[發(fā)明專(zhuān)利]一種在非晶硅薄膜表面形成織構(gòu)化微晶銀的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310159378.1 | 申請(qǐng)日: | 2013-05-03 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103268901A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-08-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 汪遠(yuǎn)昊 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 深圳市萬(wàn)業(yè)隆太陽(yáng)能科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L31/18 | 分類(lèi)號(hào): | H01L31/18;H01L31/20 |
| 代理公司: | 深圳中一專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所 44237 | 代理人: | 張全文 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市寶安區(qū)石巖*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 非晶硅 薄膜 表面 形成 織構(gòu)化微晶銀 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于太陽(yáng)能技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種在非晶硅薄膜表面形成織構(gòu)化微晶銀的方法。
背景技術(shù)
目前,為了提高非晶硅薄膜太陽(yáng)電池的效率,主要通過(guò)在近紅外范圍內(nèi)提高非晶硅薄膜的光吸收效率,是研究和技術(shù)開(kāi)發(fā)者迫切需要解決的關(guān)鍵技術(shù)。現(xiàn)階段普遍采用的技術(shù)路線為,在非晶硅薄膜表面通過(guò)化學(xué)或物理的方法形成納米銀顆粒,利用納米銀顆粒的表面等離子激元對(duì)入射光的陷光作用,達(dá)到提高器件效率的目的。
眾所周知,當(dāng)金屬顆粒在400~500nm時(shí),具有較強(qiáng)的散射光的能力。因此,在非晶硅薄膜的表面制備大顆粒的納米銀顆粒,例如微晶銀,可使非晶硅薄膜實(shí)現(xiàn)更好的光吸收效果,進(jìn)一步提高電池效率。現(xiàn)有的制備方法主要包括:熱蒸發(fā)法,即將銀蒸發(fā)鍍?cè)诜蔷Ч璞∧け砻妫灰约叭苣z-凝膠法,即將銀的溶膠旋涂在非晶硅薄膜表面。但是,上述制備方法均存在以下不足:形成的微晶銀顆粒太均勻,無(wú)法有效地實(shí)現(xiàn)光陷阱的作用,導(dǎo)致光吸收效率較低。此外,熱蒸發(fā)法生產(chǎn)成本高,工藝控制困難,對(duì)設(shè)備的要求也比較苛刻;溶膠凝膠法雖然成本低廉,但涉及的工藝步驟很繁瑣。因此,急需研究一種工藝簡(jiǎn)單、對(duì)設(shè)備要求低、成本低的在非晶硅薄膜表面形成微晶銀的新方法,以進(jìn)一步提高非晶硅薄膜的光吸收效率。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的上述不足,提供一種在非晶硅薄膜表面形成織構(gòu)化微晶銀的方法,以解決現(xiàn)有制備微晶銀方法中存在的工藝繁瑣復(fù)雜、對(duì)設(shè)備的要求也比較苛刻、成本高,且非晶硅薄膜的光吸收效率低的技術(shù)問(wèn)題。
為了實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的,本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
一種在非晶硅薄膜表面形成織構(gòu)化微晶銀的方法,包括以下步驟:
將醋酸銀與草酸溶解,配制成含有醋酸銀與草酸的前驅(qū)體溶液,其中,所述醋酸銀和草酸的質(zhì)量比為(3.2~13.1):(0.1~0.5);
將所述前驅(qū)體溶液涂覆在非晶硅薄膜表面;
將涂覆處理后的非晶硅薄膜在200~300℃進(jìn)行熱處理,在非晶硅薄膜表面形成織構(gòu)化微晶銀。
上述醋酸銀受熱分解為氧化銀(Ag2O),由于Ag2O熱力學(xué)上不穩(wěn)定,在草酸的作用下還原為單質(zhì)銀,然后進(jìn)一步通過(guò)熱處理在非晶硅薄膜表面原位誘導(dǎo)生長(zhǎng)微晶銀顆粒,且微晶銀顆粒之間互相作用,呈不規(guī)則排列并形成空隙,因此該微晶銀顆粒在微觀上形成織構(gòu)化結(jié)構(gòu),類(lèi)似傳統(tǒng)硅電池的光陷阱結(jié)構(gòu),當(dāng)光透過(guò)織構(gòu)化微晶銀到達(dá)非晶硅薄膜后,被非晶硅薄膜反射到織構(gòu)化微晶銀的光會(huì)被該織構(gòu)化微晶銀又反射回到非晶硅膜表面,達(dá)到二次利用光的效果,因此該織構(gòu)化結(jié)構(gòu)的微晶銀可起到多次反射光的作用,從而使非晶硅薄膜吸收更多光,提高非晶硅薄膜的光吸收效率。
該在非晶硅薄膜表面形成織構(gòu)化微晶銀顆粒的方法,只需將原料混合、涂覆、熱處理即可得到產(chǎn)品,工藝簡(jiǎn)單易控、對(duì)設(shè)備要求低且節(jié)約成本,容易實(shí)現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明實(shí)施例在非晶硅薄膜表面形成織構(gòu)化微晶銀的方法的工藝流程示意圖;
圖2為實(shí)施例1制得的樣品a的場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡(FESEM)圖;
圖3為實(shí)施例1制得的樣品a的X射線衍射(XRD)圖;
圖4為實(shí)施例2和對(duì)比實(shí)例1、2制備的樣品的反射率對(duì)比曲線。
具體實(shí)施方式
為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白,以下結(jié)合附圖及實(shí)施例,對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解,此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明,并不用于限定本發(fā)明。
本發(fā)明提供一種在非晶硅薄膜表面形成織構(gòu)化微晶銀的方法,該制備方法的工藝流程請(qǐng)參見(jiàn)圖1,具體的包括如下步驟:
步驟S01.配制前驅(qū)體溶液:將醋酸銀與草酸溶解,配制成含有醋酸銀與草酸的前驅(qū)體溶液,其中,所述醋酸銀和草酸的質(zhì)量比為(3.2~13.1):(0.1~0.5);
步驟S02.將前驅(qū)體溶液涂覆在非晶硅薄膜表面:將步驟S01中的前驅(qū)體溶液涂覆在非晶硅薄膜表面。
步驟S03.熱處理原位誘導(dǎo)生長(zhǎng)微晶銀顆粒:將步驟S02中的涂覆處理后的非晶硅薄膜在200~300℃進(jìn)行熱處理,在非晶硅薄膜表面形成織構(gòu)化微晶銀。
具體地,步驟S01中的前驅(qū)體溶液中,配制所述前驅(qū)體溶液所用的溶劑優(yōu)選異丙醇和叔丁醇中至少一種,進(jìn)一步優(yōu)選異丙醇。草酸與所述溶劑的質(zhì)量比優(yōu)選為(0.1~0.5):(15.7~47.1)。通過(guò)控制溶劑的用量,可以調(diào)節(jié)醋酸銀和草酸的反應(yīng)速度,進(jìn)而控制微晶銀的形貌。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專(zhuān)門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專(zhuān)門(mén)適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





