[發明專利]液處理裝置和液處理方法有效
| 申請號: | 201310145350.2 | 申請日: | 2013-04-24 |
| 公開(公告)號: | CN103372525A | 公開(公告)日: | 2013-10-30 |
| 發明(設計)人: | 安藤了至;佐藤尊三 | 申請(專利權)人: | 東京毅力科創株式會社 |
| 主分類號: | B05C11/10 | 分類號: | B05C11/10;G01F1/66 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;張會華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 處理 裝置 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種向半導體晶圓等基板供給處理液以進行液處理的技術。
背景技術
在半導體器件的制造工藝的光刻工序中,要進行在半導體晶圓(以下稱作“晶圓”)的表面形成抗蝕劑膜的抗蝕劑涂敷處理。通常,該涂敷處理采用旋涂法,但由于抗蝕劑膜用藥液(以下稱作“抗蝕劑”)的價格高昂,因此,要求一邊使于抗蝕劑膜用藥液的噴射量為能夠確??刮g劑膜的膜厚具有較高的面內均勻性的噴射量,一邊盡量抑制抗蝕劑膜用藥液的消耗量。因此,不得不在流量小的區域精度良好地檢測流量,但由于沒有合適的流量計,因此,例如,定期地進行使用電子天平來調整泵壓等應對作業。然而,存在定期地進行這樣的作業煩雜這種問題。另外,有時因抗蝕劑中的溶解氣體而出現氣泡,由于圖案線寬的微細化的不斷發展,對于以往不成為問題的微細的氣泡,也迫切需要對其進行檢測來應對。
在專利文獻1中公開了一種將1對超聲波收發器配置于流體所流經的導管的外周部來測量流體的流量值的方法。另外,在專利文獻2中公開了一種根據超聲波流量計的測量結果來調整噴射孔前的閥的開閉以控制噴射量的抗蝕劑涂敷法。但是,在專利文獻1、2中均沒有記載用于檢測1mL/sec以下的微小的流量的構成。
專利文獻1:日本特開2004-226391號公報
專利文獻2:日本特開2003-197516號公報
發明內容
本發明是鑒于這樣的情況而做成的,其目的在于提供一種在利用處理液對基板進行處理時能夠高精度地測量處理液的流量的技術。
本發明的液處理裝置用于自處理液供給源經由流路構件和噴嘴以1毫升/秒以下的流量向由基板保持部保持著的基板供給處理液而對該基板進行液處理,其特征在于,該液處理裝置包括:送液機構,其設于上述流路構件上,用于將處理液送出到上述噴嘴;以及超聲波流量計,其設于上述流路構件中的比上述送液機構靠下游側的部分上,該超聲波流量計能夠測定的流量的下限值是1毫升/秒以下,上述超聲波流量計包括:第1壓電元件和第2壓電元件,該第1壓電元件和第2壓電元件以在處理液的流動方向上互相分開且分別圍在流路構件的外周的方式呈環狀設置;以及測定部,其使超聲波在上述第1壓電元件和第2壓電元件之間交替地傳播而根據彼此的傳播時間的時間差來測定處理液的流量。
本發明的液處理方法自處理液供給源經由流路構件和噴嘴以1毫升/秒以下的流量向由基板保持部保持著的基板供給處理液而對該基板進行液處理,其特征在于,該液處理方法包括利用超聲波流量計來測定處理液的流量的工序,該超聲波流量計設于上述流路構件上,其能夠測定的流量的下限值是1毫升/秒以下,上述工序包括測定工序,在該測定工序中,使用以在處理液的流動方向上互相分開且分別圍在流路構件的外周的方式呈環狀設置的第1壓電元件和第2壓電元件,并使超聲波在上述第1壓電元件和第2壓電元件之間交替地傳播而基于彼此的傳播時間的時間差來測定處理液的流量。
本發明提供一種存儲介質,其存儲有應用于對自上述處理液供給源供給后的處理液實施上述液處理方法的裝置中的計算機程序,其特征在于,上述計算機程序構成為能夠實施上述方法。
本發明以如下方式構成超聲波流量計:在與噴嘴連接的流路構件上,以在抗蝕劑的流動方向上互相分開且分別圍在該流路構件的外周的方式呈環狀設置第1壓電元件和第2壓電元件,基于超聲波在上述第1壓電元件和第2壓電元件之間的傳播時間來檢測抗蝕劑的流量。因此,能夠高精度地檢測1mL/sec以下的微少的流量,因此,能夠一邊使自噴嘴向基板噴射的抗蝕劑的量為微少的量,一邊以較高精度來使該抗蝕劑的量與設定量相一致。
附圖說明
圖1是表示用于構成本發明的實施方式的抗蝕劑涂敷裝置的抗蝕劑供給裝置的一實施方式的結構圖。
圖2是本實施方式的抗蝕劑涂敷裝置的一個形態的立體圖。
圖3是表示用于構成本發明的實施方式的抗蝕劑供給裝置的超聲波流量計的內部構造和動作的說明圖。
圖4是表示整個抗蝕劑供給裝置的控制機構的框圖。
圖5是在抗蝕劑供給裝置的一實施例中利用超聲波流量計進行測定而得到的流量的波形圖。
圖6是表示抗蝕劑供給裝置的累積流量測量的流程的一個形態的流程圖。
圖7是表示自超聲波流量計開始檢測到氣泡到將氣泡排出到捕集器外為止的流程圖。
圖8是表示抗蝕劑供給裝置的超聲波流量計的設置的一個形態的結構圖。
圖9是表示本實施方式的抗蝕劑涂敷裝置的控制機構的框圖。
具體實施方式
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