[發明專利]光伏太陽能電池片及其刻蝕方法有效
| 申請號: | 201310146426.3 | 申請日: | 2013-04-24 |
| 公開(公告)號: | CN103199158A | 公開(公告)日: | 2013-07-10 |
| 發明(設計)人: | 曾德棟;吳衛平;蘇亞立;王家道;高鵬 | 申請(專利權)人: | 海南英利新能源有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;C30B33/10 |
| 代理公司: | 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240 | 代理人: | 吳貴明;張永明 |
| 地址: | 海南省海口市國家高新技術*** | 國省代碼: | 海南;66 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 太陽能電池 及其 刻蝕 方法 | ||
技術領域
本發明涉及光伏太陽能電池技術領域,具體而言,涉及一種光伏太陽能電池片及其刻蝕方法。?
背景技術
如圖1所示,現有光伏太陽能電池片的刻蝕方法中,通常是用兩種或三種酸混合來對光伏太陽能電池片進行濕法刻蝕的,多種酸混合時,其比例難以調試,且在后續的污水處理過程中,由于酸的種類多,各種酸的沸點也不一致,從而增加了回收的工序和成本,并且,混合酸中含有硫酸,在生產過程中會增加安全隱患。此外,使用現有設備中的混合酸對硅片背面進行刻蝕后反射率提升幅度并不大,不能有效提升電池片的轉化效率。?
發明內容
本發明旨在提供一種光伏太陽能電池片及其刻蝕方法,以解決現有技術中用多種酸的混合物對制作光伏太陽能電池片的基底進行刻蝕而導致的后續污水處理困難、安全性不夠高以及所得到的基底的背面不夠光滑的問題。?
為了實現上述目的,根據本發明的一個方面,提供了一種光伏太陽能電池片的刻蝕方法,包括以下步驟:預處理步驟,對制作光伏太陽能電池片的基底進行預處理,去除基底的背面的磷硅玻璃層;刻蝕步驟,將經過預處理之后的基底放入刻蝕槽,利用堿性溶液對基底的背面進行刻蝕。?
進一步地,預處理步驟包括,用氫氟酸溶液去除基底的背面的磷硅玻璃層。?
進一步地,氫氟酸溶液的質量分數3%至30%。?
進一步地,用氫氟酸溶液去除基底的背面的磷硅玻璃層的步驟之后,預處理步驟還包括,用去離子水對基底進行清洗。?
進一步地,堿性溶液為氫氧化鉀溶液。?
進一步地,氫氧化鉀溶液的質量分數為10%至50%。?
進一步地,當利用堿性溶液進行刻蝕時,堿性溶液的溫度為25攝氏度至70攝氏度。?
進一步地,去除基底的背面的磷硅玻璃層時,基底被支撐在刻蝕槽的滾輪上面,并且基底的擴散面高于氫氟酸溶液的液面;利用堿性溶液對基底進行刻蝕時,利用滾輪攜帶藥液的方式對基底的背面進行刻蝕。?
進一步地,利用堿性溶液對基底的背面進行刻蝕的步驟之后,還包括后處理步驟,后處理步驟包括:用質量分數為1%至5%的氫氧化鉀溶液對制作光伏太陽能電池片的基底進行上噴淋式清洗;用去離子水對對基底進行清洗;用質量分數為4%至10%的氫氟酸溶液對基底進行清洗;用去離子水對基底進行清洗;對光伏太陽能電池片進行烘干。?
進一步地,基底為硅片。?
根據本發明的另一方面,提供了一種光伏太陽能電池片,光伏太陽能電池片由上述的光伏太陽能電池片刻蝕方法刻蝕而成。?
應用本發明的技術方案,光伏太陽能電池片的刻蝕方法包括以下步驟:預處理步驟,對制作光伏太陽能電池片的基底進行預處理,去除基底的背面的磷硅玻璃層;刻蝕步驟,將經過預處理之后的所述基底放入刻蝕槽,利用堿性溶液對基底的背面進行刻蝕。根據本發明的光伏太陽能電池片的刻蝕方法可以有效降低后續的污水處理難度,避免現有技術中因使用硫酸而給生產上帶來的安全隱患,與此同時,用堿性溶液對制作光伏太陽能電池片的基底進行刻蝕時,堿與基底的反應可以達到很好的拋光效果,從而增加最終得到的光伏太陽能電池片對長波的吸收,提高光伏太陽能電池片的轉換效率。?
附圖說明
構成本發明的一部分的附圖用來提供對本發明的進一步理解,本發明的示意性實施例及其說明用于解釋本發明,并不構成對本發明的不當限定。在附圖中:?
圖1示出了現有的光伏太陽能電池片刻蝕方法的流程圖;以及?
圖2示出了根據本發明的光伏太陽能電池片及其刻蝕方法的流程圖。?
具體實施方式
下文中將參考附圖并結合實施例來詳細說明本發明。需要說明的是,在不沖突的情況下,本申請中的實施例及實施例中的特征可以相互組合。?
術語解釋:?
太陽能電池的轉化效率:定義為Eff=P/(MS)(M為輻射照度;S為電池的面積),即受光照射的太陽能電池片的最大功率與入射到該電池片上全部功率的百分比。?
拋光:是指利用機械、化學或電學的作用,使工件表面粗糙度降低,以獲得光亮、平整表面的加工方法。?
刻蝕:通過溶液、反應離子或其他機械方式來剝離、去除材料的一種統稱。?
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H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





