[發明專利]液處理裝置和液處理方法有效
| 申請號: | 201310145350.2 | 申請日: | 2013-04-24 |
| 公開(公告)號: | CN103372525A | 公開(公告)日: | 2013-10-30 |
| 發明(設計)人: | 安藤了至;佐藤尊三 | 申請(專利權)人: | 東京毅力科創株式會社 |
| 主分類號: | B05C11/10 | 分類號: | B05C11/10;G01F1/66 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;張會華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 處理 裝置 方法 | ||
1.一種液處理裝置,其用于自處理液供給源經由流路構件和噴嘴以1毫升/秒以下的流量向由基板保持部保持著的基板供給處理液而對該基板進行液處理,其特征在于,
該液處理裝置包括:
送液機構,其設于上述流路構件上,用于將處理液送出到上述噴嘴;以及
超聲波流量計,其設于上述流路構件中的比上述送液機構靠下游側的部分上,該超聲波流量計能夠測定的流量的下限值是1毫升/秒以下,
上述超聲波流量計包括:第1壓電元件和第2壓電元件,該第1壓電元件和第2壓電元件以在處理液的流動方向上互相分開且分別圍在流路構件的外周的方式呈環狀設置;以及測定部,其使超聲波在上述第1壓電元件和第2壓電元件之間交替地傳播而根據彼此的傳播時間的時間差來測定處理液的流量。
2.根據權利要求1所述的液處理裝置,其特征在于,
上述超聲波流量計中的第1壓電元件與第2壓電元件之間的流路構件呈內徑為2mm以下的圓筒狀。
3.根據權利要求1或2所述的液處理裝置,其特征在于,
該液處理裝置還包括氣泡檢測部,該氣泡檢測部用于基于由上述超聲波流量計得到的流量值的變化來檢測上述處理液中的氣泡。
4.根據權利要求3所述的液處理裝置,其特征在于,
該液處理裝置還包括:
氣泡捕集器,其設于上述流路構件中的比上述超聲波流量計靠下游側的部分上;
閥,其設于上述氣泡捕集器的下游側;以及
控制部,其用于進行如下控制:在利用上述超聲波流量計進行的氣泡檢測次數超過了閾值時,關閉上述閥,向該氣泡捕集器供給處理液而將氣體排出。
5.根據權利要求3或4所述的液處理裝置,其特征在于,
該液處理裝置還包括:
液承接部,其用于接收自噴嘴虛擬分配的處理液;以及
控制部,其用于進行如下控制:在利用上述超聲波流量計檢測到氣泡時,自噴嘴向基板僅噴射預先設定的次數的處理液而進行液處理,之后在上述液承接部處進行虛擬分配。
6.根據權利要求1至5中任一項所述的液處理裝置,其特征在于,
該液處理裝置還包括累積值監視部,該累積值監視部進行如下控制:對利用上述超聲波流量計檢測到的流量值和自噴嘴進行噴射的噴射時間進行積分運算而求出累積噴射量,當該累積噴射量超過了與自噴嘴進行噴射的噴射次數相應的閾值時,輸出警報。
7.一種液處理方法,自處理液供給源經由流路構件和噴嘴以1毫升/秒以下的流量向由基板保持部保持著的基板供給處理液而對該基板進行液處理,其特征在于,
該液處理方法包括利用超聲波流量計來測定處理液的流量的工序,該超聲波流量計設于上述流路構件上,其能夠測定的流量的下限值是1毫升/秒以下,
上述工序包括測定工序,在該測定工序中,使用以在處理液的流動方向上互相分開且分別圍在流路構件的外周的方式呈環狀設置的第1壓電元件和第2壓電元件,并使超聲波在上述第1壓電元件和第2壓電元件之間交替地傳播而基于彼此的傳播時間的時間差來測定處理液的流量。
8.根據權利要求7所述的液處理方法,其特征在于,
測定上述處理液的流量的工序包括基于流量值的變化來檢測氣泡的工序。
9.根據權利要求8所述的液處理方法,其特征在于,
該液處理方法包括使用設于上述流路構件中的比上述超聲波流量計靠下游側的部位上的氣泡捕集器和設于上述氣泡捕集器的下游側的閥進行控制的控制工序,在該控制工序中,在利用上述超聲波流量計進行的氣泡檢測次數超過了閾值時,關閉上述閥,向該氣泡捕集器供給處理液而將氣體排出。
10.根據權利要求8或9所述的液處理方法,其特征在于,
該液處理方法還包括控制步驟,在該控制步驟中,在利用上述超聲波流量計檢測到氣泡時,自噴嘴向基板僅噴射預先設定的次數的處理液而進行液處理,之后在上述液承接部處進行虛擬分配。
11.根據權利要求8至10中任一項所述的液處理方法,其特征在于,
該液處理方法包括輸出步驟,在該輸出步驟中,對利用上述超聲波流量計檢測到的流量值和自噴嘴進行噴射的噴射時間進行積分運算而求出累積噴射量,當該累積噴射量超過了與自噴嘴進行噴射的噴射次數相應的閾值時,輸出警報。
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