[發明專利]光學層疊體、光學元件及投影裝置

無效

• 申請號: 201310165718.1
• 申請日: 2013-05-08
• 公開（公告）號: CN103424788A
• 公開（公告）日: 2013-12-04
• 發明（設計）人: 下田和人
• 申請（專利權）人: 索尼公司
• 主分類號: G02B1/11
• 分類號: G02B1/11;B32B15/04;G03B21/14;G03B21/20
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 陳芳

技術領域

本公開涉及光學層疊體、光學元件及投影裝置。尤其是，本公開涉及有利于減小光學系統的尺寸的光學層疊體、光學元件及投影裝置。

背景技術

在諸如透鏡和濾光器的透光性光學元件中，需要抑制在其表面上的反射。

近年來，隨著電子設備的尺寸的減小，也需要減小光學元件的尺寸。從而，需要在減小光學元件的尺寸的同時確保必要的光學特性。

然而，當光學元件的尺寸減小時，光學系統的設計限制增加。從而，例如，需要被配置用來減少光學元件的表面上的反射的增透膜（antireflective?film）具有較低反射率。

日本專利No.2590133公開了一種透明板，其包括：透明基板、金屬膜、高折射率電介質膜、以及低折射率電介質膜。日本專利No.3934742公開了一種增透膜，其包括：基板、由氮化鈦形成的層、高折射率層及低折射率層。另外，JP-A-2004-334012公開了利用Ag（銀）的三層或四層增透膜。

發明內容

期望實現較低反射率，以減少在光學元件的表面上的反射。

本公開的第一優選實施例針對光學層疊體，其包括電介質層、金屬層和層疊體。電介質層具有暴露于空氣的表面。金屬層具有與電介質層的界面，并至少包含Ag。層疊體具有與金屬層的界面，并包括一個或多個低折射率層和一個或多個高折射率層。在460到650nm波長區域中的反射率為0.1%或更小。

本公開的第二優選實施例針對光學元件，其包括電介質層、金屬層、層疊體、及透光性基體。電介質層具有暴露于空氣的表面。金屬層具有與電介質層的界面，并至少包含Ag。層疊體具有與金屬層的界面，并包括一個或多個低折射率層和一個或多個高折射率層。透光性基體具有與層疊體的界面。

本公開的第三優選實施例針對一種投影裝置，其包括光源、調制單元。調制單元包括一個或多個透鏡，并將圖像信息重疊在從光源發出的光上。一個或多個透鏡中的至少一個透鏡包括電介質層、金屬層、層疊體、及透鏡基體。電介質層具有暴露于空氣的表面。金屬層具有與電介質層的界面，并至少包含Ag。層疊體具有與金屬層的界面，并包括一個或多個低折射率層和一個或多個高折射率層。透鏡基體具有與層疊體的界面。

根據本公開實施例的光學層疊體包括金屬層，該金屬層至少包含Ag（銀）。

例如，在增透膜中可包括金屬膜，以對增透膜等施加導電性。然而，當在增透膜中包含金屬膜時，反射率降低，但是金屬吸收光，從而透射率大大降低。因此，通常，對于諸如透鏡的要求高透射率的光學元件的涂層，不使用金屬。通過重復地層疊近似幾十層（包括由高折射率材料形成的層和由低折射率材料形成的層）來構成增透膜。

相反，在本公開的實施例中，光學層疊體的與具有暴露于空氣的表面的層相鄰的層被配置為至少包含Ag的層。本發明人已經發現，當在光學層疊體中包括至少包含Ag的層時，可以將具有增透功能（antireflection?function）的光學層疊體的層數減少到約十層。本發明人已經進行了更全面的研究，作為結果發現一種光學層疊體，其通過與具有暴露于空氣的表面的層相鄰地設置至少包含Ag的層，能夠以較少數目的層實現可見光區域中的低反射率。

在該說明書中，“可見光區域”表示450到650nm的波長區域。

在該說明書中，“低折射率”表示其中在鈉的D線（589.3nm）處的折射率小于1.7的情況。另外，在該說明書中，“高折射率”表示其中在鈉的D線（589.3nm）處的折射率是1.7或更大的情況。

在該說明書中，當針對構成增透膜或光學層疊體的光學層提及“層厚度”或“厚度”時，這些厚度表示沿其上形成光學層的主表面的法線方向測量的幾何膜厚度。

根據至少一個實例，可以進一步減少入射光的反射。

附圖說明

圖1A是示出根據本公開第一實施例的光學層疊體的截面的示意圖，圖1B是示出根據第一實施例的光學層疊體的第一配置例的截面的示意圖，以及圖1C是示出根據第一實施例的光學層疊體的第二配置例的截面的示意圖；

圖2A是示出根據本公開第二實施例的光學元件的截面的示意圖，以及圖2B是示出圖2A中的虛線所示的SB部分的放大示意圖；

圖3是示出根據本公開第三實施例的投影裝置的配置例的框圖；

圖4A是示出調制單元的配置例的示意圖，以及圖4B是示出調制單元的另一個配置例的示意圖；

圖5是示出關于測試例1-1的光學層疊體的模擬結果的示圖；