[發(fā)明專利]一種薄膜表面納米刻劃與摩擦粘滑特性測試裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310136902.3 | 申請日: | 2013-04-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103234848A | 公開(公告)日: | 2013-08-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 刁東風(fēng);于力偉;范雪 | 申請(專利權(quán))人: | 西安交通大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01N3/40 | 分類號(hào): | G01N3/40;G01N19/02;G01N3/46 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 61200 | 代理人: | 蔡和平 |
| 地址: | 710049 *** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 薄膜 表面 納米 刻劃 摩擦 特性 測試 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及納米表面測試領(lǐng)域,尤其涉及一種薄膜表面納米刻劃與摩擦粘滑特性測試裝置。
背景技術(shù)
近年來,以碳基薄膜為代表的納米薄膜以其高硬度、低摩擦系數(shù)、高耐磨性等優(yōu)異的機(jī)械性能,作為理想的耐磨保護(hù)涂層以及固體潤滑劑,在機(jī)械、電子、磁介質(zhì)保護(hù)和醫(yī)學(xué)領(lǐng)域獲得廣泛的應(yīng)用,引起了研究者的關(guān)注。
目前,對碳基薄膜的納米力學(xué)性能評(píng)價(jià)方法主要有納米壓痕與劃痕測試。自Stillwon和Tabor在1961年提出利用壓入的彈性恢復(fù)過程測定材料力學(xué)性能的方法以來,納米壓痕已經(jīng)成為獲得材料硬度和彈性模量指標(biāo)的可靠測試方法。然而對于薄膜,尤其是超薄薄膜(膜厚小于50nm)來說,納米壓痕的作用深度往往接近其膜厚,所得到的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)將大大受到基體力學(xué)性能的影響,這將對薄膜力學(xué)性能的評(píng)價(jià)造成干擾。另外,納米壓痕實(shí)驗(yàn)過程復(fù)雜,實(shí)驗(yàn)設(shè)備昂貴,無法快速而便捷地表征薄膜的軟硬程度。相比之下,納米劃痕測試則是使用金剛石壓頭對薄膜表面進(jìn)行塑性刻劃,通過比較劃痕深度和寬度等指標(biāo)來表征薄膜的硬度,更適用于評(píng)價(jià)薄膜材料的力學(xué)性能。
常見的劃痕測試裝置有大載荷表面劃痕裝置、AFM(Atomic?Force?Microscope,原子力顯微鏡)納米劃痕裝置等。大載荷表面劃痕測試中刻劃載荷通常為100mN至N級(jí),且加載的分辨率低,并不適合超薄薄膜的刻劃實(shí)驗(yàn)。AFM納米劃痕測試中刻劃載荷通常為10nN至μN(yùn)級(jí),加載分辨率過高且難于控制,所采用的光學(xué)傳感方法大大局限其加載范圍。另外,對樣品的表面粗糙度的較高要求也限制其應(yīng)用范圍。
另一方面,薄膜表面摩擦粘滑行為作為其重要的摩擦學(xué)性能在精密定位技術(shù)中具有重要意義。粘滑運(yùn)動(dòng),即運(yùn)動(dòng)過程中動(dòng)、靜摩擦交替出現(xiàn)的現(xiàn)象,嚴(yán)重影響著精密定位中的定位精度。但是粘滑行為不僅受薄膜自身摩擦學(xué)性能影響,而且與測試系統(tǒng)剛度有很大關(guān)系。若使用高切向剛度摩擦力測試裝置可以得到摩擦滑動(dòng)過程中的摩擦系數(shù)卻無法反映出粘滑行為。因此只有選用較低切向剛度的摩擦力測試傳感器才能達(dá)到測試目的。
發(fā)明內(nèi)容
針對上述大載荷劃痕裝置與AFM納米劃痕裝置在加載中存在的問題,本發(fā)明提供了一種薄膜表面納米刻劃與摩擦粘滑特性測試裝置,能夠?qū)崿F(xiàn)100μN(yùn)至mN載荷下的刻劃測試,同時(shí),其較低的系統(tǒng)剛度確保刻劃過程中薄膜表面摩擦粘滑性能得以在線檢測。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用了以下技術(shù)方案:
基座,基座上安裝有用于放置檢測樣本的壓電式運(yùn)動(dòng)平臺(tái),以及能夠垂直和水平移動(dòng)的位移臺(tái),位移臺(tái)上安裝有傳感器固定器,傳感器固定器的前端固定安裝有納米刻劃與粘滑測試傳感器,基座上還安裝有光學(xué)成像系統(tǒng),其中,納米刻劃與粘滑測試傳感器包括:帶有刻劃頭的刻劃頭夾持塊,刻劃頭位于壓電式運(yùn)動(dòng)平臺(tái)的正上方,刻劃頭夾持塊通過切向臂和法向臂與感器固定器相連接,且切向臂和法向臂上對應(yīng)貼附有切向力電阻應(yīng)變片和法向力電阻應(yīng)變片。
所述位移臺(tái)包括:安裝于基座上的若干根絲杠,絲杠的頂端固定安裝有U型探針架,U型探針架上設(shè)置有用于調(diào)節(jié)U型探針架水平位移的手調(diào)旋鈕;
所述傳感器固定器包括:安裝于位移臺(tái)上的U型固定導(dǎo)軌,U型固定導(dǎo)軌的中部卡合有用于固定納米刻劃與粘滑測試傳感器的夾塊。
所述U型探針架的內(nèi)側(cè)為斜面結(jié)構(gòu),且所述U型固定導(dǎo)軌的外側(cè)面與U型探針架內(nèi)側(cè)斜面相配合。
所述U型探針架的下端設(shè)置有進(jìn)行緩沖的制動(dòng)拉簧。
所述絲杠的數(shù)量為3。
所述U型固定導(dǎo)軌的兩臂上安裝分別有L形擋板。
所述切向臂與法向臂通過轉(zhuǎn)接塊相連接。
所述刻劃頭通過緊定螺釘同軸連接于刻劃頭夾持塊上。
所述刻劃頭為金剛石壓頭,尖端曲率半徑為130nm,錐頂角為155°。
所述光學(xué)成像系統(tǒng)的顯微放大倍率為400倍。
本發(fā)明提供了一種薄膜表面納米刻劃與摩擦粘滑特性測試裝置,將壓電式運(yùn)動(dòng)平臺(tái)與低剛度的納米刻劃與粘滑測試傳感器相配合,通過不同的運(yùn)動(dòng)控制方式,一方面可完成100uN至mN薄膜納米刻劃實(shí)驗(yàn),彌補(bǔ)了現(xiàn)有技術(shù)中AFM納米刻劃裝置加載范圍局限且難于控制、對樣品表面粗糙度要求高等不足;另一方面,測試系統(tǒng)的低剛度性確保刻劃過程中薄膜表面摩擦粘滑性能得以在線檢測,克服了現(xiàn)有技術(shù)中高剛度摩擦試驗(yàn)機(jī)無法反映表面摩擦粘滑特性的缺點(diǎn)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于西安交通大學(xué),未經(jīng)西安交通大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310136902.3/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種多功能的趣味玩具
- 下一篇:一種液體整發(fā)劑





