[發(fā)明專利]一種線列式多片傳輸系統(tǒng)及使用其的薄膜沉積設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310149342.5 | 申請日: | 2013-04-26 |
| 公開(公告)號: | CN104120401B | 公開(公告)日: | 2018-01-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張超;梁敏敏;彭侃 | 申請(專利權(quán))人: | 漢能聯(lián)創(chuàng)移動能源投資有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/56 | 分類號: | C23C14/56;C23C16/54 |
| 代理公司: | 北京維澳專利代理有限公司11252 | 代理人: | 周放,張春雨 |
| 地址: | 100101 北京市朝陽區(qū)北辰西*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 線列式多片 傳輸 系統(tǒng) 使用 薄膜 沉積 設(shè)備 | ||
1.一種線列式多片傳輸系統(tǒng),其特征在于:包括支撐架(1)和兩個以上線列式的裝載單元,所述裝載單元包括相互固連的承載支架(2)和支架傳送裝置(3),所述支架傳送裝置(3)滑動內(nèi)嵌于所述支撐架(1)內(nèi),所述支架傳送裝置(3)帶動所述承載支架(2)做線性運動;且在所述支撐架(1)上設(shè)有檢測處于兩端的所述裝載單元裝載狀況的光電傳感器(4);
所述承載支架(2)的背部設(shè)有承載支架滾動輪(7),所述承載支架滾動輪(7)與承載支架導(dǎo)軌(8)滑動配合。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線列式多片傳輸系統(tǒng),其特征在于:在所述裝載單元上設(shè)有用于檢測工件(10)安全狀況的輔助光電傳感器(5)。
3.一種使用權(quán)利要求1所述的線列式多片傳輸系統(tǒng)的薄膜沉積設(shè)備,包括上片機(jī)、進(jìn)載臺、預(yù)處理腔、沉積腔、冷卻腔、出載臺和下片機(jī),其特征在于:在所述上片機(jī)和所述進(jìn)載臺之間設(shè)有所述線列式多片傳輸系統(tǒng),所述線列式多片傳輸系統(tǒng)中的所述裝載單元由所述上片機(jī)向所述進(jìn)載臺運動,且在所述線列式多片傳輸系統(tǒng)的所述支撐架(1)上設(shè)有檢測所述裝載單元運動狀態(tài)的限位傳感器。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的薄膜沉積設(shè)備,其特征在于:在所述出載臺和所述下片機(jī)之間設(shè)有所述線列式多片傳輸系統(tǒng),所述線列式多片傳輸系統(tǒng)中的所述裝載單元由所述出載臺向所述下片機(jī)運動。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





