[發明專利]描畫裝置及描畫方法

有效

• 申請號: 201310174088.4
• 申請日: 2013-05-13
• 公開（公告）號: CN103698980A
• 公開（公告）日: 2014-04-02
• 發明（設計）人: 本莊由宜;上里誠
• 申請（專利權）人: 大日本網屏制造株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 樸海今;向勇

技術領域

本發明涉及一種對半導體基板、印刷基板、液晶顯示裝置等所具備的彩色濾光片用基板、液晶顯示裝置或等離子顯示裝置等所具備的平板顯示器用玻璃基板、磁盤用基板、光盤用基板、太陽能電池板等的各種基板等（下面，簡稱為“基板”）照射光，來在基板上描畫圖案的技術。

背景技術

近年來，如下的曝光裝置（所謂的描畫裝置）受到關注：當在涂敷在基板上的感光材料上曝光電路等的圖案時，不用掩膜等，而是利用調制的光（描畫光）對基板上的感光材料進行掃描，由此直接在該感光材料上曝光圖案，其中，上述調制的光是基于記錄了圖案的數據而調制的。描畫裝置從例如具有用于以像素為單位對光束進行打開/關閉（ON/OFF）調制的空間光調制器（例如，根據控制信號，以像素為單位在打開（ON）狀態和關閉（OFF）狀態之間進行切換的反射型的空間調制器，其中，打開（ON）狀態是指，將從光源供給的光束反射到基板上的狀態，關閉（OFF）狀態是指，使光束向與打開（ON）狀態不同的方向反射的狀態）的光學頭，對與光學頭相對地移動的基板照射描畫光，來在基板曝光（描畫）圖案（例如，參照專利文獻1）。

在描畫裝置中，光學頭例如一邊照射剖面呈帶狀的描畫光，一邊相對于基板沿著與描畫光的長度方向垂直的軸（主掃描軸）移動（主掃描）。通過進行該主掃描，來對基板上的沿著主掃描軸的一條帶狀區域進行圖案的曝光。當伴隨描畫光的照射的主掃描結束時，接著，光學頭在相對于基板沿著與主掃描軸垂直的副掃描軸移動之后，再次進行伴隨描畫光的照射的主掃描。由此，對與通過之前的主掃描曝光了圖案的帶狀區域相鄰的帶狀區域進行圖案的曝光。像這樣，通過間隔副掃描，反復地進行伴隨描畫光的照射的主掃描，來在基板的整個區域曝光圖案。

在通過上述的方式在基板上曝光圖案的情況下，存在在帶狀區域之間的邊界部分容易產生曝光不均勻的問題。邊界部分的曝光不均勻還會導致邊界部分的圖案的不連續性（例如，圖案的間斷、太粗、太細）等。這種圖案的不連續性可能會對成品的電氣特性（通電特性）造成不良的影響。

因此，在例如專利文獻2中，將副掃描的移動距離設定為比從光學頭射出的帶狀的光的長度短，使帶狀區域的邊界部分處于重合的狀態。根據這種結構，光學頭的不均等特性帶來的影響互相疊加而變得均衡，所以能夠緩解帶狀區域之間的邊界部分的曝光不均勻。

[現有技術文獻]

[專利文獻]

專利文獻1：日本特開2009-237917號公報

專利文獻2：日本特開2008-129248號公報

若應用專利文獻2等，則在某種程度上能夠緩解帶狀區域之間的邊界部分的曝光不均勻。然而，帶狀區域之間的邊界部分的曝光不均勻的出現方式根據處理條件不同而有很大的變化。

即，由于邊界部分為在不同時間點被照射光的區域彼此接近的（或重合）區域，所以，例如，若改變感光材料的種類、光學的漫射特性等，則邊界部分的曝光不均勻的出現方式也會發生變化。另外，例如，若相對于光學頭的基板的相對移動速度變化，則對邊界部分照射光的時間差發生變化，因此，該曝光不均勻的出現方式也發生變化。

因此，即使在某種處理條件下，在進行適當的調整之后沒有產生邊界部分的曝光不均勻，但當處理條件稍有變化時，產生邊界部分的曝光不均勻的可能性很大。因此，若改變處理條件，則需要立即重新進行調整，但在以往，不易于進行該調整。因此，不能夠靈活地應對處理條件的變更，難以充分確保曝光的均勻性。

發明內容

本發明是鑒于上述問題而提出的，其目的在于，提供一種能夠簡單地進行用于緩解邊界部分的曝光不均勻的調整的技術。