[發(fā)明專利]描畫裝置及描畫方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310174088.4
• 申請日: 2013-05-13
• 公開（公告）號: CN103698980A
• 公開（公告）日: 2014-04-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 本莊由宜;上里誠
• 申請（專利權(quán)）人: 大日本網(wǎng)屏制造株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 隆天國際知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003
• 代理人: 樸海今;向勇

1.一種描畫裝置，其通過對形成有感光材料的基板照射光，來在所述基板上描畫圖案，其特征在于，

具有：

光學(xué)單元，其一邊射出剖面呈帶狀的描畫光，一邊相對于所述基板沿著與所述描畫光的長度方向垂直的方向移動，

調(diào)整部，其調(diào)整沿著所述描畫光的長度方向的光量分布；

所述光學(xué)單元具有：

光源部，其射出剖面呈帶狀的光，

空間光調(diào)制部，其具有排列成一列的多個調(diào)制單位，所述空間光調(diào)制部使從所述光源部射出的光入射到多個所述調(diào)制單位，并且使多個所述調(diào)制單位對入射的所述光進(jìn)行調(diào)制，以形成所述描畫光，其中，從所述光源部射出的光的長度方向與多個所述調(diào)制單位的排列方向一致；

所述調(diào)整部具有：

接受部，其接受從多個形狀類型候補(bǔ)中選擇射出率函數(shù)的形狀類型的選擇操作，其中，所述射出率函數(shù)是規(guī)定所述調(diào)制單位在排列方向上的位置與射出率之間的關(guān)系的函數(shù)，所述射出率是射出光量與入射到所述調(diào)制單位的入射光量的比，

射出率調(diào)整部，其根據(jù)所述接受部接受的形狀類型，對多個所述調(diào)制單位中的各個調(diào)制單位的所述射出率進(jìn)行調(diào)整。

2.如權(quán)利要求1所述的描畫裝置，其特征在于，

多個所述形狀類型候補(bǔ)包括階梯型，

所述階梯型包括所述射出率恒定的中央部分和與所述中央部分相連且所述射出率呈階梯狀地變化的變化部分。

3.如權(quán)利要求2所述的描畫裝置，其特征在于，

在選擇了所述階梯型的情況下，所述接受部接受對所述變化部分的寬度進(jìn)行的指定。

4.如權(quán)利要求2或3所述的描畫裝置，其特征在于，

在選擇了所述階梯型的情況下，所述接受部接受對所述變化部分的所述射出率進(jìn)行的指定。

5.如權(quán)利要求1～3中任一項所述的描畫裝置，其特征在于，

多個所述形狀類型候補(bǔ)包括梯形型，

所述梯形型包括所述射出率恒定的中央部分和與所述中央部分相連且所述射出率呈傾斜狀地變化的變化部分。

6.如權(quán)利要求5所述的描畫裝置，其特征在于，

在選擇了所述梯形型的情況下，所述接受部接受對所述變化部分內(nèi)的一個以上代表位置的各自的所述射出率進(jìn)行的指定。

7.如權(quán)利要求1～3中任一項所述的描畫裝置，其特征在于，

所述接受部在顯示裝置上顯示接受畫面，并且通過所述接受畫面來接受所述選擇操作，其中，在所述接受畫面上一覽顯示了多個所述形狀類型候補(bǔ)。

8.如權(quán)利要求1～3中任一項所述的描畫裝置，其特征在于，

所述調(diào)整部還具有登記部，所述登記部與在所述基板上描畫圖案的處理的處理條件相對應(yīng)地登記所述接受部所接受的信息。

9.一種描畫方法，通過對形成有感光材料的基板照射光，來在所述基板上描畫圖案，其特征在于，

包括：

（a）工序，一邊從光學(xué)單元射出剖面呈帶狀的描畫光，一邊使所述光學(xué)單元相對于所述基板沿著與所述描畫光的長度方向垂直的方向移動，

（b）工序，調(diào)整沿著所述描畫光的長度方向的光量分布；

所述（a）工序包括：

（a1）工序，從光源部射出剖面呈帶狀的光，

（a2）工序，使從所述光源部射出的光入射到多個所述調(diào)制單位，并且使多個所述調(diào)制單位對入射的所述光進(jìn)行調(diào)制，以形成所述描畫光，其中，從所述光源部射出的光的長度方向與排列成一列的多個調(diào)制單位的排列方向一致；

所述（b）工序包括：

（b1）工序，接受從多個形狀類型候補(bǔ)中選擇射出率函數(shù)的形狀類型的選擇操作，其中，所述射出率函數(shù)是規(guī)定所述調(diào)制單位在排列方向上的位置與射出率之間的關(guān)系的函數(shù)，所述射出率是射出光量與入射到所述調(diào)制單位的入射光量的比，

（b2）工序，按照在所述（b1）工序所接受的形狀類型，對多個所述調(diào)制單位中的各個調(diào)制單位的所述射出率進(jìn)行調(diào)整。

10.如權(quán)利要求9所述的描畫方法，其特征在于，

多個所述形狀類型候補(bǔ)包括階梯型，

所述階梯型包括所述射出率恒定的中央部分和與所述中央部分相連且所述射出率呈階梯狀地變化的變化部分。