[發(fā)明專利]TFT基板的清洗方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310117612.4 | 申請(qǐng)日: | 2013-04-07 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103199006A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-07-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳玉龍;張迅;易偉華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江西沃格光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/02 | 分類號(hào): | H01L21/02;B08B3/08 |
| 代理公司: | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224 | 代理人: | 吳平 |
| 地址: | 338004 江西省新余*** | 國(guó)省代碼: | 江西;36 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | tft 清洗 方法 | ||
1.一種TFT基板的清洗方法,其特征在于,包括以下步驟:
將食醋或醋酸溶液均勻噴灑在拋光漿料研磨后的TFT基板的表面,其中,所述拋光漿料中含有氧化鈰;
將所述TFT基板表面的所述食醋或所述醋酸溶液擦拭除去;及
用純水清洗所述TFT基板表面,自然晾干,得到清洗后的TFT基板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的TFT基板的清洗方法,其特征在于,所述食醋為白醋。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的TFT基板的清洗方法,其特征在于,用純水清洗所述TFT基板表面的步驟包括:
用純水噴洗所述TFT基板表面;
將所述TFT基板表面的所述純水擦拭除去;
將所述TFT基板置于純水中進(jìn)行浸泡。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的TFT基板的清洗方法,其特征在于,將所述TFT基板置于純水中進(jìn)行浸泡的步驟包括:
將所述TFT基板豎直置于純水中上下浮動(dòng)2~3次浸泡,浸泡時(shí)間為5~10s。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的TFT基板的清洗方法,其特征在于,用海綿塊擦拭除去所述TFT基板表面的所述食醋、所述醋酸溶液或所述純水。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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