[發明專利]偏二氟乙烯系聚合物及其制造方法有效
| 申請號： | 201310149688.5 | 申請日： | 2013-04-26 |
| 公開（公告）號： | CN103467631A | 公開（公告）日： | 2013-12-25 |
| 發明（設計）人： | 吉野利忠;作山晃;木村太一;轟麻優子;北村秀樹;原健二郎;根本義德 | 申請（專利權）人： | 株式會社吳羽 |
| 主分類號： | C08F14/22 | 分類號： | C08F14/22;C08F114/22;C08F6/24;C08F2/18 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 龐立志;孟慧嵐 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 偏二氟 乙烯 聚合物 及其 制造 方法 | ||
1.偏二氟乙烯系聚合物的制造方法，其是將以偏二氟乙烯為主成分的單體聚合而得到偏二氟乙烯系聚合物的制造方法，其特征在于，包含
在聚合反應后的聚合物漿液中添加酸性物質的酸添加步驟、和
將聚合反應后的上述聚合物漿液進行脫水的脫水步驟，
在上述酸添加步驟中，添加上述酸性物質，以使上述脫水步驟后上述聚合物漿液中的上述酸性物質的濃度相對于上述脫水步驟后上述聚合物漿液中所含的偏二氟乙烯系聚合物的重量為1ppm以上。
2.根據權利要求1所述的偏二氟乙烯系聚合物的制造方法，其特征在于，上述酸添加步驟在上述脫水步驟之前進行。
3.根據權利要求1所述的偏二氟乙烯系聚合物的制造方法，其特征在于，上述酸性物質為檸檬酸、酒石酸、草酸、鹽酸和醋酸中的任意一種以上。
4.根據權利要求1所述的偏二氟乙烯系聚合物的制造方法，其特征在于，上述酸性物質為醋酸。
5.根據權利要求1所述的偏二氟乙烯系聚合物的制造方法，其特征在于，在上述酸添加步驟中，添加上述酸性物質，以使上述脫水步驟后上述聚合物漿液中的上述酸性物質的濃度相對于上述脫水步驟后上述聚合物漿液中所含的偏二氟乙烯系聚合物的重量為1ppm以上且小于5000ppm。
6.根據權利要求1所述的偏二氟乙烯系聚合物的制造方法，其特征在于，在上述酸添加步驟中，添加上述酸性物質，以使上述脫水步驟后上述聚合物漿液中的上述酸性物質的濃度相對于上述脫水步驟后上述聚合物漿液中所含的偏二氟乙烯系聚合物的重量為5ppm以上且小于500ppm。
7.根據權利要求1所述的偏二氟乙烯系聚合物的制造方法，其特征在于，在上述酸添加步驟中，添加上述酸性物質，以使上述脫水步驟后上述聚合物漿液中的上述酸性物質的濃度相對于上述脫水步驟后上述聚合物漿液中所含的偏二氟乙烯系聚合物的重量為5ppm以上且小于50ppm。
8.根據權利要求1所述的偏二氟乙烯系聚合物的制造方法，其特征在于，上述偏二氟乙烯系聚合物的偏二氟乙烯成分的含有率為50重量%以上。
9.根據權利要求1所述的偏二氟乙烯系聚合物的制造方法，其特征在于，上述偏二氟乙烯系聚合物為偏二氟乙烯的均聚物。
10.根據權利要求1所述的偏二氟乙烯系聚合物的制造方法，其特征在于，在上述聚合物漿液中添加上述酸性物質時，上述聚合物漿液中的介質為水。
11.根據權利要求1所述的偏二氟乙烯系聚合物的制造方法，其特征在于，上述偏二氟乙烯系聚合物的聚合方法為懸浮聚合。
12.根據權利要求1所述的偏二氟乙烯系聚合物的制造方法，其特征在于，在上述酸添加步驟和上述脫水步驟之后，進一步含有將上述聚合物漿液加熱至50℃以上且小于150℃進行干燥的干燥步驟。
13.根據權利要求1所述的偏二氟乙烯系聚合物的制造方法，其特征在于，上述酸添加步驟在上述脫水步驟之前進行，
在上述酸添加步驟后、上述脫水步驟前，進一步含有將上述聚合物漿液保持在50℃以下的保持步驟。
14.根據權利要求1所述的偏二氟乙烯系聚合物的制造方法，其特征在于，在上述酸添加步驟之前，進一步含有將上述偏二氟乙烯系聚合物進行洗滌的洗滌步驟。
15.偏二氟乙烯系聚合物，其通過權利要求1～14中任一項所述的偏二氟乙烯系聚合物的制造方法得到。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于株式會社吳羽，未經株式會社吳羽許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310149688.5/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
