[發明專利]一種增強TiO2電極電化學性能的處理方法有效
| 申請號: | 201310161104.6 | 申請日: | 2013-05-03 |
| 公開(公告)號: | CN103265067A | 公開(公告)日: | 2013-08-28 |
| 發明(設計)人: | 李東棟;吳慧;徐辰;汪軍;魯林峰;陳小源 | 申請(專利權)人: | 上海中科高等研究院 |
| 主分類號: | C01G23/047 | 分類號: | C01G23/047 |
| 代理公司: | 上海光華專利事務所 31219 | 代理人: | 李儀萍 |
| 地址: | 201210 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 增強 tio sub 電極 電化學 性能 處理 方法 | ||
技術領域
本發明涉及光電化學電極材料領域,特別是涉及一種增強TiO2電極電化學性能的處理方法。
背景技術
TiO2因具有低成本、半導體性質和化學性質穩定等優勢引起很多研究者的興趣,并廣泛應用于太陽能電池、光催化、傳感器、生物醫學等領域。近年來,能源匱乏的問題日益突出,解決能源危機時不可待。因此,尋找廉價的儲能材料和清潔能源成為研究的熱點。但TiO2在儲能器件和光催化制氫領域的應用受限,這主要歸結于其較寬的帶隙和較差的電導率。因此,降低帶隙寬度和提高電導率有望使TiO2電極的性能得到很大提升,一定程度上緩解能源匱乏危機。
目前,在能帶結構調制方面,一般通過引入金屬(J?Mater?Chem2011,21,9079-9087.)、非金屬(Chem?Rev2007,107,2891-2959.)及氧空位(Nano?Lett2012,12,1690-1696.)等方法對TiO2納米晶進行摻雜,實現電化學性能的提高。但是目前的這些摻雜方法成本昂貴、操作時間長且繁瑣,最重要的是摻雜效果不穩定,影響性能的穩定提升。例如,Chen等將TiO2顆粒在200°C的H2氛圍中退火5天,有效的改善TiO2能隙從而提高TiO2顆粒對可見光的響應,增加TiO2顆粒光催化活性(Science2011,331(6018),746-750.),但這種方法的處理時間較長。又如,Lu等在TiO2納米管高溫退火時通入H2,通過引入摻雜和缺陷提高TiO2電極的電容性能(Nano?Lett2012,12,1690-1696.),但此方法需要高溫,且TiO2的電化學性能提高有限,同時H2退火的電極較脆,易斷裂。
發明內容
鑒于以上所述現有技術的缺點,本發明的目的在于提供一種增強TiO2電極電化學性能的處理方法,用于解決現有技術中摻雜的方法成本昂貴、操作繁瑣、操作時間長且摻雜效果不穩定的問題。
為實現上述目的及其他相關目的,本發明提供一種增強TiO2電極電化學性能的處理方法,所述增強TiO2電極電化學性能的處理方法至少包括步驟:
對制備的TiO2電極進行氣體等離子體處理,引入摻雜元素或氧空位,從而實現有效摻雜。
其中,所述TiO2電極為一維結構。
優選地,采用電化學方法、水熱法、模板法、溶膠凝膠法、微乳液法及氣相沉積法中的任意一種方法來制備所述TiO2電極。
優選地,所述電化學方法包括恒壓/恒流陽極氧化法和脈沖氧化法。
優選地,所述一維納米結構為納米管或納米線結構。
優選地,進行等離子體處理前,還包括對所述TiO2電極進行退火處理的步驟。
優選地,進行退火處理的溫度范圍為400~800℃,退火處理的時間范圍為1~20h。
優選地,等離子體處理采用的氣體包括H2、N2、CH4及NH3中的一種或多種,氣體的流量為20~500sccm。
優選地,等離子體處理時,體系氣壓為20~200Pa,處理溫度為25~650℃,射頻電源的功率為10~200mW/cm2,反應時間為1~180min。
如上所述,本發明的增強TiO2電極電化學性能的處理方法,具有以下有益效果:通過采用高活性氣體等離子體對制備的一維結構的TiO2電極進行處理,可以在較低溫度和較短時間內實現有效和可控的摻雜。經過本發明提供的處理方法處理后,由于等離子體的轟擊作用,可以進一步增加TiO2電極中一維納米結構表面粗糙度,提高一維納米結構的比表面積;并且摻雜元素或氧空位的引入降低了材料的能隙,提高材料電導率,從而可有效增強材料的電化學性能和光電性能,為TiO2納米材料在超級電容、鋰離子電池、太陽能電池以及光電催化材料等領域的性能提升提供了有效途徑。
附圖說明
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