[發明專利]氯霉素分子印跡聚合物膜的制備方法

無效

• 申請號: 201310151369.8
• 申請日: 2013-04-27
• 公開（公告）號: CN103275271A
• 公開（公告）日: 2013-09-04
• 發明（設計）人: 張峰;張慧曉;杜幸潔;文永佳
• 申請（專利權）人: 大連海洋大學;張峰
• 主分類號: C08F222/14
• 分類號: C08F222/14;C08F220/34;C08F2/48;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/30
• 代理公司: 大連非凡專利事務所 21220
• 代理人: 閃紅霞

1.一種氯霉素分子印跡聚合物膜的制備方法，其特征在于依次按如下步驟進行：

a.?將模板分子氯霉素、功能單體甲基丙烯酸二乙基氨基乙酯和交聯劑乙二醇二甲基丙烯酸酯按照摩爾比1：4：20溶解于致孔劑四氫呋喃中，超聲30min；所述四氫呋喃的用量為5ml/0.25mmol氯霉素；

b.?加入引發劑偶氮二異丁腈，超聲15min，加入量為10mg/0.25mmol氯霉素；

c.?將膜載體浸入b步驟所得溶液中20min，再擠壓浸液后的膜載體至沒有氣泡，放入密封袋，充入氮氣，密封且紫外燈照射條件下，引發聚合12h；

d.?再將膜載體置于體積比為3:1的甲醇—乙酸混合液中，超聲洗脫24小時，得到氯霉素分子印跡聚合物膜。

2.根據權利要求1所述氯霉素分子印跡聚合物膜的制備方法，其特征在于：所述膜載體為尼龍膜、聚丙烯膜或聚偏氟乙烯膜。

3.根據權利要求1或2所述的氯霉素分子印跡聚合物膜的制備方法，其特征在于：所述a步驟是稱取0.25mmol氯霉素于燒瓶中，向其中加入5ml四氫呋喃，超聲5min；待氯霉素溶解后，加人1mmol甲基丙烯酸二乙基氨基乙酯，超聲20min；再將5.0mmol乙二醇二甲基丙烯酸酯加入到燒瓶中，超聲5min。