[發(fā)明專利]擺片裝置及其調整方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310122693.7
• 申請日: 2013-04-10
• 公開（公告）號: CN104103711A
• 公開（公告）日: 2014-10-15
• 發(fā)明（設計）人: 韓盼盼
• 申請（專利權）人: 北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18;H01L21/68
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

技術領域

本發(fā)明屬于半導體晶片加工技術領域，具體涉及一種擺片裝置及其調整方法。

背景技術

隨著太陽能技術的不斷發(fā)展，晶硅太陽能電池作為新興的清潔可再生能源，得到了越來越廣泛的應用。晶硅太陽能電池的制造需要利用等離子體增強化學氣相沉積（Plasma?Enhanced?Chemical?Vapor?Deposition，PECVD）系統(tǒng)，硅片在PECVD系統(tǒng)中，首先要由龍門架將硅片從傳送帶上擺放到裝載臺上的載板中（擺片過程），再進入PECVD系統(tǒng)中的預熱腔、工藝腔、冷卻腔、卸載臺等進行加工。裝載臺上設置的夾持氣缸可將載板固定在裝載臺上，并且載板上設置有若干個用于擺放硅片的片槽，片槽的大小幾乎是與硅片相等的，在擺片過程中應當快捷、準確的將硅片擺放在片槽中，以保證后續(xù)鍍膜工藝的效率和質量。

本發(fā)明人在實現(xiàn)本發(fā)明的過程中發(fā)現(xiàn)，現(xiàn)有技術至少存在以下問題：在實際的生產過程中，可能會出現(xiàn)硅片偏離片槽，而導致硅片搭在片槽的邊緣上的現(xiàn)象，即搭片現(xiàn)象。搭片現(xiàn)象的主要原因是夾持氣缸對載板的施力不均勻，而使載板的位置產生偏移。目前，只能通過手動調節(jié)夾持氣缸將載板重新定位，以調整搭片問題，但是手動調節(jié)夾持氣缸的力度很難把握，有時候還需要將夾持氣缸卸下來重新安裝，這樣非常浪費時間，因此現(xiàn)有的調整搭片問題的方法比較復雜，影響晶硅太陽能電池的生產效率。

發(fā)明內容

本發(fā)明實施例提供了一種擺片裝置及其調整方法，解決了現(xiàn)有的調整搭片問題的方法比較復雜，影響晶硅太陽能電池的生產效率的技術問題。

為達到上述目的，本發(fā)明的實施例采用如下技術方案：

本發(fā)明提供一種擺片裝置，包括裝載臺、傳送帶和龍門架；

所述裝載臺用于承載載板，所述載板上設置有若干個用于擺放硅片的片槽；

所述裝載臺上設置有至少三個定位器，用于從至少三個方向調節(jié)并固定所述載板的位置；

所述傳送帶位于所述裝載臺的一側，用于傳送待擺放的硅片；

所述龍門架用于將所述傳送帶上的硅片擺放到所述載板上。

進一步，該擺片裝置還包括上料臺和機械手；

所述上料臺用于放置裝有硅片的料盒；

所述機械手用于將所述料盒中的硅片取出并放置在所述傳送帶上。

優(yōu)選的，所述定位器為伺服電機。

優(yōu)選的，所述定位器的數(shù)量為三個，且該三個定位器分別設置于所述裝載臺的前側、左側、后側。

本發(fā)明還提供一種基于上述擺片裝置的調整方法，包括：

當硅片偏離片槽時，

獲取所述硅片偏離的距離；

根據(jù)所述硅片偏離的距離，調節(jié)載板、傳送帶或龍門架的位置。

進一步，在所述獲取所述硅片偏離的距離之前，還包括：

判斷造成所述硅片偏離的原因；

則根據(jù)所述硅片偏離的距離，調節(jié)載板、傳送帶或龍門架的位置，具體為：

根據(jù)所述硅片偏離的原因和距離，調節(jié)載板、傳送帶或龍門架的位置。

與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明所提供的上述技術方案具有如下優(yōu)點：因為載板是通過至少三個定位器從至少三個方向固定在裝載臺上，并且通過定位器能夠非常方便的調節(jié)并固定載板的位置，所以當擺片過程中出現(xiàn)搭片現(xiàn)象時，工作人員就可以在獲取硅片偏離的距離之后，根據(jù)該距離實時手動調節(jié)載板、傳送帶或龍門架的位置，從而能夠簡單、快捷的解決搭片問題，提高晶硅太陽能電池的生產效率。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹。

圖1為本發(fā)明的實施例所提供的擺片裝置的結構示意圖；

圖2為本發(fā)明的實施例所提供的調整方法的流程圖；

圖3為本發(fā)明的實施例所提供的調整方法的另一流程圖；

圖4a和圖4b為本發(fā)明的實施例中硅片向前后方向偏離的示意圖；

圖5a和圖5b為本發(fā)明的實施例中硅片向左右方向偏離的示意圖；

圖6a至圖6d為本發(fā)明的實施例中硅片向斜向方向偏離的示意圖。

具體實施方式

下面將結合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述。