[發(fā)明專利]光學(xué)層疊體、光學(xué)元件及投影裝置

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310165718.1
• 申請(qǐng)日: 2013-05-08
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103424788A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-12-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 下田和人
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 索尼公司
• 主分類號(hào): G02B1/11
• 分類號(hào): G02B1/11;B32B15/04;G03B21/14;G03B21/20
• 代理公司: 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 陳芳

1.一種光學(xué)層疊體，包括：

電介質(zhì)層，該電介質(zhì)層具有暴露于空氣的表面；

金屬層，該金屬層具有與電介質(zhì)層的界面，并至少包含Ag；以及

層疊體，該層疊體具有與金屬層的界面，并包括一個(gè)或多個(gè)低折射率層和一個(gè)或多個(gè)高折射率層，

其中，在460nm到650nm的波長(zhǎng)區(qū)域中的反射率為0.1%或更小。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)層疊體，

其中，所述層疊體包括兩個(gè)或更多個(gè)低折射率層和兩個(gè)或更多個(gè)高折射率層，并且

在可見(jiàn)光區(qū)域中的反射率為0.1％或更小。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)層疊體，

其中，所述金屬層的厚度被設(shè)置為5.5nm到6.2nm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)層疊體，

其中，所述層疊體包括一個(gè)低折射率層和一個(gè)高折射率層，

所述一個(gè)高折射率層具有與金屬層的界面，并且

所述一個(gè)低折射率層的厚度被設(shè)置為大于等于150nm且小于510nm。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)層疊體，

其中，金屬層的厚度被設(shè)置為6.1nm到6.5nm，并且

在可見(jiàn)光區(qū)域中的反射率為0.1％或更小。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)層疊體，

其中，金屬層至少包含選自于由Pd、Cu、Au、Nd、Sm、Bi和Pt構(gòu)成的組中的一種或多種。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)層疊體，

其中，電介質(zhì)層的厚度被設(shè)置為100nm或更小。

8.一種光學(xué)元件，包括：

電介質(zhì)層，該電介質(zhì)層具有暴露于空氣的表面；

金屬層，該金屬層具有與電介質(zhì)層的界面，并至少包含Ag；

層疊體，該層疊體具有與金屬層的界面，并包括一個(gè)或多個(gè)低折射率層和一個(gè)或多個(gè)高折射率層；以及

透光性基體，該透光性基體具有與層疊體的界面。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)元件，

其中，在包含于所述層疊體中的低折射率層和高折射率層中，位于離電介質(zhì)層最遠(yuǎn)的位置處的層由低折射率層構(gòu)成，并且

該低折射率層的厚度被設(shè)置為大于等于150nm且小于510nm。

10.一種投影裝置，包括:

光源；以及

調(diào)制單元，該調(diào)制單元包括一個(gè)或多個(gè)透鏡，并將圖像信息重疊在從光源發(fā)出的光上，

其中，所述一個(gè)或多個(gè)透鏡中的至少一個(gè)透鏡包括

電介質(zhì)層，該電介質(zhì)層具有暴露于空氣的表面；

金屬層，該金屬層具有與電介質(zhì)層的界面，并至少包含Ag；

層疊體，該層疊體具有與金屬層的界面，并包括一個(gè)或多個(gè)低折射率層和一個(gè)或多個(gè)高折射率層；以及

透鏡基體，該透鏡基體具有與層疊體的界面。