[發(fā)明專利]蒸鍍裝置無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310102167.4 | 申請(qǐng)日: | 2013-03-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103276358A | 公開(公告)日: | 2013-09-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳益圃;吳雅婷;吳文豪;丁勇升 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 友達(dá)光電股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/24 | 分類號(hào): | C23C14/24 |
| 代理公司: | 北京律誠(chéng)同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006 | 代理人: | 梁揮;王穎 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)灣新竹科*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明關(guān)于一種蒸鍍裝置,尤指一種可對(duì)蒸鍍材料剩余量進(jìn)行監(jiān)控的蒸鍍裝置。
背景技術(shù)
于半導(dǎo)體、平面顯示器以及太陽(yáng)能等產(chǎn)業(yè)中,蒸鍍工藝(evaporation?process)常見應(yīng)用于成膜方面的技術(shù)。蒸鍍工藝的原理將蒸鍍材料放置于坩堝內(nèi),再將坩堝放于加熱室當(dāng)中加熱,使蒸鍍材料受熱而蒸發(fā)為氣體狀態(tài),進(jìn)而利用此氣態(tài)的蒸鍍材料成膜于基板上。
在有機(jī)發(fā)光顯示裝置的工藝中,亦可利用蒸鍍工藝的方式于基板上形成有機(jī)發(fā)光層。然而,在目前的蒸鍍工藝中,坩堝內(nèi)的有機(jī)發(fā)光材料剩余量無法透過坩堝看到,只能利用工藝參數(shù)的變化以及依據(jù)長(zhǎng)期資料收集的經(jīng)驗(yàn)來做人為判斷,故無法準(zhǔn)確定量坩堝中有機(jī)發(fā)光材料的剩余量,使得材料補(bǔ)充以及設(shè)備進(jìn)行保養(yǎng)的頻率不易掌控而影響到蒸鍍機(jī)臺(tái)的生產(chǎn)狀況。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的之一在于提供一種蒸鍍裝置,對(duì)蒸鍍材料于坩堝內(nèi)的剩余量進(jìn)行即時(shí)監(jiān)控,掌控蒸鍍材料剩余量。
為達(dá)上述目的,本發(fā)明的一較佳實(shí)施例提供一種蒸鍍裝置。此蒸鍍裝置包括一加熱室、一坩堝以及至少一溫度測(cè)量元件。坩堝設(shè)置于加熱室中,用以盛裝一蒸鍍材料。溫度測(cè)量元件的一測(cè)量端設(shè)置于坩堝內(nèi)部。
上述的蒸鍍裝置,其中該溫度測(cè)量元件用以測(cè)量該蒸鍍材料的溫度或該坩堝內(nèi)的環(huán)境溫度,以監(jiān)控該蒸鍍材料位于該坩堝內(nèi)的容量。
上述的蒸鍍裝置,其中該溫度測(cè)量元件的該測(cè)量端設(shè)置于該坩堝內(nèi)一警示剩余量的高度,當(dāng)所測(cè)量的溫度低于一預(yù)定溫度表示該蒸鍍材料的剩余量低于警示剩余量。
上述的蒸鍍裝置,其中該至少一溫度測(cè)量元件包括多個(gè)溫度測(cè)量元件,且該等溫度測(cè)量元件的各該測(cè)量端設(shè)置于該坩堝內(nèi)的高度彼此相異,用以監(jiān)控不同剩余量的該蒸鍍材料。
上述的蒸鍍裝置,其中該溫度測(cè)量元件包括一熱電對(duì)(thermal?couple)。
上述的蒸鍍裝置,其中還包括一記錄器,設(shè)置于該加熱室之外,其中該溫度測(cè)量元件設(shè)置于該坩堝外的另一端與該記錄器相連,用以傳遞溫度測(cè)量結(jié)果至該記錄器。
上述的蒸鍍裝置,其中還包括一加熱器,設(shè)置于該加熱室的一外側(cè),用以對(duì)該蒸鍍材料進(jìn)行加熱。
上述的蒸鍍裝置,其中該加熱室包括一主體以及一外蓋,該外蓋設(shè)置于該主體上,且該外蓋具有至少一噴嘴,用以逸出被汽化的該蒸鍍材料。
上述的蒸鍍裝置,其中該溫度測(cè)量元件的該測(cè)量端經(jīng)由該噴嘴而設(shè)置于該坩堝內(nèi)部。
上述的蒸鍍裝置,其中該加熱室包括一圓柱狀加熱室或一長(zhǎng)方體形加熱室。
使用上述的蒸鍍裝置,利用蒸鍍材料的溫度與放置蒸鍍材料的坩堝內(nèi)的環(huán)境溫度之間的差可以對(duì)蒸鍍材料于坩堝內(nèi)的剩余量進(jìn)行即時(shí)監(jiān)控,同時(shí)能夠掌控蒸鍍材料剩余量。
附圖說明
圖1繪示本發(fā)明的第一較佳實(shí)施例的蒸鍍裝置的示意圖;
圖2繪示本發(fā)明的第一較佳實(shí)施例的蒸鍍裝置的溫度測(cè)量元件示意圖;
圖3至圖5繪示本發(fā)明的第一較佳實(shí)施例的蒸鍍裝置的溫度測(cè)量狀況示意圖;
圖6繪示本發(fā)明的第二較佳實(shí)施例的蒸鍍裝置的示意圖;
圖7繪示本發(fā)明的第三較佳實(shí)施例的蒸鍍裝置的示意圖;
圖8繪示本發(fā)明的第四較佳實(shí)施例的蒸鍍裝置的示意圖。
其中,附圖標(biāo)記:
100??蒸鍍裝置????????110??加熱室
110A?主體????????????110B?外蓋
111??噴嘴????????????120??坩堝
130??蒸鍍材料????????130A?被汽化的蒸鍍材料
140??溫度測(cè)量元件????140M?測(cè)量端
141??第一溫度測(cè)量元件????142??第二溫度測(cè)量元件
143??第三溫度測(cè)量元件????144??第四溫度測(cè)量元件
150??加熱器??????????????160??絕熱塊
170??記錄器??????????????200??蒸鍍裝置
300??蒸鍍裝置????????????400??蒸鍍裝置
410??加熱室??????????????410A?主體
410B?外蓋????????????????420??坩堝
具體實(shí)施方式
為使本領(lǐng)域技術(shù)人員能更進(jìn)一步了解本發(fā)明,下文特列舉本發(fā)明的較佳實(shí)施例,并配合所附附圖,詳細(xì)說明本發(fā)明的構(gòu)成內(nèi)容及所欲達(dá)成的功效。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





