[發明專利]顯示裝置及其制造方法無效
| 申請號: | 201310167897.2 | 申請日: | 2013-05-09 |
| 公開(公告)號: | CN103280540A | 公開(公告)日: | 2013-09-04 |
| 發明(設計)人: | 吳泰必 | 申請(專利權)人: | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/56 | 分類號: | H01L51/56;H01L27/32;H01L51/52 |
| 代理公司: | 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 刁文魁;唐秀萍 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示裝置 及其 制造 方法 | ||
1.一種顯示裝置的制造方法,其特征在于,所述顯示裝置包括顯示基板以及蓋板,所述蓋板包括蓋板主體、燒結塊和顯示輔助部件,所述方法包括以下步驟:
在所述蓋板主體上面向于所述顯示基板的表面的邊緣處設置凹陷部;
在所述凹陷部的局部區域或全部區域涂布玻璃漿料;
對所述玻璃漿料進行燒結以形成所述燒結塊;
在已經形成有所述燒結塊的所述蓋板主體上設置所述顯示輔助部件;
通過激光照射所述燒結塊,使得所述燒結塊接合所述蓋板和所述顯示基板。
2.根據權利要求1所述的顯示裝置的制造方法,其特征在于,所述凹陷部是通過蝕刻形成的。
3.根據權利要求1所述的顯示裝置的制造方法,其特征在于,所述凹陷部的平均深度小于所述燒結塊的高度。
4.根據權利要求1所述的顯示裝置的制造方法,其特征在于,所述凹陷部在所述蓋板主體所在的平面上的投影的形狀為圓形、矩形、三角形、多邊形、不規則形狀中的任意一者;
所述投影的最小外接圓的半徑為1微米至200微米。
5.根據權利要求4所述的顯示裝置的制造方法,其特征在于,所述凹陷部以陣列形式排列于所述蓋板主體的邊緣處。
6.一種顯示裝置,其特征在于,所述顯示裝置包括:
顯示基板,用于生成顯示圖像;以及
蓋板,與所述顯示基板疊合于一體,其中,所述蓋板包括:
蓋板主體,所述蓋板主體上面向于所述顯示基板的表面的邊緣處設置有凹陷部;
燒結塊,設置于所述凹陷部的局部區域或全部區域,用于接合所述顯示基板與所述蓋板,所述燒結塊是通過在所述凹陷部的局部區域或全部區域涂布玻璃漿料并對所述玻璃漿料進行燒結形成的;以及
顯示輔助部件,設置于已經形成有所述燒結塊的所述蓋板主體上,用于輔助所述顯示基板提供顯示圖像。
7.根據權利要求6所述的顯示裝置,其特征在于,所述凹陷部是通過蝕刻形成的。
8.根據權利要求6所述的顯示裝置,其特征在于,所述凹陷部的平均深度小于所述燒結塊的高度。
9.根據權利要求6所述的顯示裝置,其特征在于,所述凹陷部在所述蓋板主體所在的平面上的投影的形狀為圓形、矩形、三角形、多邊形、不規則形狀中的任意一者;
所述投影的最小外接圓的半徑為1微米至200微米。
10.根據權利要求9所述的顯示裝置,其特征在于,所述凹陷部以陣列形式排列于所述蓋板主體的邊緣處。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





