[發(fā)明專利]一種銅銦鎵硒薄膜的制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310162903.5 | 申請日: | 2013-05-06 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103280486A | 公開(公告)日: | 2013-09-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐東;徐永清;葉帥 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市亞太興實(shí)業(yè)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/18 | 分類號(hào): | H01L31/18 |
| 代理公司: | 深圳鼎合誠知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44281 | 代理人: | 彭家恩;彭愿潔 |
| 地址: | 518103 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 銅銦鎵硒 薄膜 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本申請涉及光伏薄膜材料技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種銅銦鎵硒(CuIn1-xGaxSe2,簡稱CIGS)薄膜的制備方法。
背景技術(shù)
隨著能源危機(jī)的日益嚴(yán)重,可再生能源的利用越來越備受關(guān)注。其中,太陽能因其取之不盡、且清潔無污染而成為最具潛力的新型能源。光伏材料的發(fā)展是決定太陽能技術(shù)發(fā)展的關(guān)鍵因素。
在過去的幾十年里,以CIGS薄膜為代表的太陽能技術(shù)由于效率高、無衰退、抗輻射、壽命長、成本低廉等特點(diǎn),備受光伏研究機(jī)構(gòu)和企業(yè)的重視和產(chǎn)業(yè)化推廣,其光電轉(zhuǎn)化效率為所有已知薄膜太陽能電池中最高的。目前,美國國家可再生能源實(shí)驗(yàn)室在玻璃襯底上利用共蒸發(fā)三步工藝制備出最高效率達(dá)19.9%的電池。此外,CIGS小面積電池效率也創(chuàng)造了新的記錄,達(dá)到了20.1%,與當(dāng)前的主流產(chǎn)品多晶硅薄膜電池的效率相差無幾。
目前用于CIGS薄膜電池的制備方法主要集中于共蒸發(fā)法和濺射后硒化法等真空方法。雖然采用真空方法制備的CIGS薄膜的性能和重復(fù)性都很高,但是,真空方法需要使用昂貴的真空設(shè)備,造就了高昂的成本,不利于CIGS薄膜電池的市場化,且該方法由于受到真空腔空間的限制,不適合于CIGS薄膜電池的連續(xù)產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)。此外,真空方法制備CIGS薄膜的成核溫度較高,不適合在柔性基板特別是聚合物基板上進(jìn)行CIGS薄膜電池的制備。相對而言,非真空法在開放的環(huán)境中進(jìn)行,具有設(shè)備和工藝要求簡單、成本低廉等優(yōu)點(diǎn),還可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)式的卷對卷(roll-to-roll)制程生產(chǎn),是實(shí)現(xiàn)大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)CIGS薄膜的一種較佳方法。
發(fā)明內(nèi)容
本申請?zhí)峁┮环N銅銦鎵硒薄膜的制備方法。
根據(jù)本申請的一個(gè)方面,本申請?zhí)峁┮环N銅銦鎵硒薄膜的制備方法,包括:
配制步驟:配制銅銦鎵硒前驅(qū)溶膠;
涂覆步驟:非真空條件下,將所述銅銦鎵硒前驅(qū)溶膠涂覆到襯底上,得到銅銦鎵硒前驅(qū)薄膜;
生成步驟:對所述涂覆步驟最終得到的銅銦鎵硒前驅(qū)薄膜進(jìn)行熱處理,冷卻后即制成銅銦鎵硒薄膜。
一種實(shí)施例中,所述配制步驟包括:將CuSe納米顆粒和(In1-xGax)2Se3納米顆粒分別均勻分散在分散劑中,得到銅銦鎵硒前驅(qū)溶膠。
一種實(shí)施例中,所述銅銦鎵硒前驅(qū)溶膠中Cu離子濃度控制在0.2摩爾/升~1摩爾/升;所述分散劑選自甲醇、乙醇、環(huán)己烷、甲苯、二甲苯和己硫醇中的任一種;所述CuSe納米顆粒和(In1-xGax)2Se3納米顆粒的粒徑小于等于50納米。
一種實(shí)施例中,所述涂覆步驟中,根據(jù)需要制備的薄膜的厚度,將所述銅銦鎵硒前驅(qū)溶膠涂覆到襯底上,執(zhí)行所述涂覆至少一次,每進(jìn)行一次涂覆后,對涂覆得到的銅銦鎵硒前驅(qū)薄膜進(jìn)行烘干。
其中,所述涂覆步驟中使用旋轉(zhuǎn)涂膜法進(jìn)行涂覆,其中,旋涂機(jī)的轉(zhuǎn)速控制在500轉(zhuǎn)/分鐘~5000轉(zhuǎn)/分鐘,涂膜時(shí)間為1分鐘~5分鐘;或者,所述涂覆步驟中使用浸漬提拉法進(jìn)行涂覆,其中,提拉機(jī)的速率控制在0.1厘米/分鐘~10厘米/分鐘,浸泡時(shí)間控制在1分鐘~5分鐘;所述烘干的溫度控制在200℃~400℃。
一種實(shí)施例中,所述生成步驟具體包括:
燒結(jié)子步驟,將所述涂覆步驟最終得到的銅銦鎵硒前驅(qū)薄膜放到氣氛退火爐中,將所述氣氛退火爐以預(yù)定升溫速率升溫到預(yù)定最高溫度,并在所述預(yù)定最高溫度下保溫預(yù)定時(shí)間;
冷卻子步驟,將熱處理后的銅銦鎵硒前驅(qū)薄膜隨爐冷卻到室溫,即制成銅銦鎵硒薄膜。
其中,所述預(yù)定升溫速率為10℃/s~100℃/s,所述預(yù)定最高溫度為350℃~650℃,所述預(yù)定時(shí)間為0.5小時(shí)~5小時(shí)。
其中,在將所述涂覆步驟最終得到的銅銦鎵硒前驅(qū)薄膜放到氣氛退火爐后,通入惰性氣氛。
其中,所述燒結(jié)子步驟中,在所述氣氛退火爐升溫到200℃~400℃時(shí),通入的含硒氣氛,所述冷卻子步驟中,當(dāng)溫度降至300℃~200℃時(shí),停止含硒氣氛的通入。
其中,所述含硒氣氛為硒蒸氣或H2Se氣體,其流量為0.1L/min~4L/min。
本申請的有益效果是:由于是采用非真空工藝進(jìn)行薄膜的制備,相對于采用真空制備的方法,工藝和所需設(shè)備簡單,容易實(shí)現(xiàn)大面積均勻性與連續(xù)化生產(chǎn)。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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