[發(fā)明專利]過電壓保護元件及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310102267.7 | 申請日: | 2013-03-27 |
| 公開(公告)號: | CN104078447B | 公開(公告)日: | 2018-10-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 葉秀倫;張育嘉;劉澤鈞;許秀美 | 申請(專利權(quán))人: | 佳邦科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/58 | 分類號: | H01L23/58;H01L21/02 |
| 代理公司: | 隆天知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人: | 趙根喜;呂俊清 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 過電壓 保護 元件 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種過電壓保護元件及其制備方法,包含一基板;一絕緣層,設(shè)置于該基板上,該絕緣層具有一凹槽;以及一導(dǎo)體層,設(shè)置于該絕緣層上,該導(dǎo)體層具有一第一電極及一第二電極,二者形成一放電通路,且該凹槽位于該放電通路下方。本發(fā)明的過電壓保護元件的制備方法包含形成一絕緣層于一基板上;形成一凹槽于該絕緣層之內(nèi);形成一光阻圖案,其填滿該凹槽并凸伸出該絕緣層;形成一導(dǎo)體層于該絕緣層上,該光阻圖案分隔該導(dǎo)體層而形成一第一電極及一第二電極;以及去除該光阻圖案,由此該第一電極及該第二電極形成一放電通路,且該凹槽位于該放電通路下方。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明關(guān)于一種過電壓保護元件及其制備方法,特別關(guān)于一種采用空氣放電技術(shù)的過電壓保護元件及其制備方法。
背景技術(shù)
電子電路在運作中,若產(chǎn)生電壓異?;蜢o電放電(ESD),則電子電路上的電子元件可能損壞。為此,電子電路中,常設(shè)置過電壓保護器,以保護電子電路上的電子元件,使其不受電壓異?;蜢o電放電的影響。
在現(xiàn)今電子產(chǎn)品的先進以及工藝技術(shù)提升的進步下,電子產(chǎn)品尺寸逐漸縮小,使得靜電放電對于精密電子零件的損害程度漸趨嚴(yán)重,加上近年來手持式行動設(shè)備的發(fā)展迅速,因此在靜電防護的要求日益增加。比照目前應(yīng)用于靜電防護的方法中,以空氣放電的方式最為常見。
然而,現(xiàn)有的空氣放電保護元件的設(shè)計方式,多屬于直接在基版上制作放電電極,此一保護元件容易有漏電問題產(chǎn)生,造成靜電保護穩(wěn)定度降低。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種采用空氣放電技術(shù)的過電壓保護元件及其制備方法,其具有一絕緣凹槽,可容納放電過程中掉落的金屬碎屑,避免形成短路,以確保過電壓保護元件的穩(wěn)定性。
本發(fā)明的過電壓保護元件的一實施例,包含一基板;一絕緣層,設(shè)置于該基板之上,該絕緣層具有一凹槽;以及一導(dǎo)體層,設(shè)置于該絕緣層之上,該導(dǎo)體層具有一第一電極及一第二電極,該第一電極及該第二電極形成一放電通路,且該凹槽位于該放電通路的下方。
本發(fā)明的過電壓保護元件的另一實施例,包含一絕緣基板,具有一凹槽;以及一導(dǎo)體層,設(shè)置于該絕緣基板之上,該導(dǎo)體層具有一第一電極及一第二電極,該第一電極及該第二電極形成一放電通路,且該凹槽位于該放電通路的下方。
本發(fā)明的過電壓保護元件的制備方法的一實施例,包含形成一絕緣層于一基板之上;形成一凹槽于該絕緣層之內(nèi);形成一光阻圖案,其填滿該凹槽并凸伸出該絕緣層;形成一導(dǎo)體層于該絕緣層之上,該光阻圖案分隔該導(dǎo)體層而形成一第一電極及一第二電極;以及去除該光阻圖案,藉此該第一電極及該第二電極形成一放電通路,且該凹槽位于該放電通路的下方。
本發(fā)明的過電壓保護元件的制備方法的另一實施例,包含形成一凹槽于一絕緣基板之內(nèi);形成一光阻圖案,其填滿該凹槽并凸伸出該絕緣基板;以及形成一導(dǎo)體層于該絕緣基板之上,該光阻圖案分隔該導(dǎo)體層而形成一第一電極及一第二電極;以及去除該光阻圖案,由此該第一電極及該第二電極形成一放電通路,且該凹槽位于該放電通路的下方。
上文已相當(dāng)廣泛地概述本發(fā)明的技術(shù)特征及優(yōu)點,以使下文的本發(fā)明詳細(xì)描述得以獲得較佳了解。構(gòu)成本發(fā)明的申請專利范圍標(biāo)的的其它技術(shù)特征及優(yōu)點將描述于下文。本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者應(yīng)了解,可相當(dāng)容易地利用下文揭示的概念與特定實施例可作為修改或設(shè)計其它結(jié)構(gòu)或工藝而實現(xiàn)與本發(fā)明相同的目的。本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者也應(yīng)了解,這類等效建構(gòu)無法脫離后附的申請專利范圍所界定的本發(fā)明的精神和范圍。
附圖說明
通過參照前述說明及下列圖式,本發(fā)明的技術(shù)特征及優(yōu)點得以獲得完全了解。
圖1例示本發(fā)明一實施例的過電壓保護元件;
圖2至圖10例示本發(fā)明一實施例的過電壓保護元件的制備方法;
圖11例示本發(fā)明另一實施例的過電壓保護元件;以及
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