索和分析,還沒(méi)有發(fā)現(xiàn)磨損率低于4.0×10-16m3/Nm納米復(fù)合結(jié)構(gòu)的Al-Cu-N耐磨硬質(zhì)涂層。
申請(qǐng)公布號(hào)為CN102534493A的中國(guó)發(fā)明專(zhuān)利申請(qǐng)公開(kāi)了一種納米復(fù)合結(jié)構(gòu)的V-Al-N硬質(zhì)涂層及其制備方法,其中,納米復(fù)合結(jié)構(gòu)的V-Al-N硬質(zhì)涂層包括晶體結(jié)構(gòu)的AlN連續(xù)相和若干個(gè)VN晶體顆粒,各個(gè)VN晶體顆粒由晶體結(jié)構(gòu)的AlN連續(xù)相包裹,VN晶體顆粒與晶體結(jié)構(gòu)的AlN連續(xù)相形成共格界面,其成分表示為(V1-xAlx)N,其中,1-x為0.41~0.6,x為0.4~0.59,。該納米復(fù)合結(jié)構(gòu)的V-Al-N硬質(zhì)涂層制備:采用磁控濺射技術(shù),通過(guò)直流陰極濺射金屬V,中頻陰極上濺射Al,并與真空室中N2氣反應(yīng)生成納米復(fù)合結(jié)構(gòu)的V-Al-N硬質(zhì)涂層。但是該納米復(fù)合結(jié)構(gòu)的V-Al-N硬質(zhì)涂層的硬度和摩擦性能需要進(jìn)一步提高。
發(fā)明內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有技術(shù)存在的不足,本發(fā)明提供了一種Al-Cu-N耐磨硬質(zhì)涂層,耐磨性好。
一種Al-Cu-N耐磨硬質(zhì)涂層,由AlN晶體相和Cu晶體相組成,其中,Cu晶體相分散在AlN晶體中,Cu晶體相和AlN晶體相之間的界面以Cu-Al鍵鍵合;
所述的Al-Cu-N耐磨硬質(zhì)涂層中各元素的原子百分含量如下:
Al和N??????74.6%~89%;
Cu?????????11%~25.4%;
其中,Al和N的原子比為0.9~1:1。
當(dāng)Cu的原子百分含量低于11%時(shí),涂層中,Cu以非晶態(tài)存在,在使用過(guò)程中,由于溫度的升高非晶態(tài)的Cu會(huì)發(fā)生結(jié)晶化過(guò)程,因此,影響涂層的穩(wěn)定,Al-Cu-N耐磨硬質(zhì)涂層的耐磨性能不佳,當(dāng)Cu的原子百分含量高于25.4%時(shí),涂層的硬度大幅度降低,影響涂層的耐磨損性能,當(dāng)Cu的原子百分含量為11.0%~25.4%時(shí),Al和N的原子比為0.9~1:1,本發(fā)明Al-Cu-N耐磨硬質(zhì)涂層具有高耐磨性。
作為優(yōu)選,所述的Al-Cu-N耐磨硬質(zhì)涂層中各元素的原子百分含量如下:
Al和N??????80%~89%;
Cu?????????11%~20%。
Cu的原子百分含量控制在11%~20%,在該原子百分含量下形成的Al-Cu-N耐磨硬質(zhì)涂層,其缺陷性減少,降低了Al-Cu-N耐磨硬質(zhì)涂層的內(nèi)應(yīng)力,提高了Al-Cu-N耐磨硬質(zhì)涂層的硬度。
進(jìn)一步優(yōu)選,所述的Al-Cu-N耐磨硬質(zhì)涂層中各元素的原子百分含量如下:
Al和N??????82.1%~85.3%;
Cu?????????14.7%~17.9%;
其中,Al和N的原子比為1:1。
根據(jù)實(shí)施例2、3、6、7、12制備的Al-Cu-N耐磨硬質(zhì)涂層可知,該條件下的Al-Cu-N耐磨硬質(zhì)涂層具有非常優(yōu)異的耐磨損性能,并具有良好的硬度。
更一步優(yōu)選,所述的Al-Cu-N耐磨硬質(zhì)涂層中各元素的原子百分含量如下:
Al?????????41.15%;
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





