[發明專利]一種大尺寸稀土硼化物SmB6單晶體的制備方法有效
| 申請號: | 201310095466.X | 申請日: | 2013-03-23 |
| 公開(公告)號: | CN103205801A | 公開(公告)日: | 2013-07-17 |
| 發明(設計)人: | 張忻;張繁星;李曉娜;張久興 | 申請(專利權)人: | 北京工業大學 |
| 主分類號: | C30B13/00 | 分類號: | C30B13/00;C30B29/10 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 尺寸 稀土 硼化物 smb sub 單晶體 制備 方法 | ||
技術領域
本發明屬于稀土硼化物陰極材料技術領域,具體涉及到一種利用光學區域熔煉法制備SmB6單晶體材料的方法。
技術背景
自1951年,美國的J.M.Lafferty發現六硼化鑭具有優異的電子發射特性后,開啟了稀土硼化物研究熱潮。稀土六硼化物(ReB6,Re為稀土元素)是一類具有特殊晶體結構的硼化物,具有熔點高、硬度大、逸出功低、發射電流密度大、化學穩定性好、耐離子轟擊能力強等特點,是理想的熱陰極材料。稀土六硼化物研究的熱點主要集中在LaB6和CeB6等二元稀土硼化物陰極。Sm元素作為一種重要的稀土元素被廣泛應用,而SmB6單晶體的制備與研究較少。
目前,通常采用鋁溶劑法制備稀土硼化物SmB6單晶體,但此方法制備出的單晶體尺寸較小,并在制備過程中易帶入雜質鋁元素,降低了單晶純度,降低了發射電流密度,限制了其實際應用。
發明內容
本發明的目的在于解決現有技術的問題,而提供一種高質量,高純度,大尺寸的SmB6單晶體陰極材料的制備方法。本發明所提供的方法能提高單晶體的質量及尺寸,有利于大規模工業生產和應用。
本發明采用放電等離子燒結(SPS)與懸浮區域熔煉相結合的方法制備大尺寸,高質量SmB6單晶體,具體步驟如下:
1)將Sm粉末、B粉末按摩爾比1:6球磨混勻后裝入石墨模具中;將模具置于SPS燒結腔體中,在總氣壓低于5Pa的真空條件下燒結;以100~110℃/min的升溫速率升溫至1450~1500℃,保溫5~8min,隨爐冷卻至室溫,得到SmB6多晶棒;
2)采用光學區域熔煉爐,以直徑為6~8mm的SmB6多晶棒為籽晶和料棒進行第一次區熔;設備抽真空至1Pa以下后,沖入流動氬氣至氣壓升至0.5MPa,氣體流速為1.5~2L/min,30min區熔爐功率增加到籽晶和料棒熔化并形成穩定熔區,為了使熔區更加均勻,將籽晶和料棒反向旋轉,轉速為30rpm,晶體生長速度單位15~20mm/h,生長至5—6cm長度后進入步驟3);
3)采用光學區域熔煉爐,以一次區熔的SmB6為料棒,以SPS燒結的SmB6多晶棒為籽晶進行第二次區熔;設備抽真空至1Pa以下后,沖入流動氬氣至氣壓升至0.5MPa,氣體流速為1.5~2L/min,30min區熔爐功率增加到籽晶和料棒熔化并形成穩定熔區,為了使熔區更加均勻,將籽晶和料棒反向旋轉,轉速為30rpm,晶體生長速度單位10~12mm/h,生長至5—6cm長度后進入步驟4);
4)采用光學區域熔煉爐,以二次區熔的SmB6為料棒,以SPS燒結的SmB6多晶棒為籽晶進行第三次區熔;設備抽真空至1Pa以下后,沖入流動氬氣至氣壓升至0.5MPa,氣體流速為1.5~2L/min,30min區熔爐功率增加到籽晶和料棒熔化并形成穩定熔區,為了使熔區更加均勻,將籽晶和料棒反向旋轉,轉速為30rpm,晶體生長速度單位6~8mm/h,生長至5—6cm長度。
其中,步驟1)所述的放電等離子燒結設備型號為SPS-3.20MK-V;步驟2)所述的光學區域熔煉爐型號為FZ-T-12000-S-BU-PC。
與現有制備技術相比較,本發明具有以下有益效果:
本發明所制備的多元稀土硼化物SmB6單晶體生長尺寸大、質量高,單晶體為的柱狀塊體。
附圖說明
圖1、實施例1制備的SmB6單晶體的實物照片。
圖2、實施例1制備的SmB6單晶體的單晶衍射慢速掃描照片。
圖3、實施例2制備的SmB6單晶體沿c軸生長方向勞埃照片。
圖4、實施例2制備的SmB6單晶體調節晶格常數通過OrientExpress軟件擬合后的勞埃圖譜。
以下結合附圖和具體實施方式對本發明作進一步說明,但是本發明的保護范圍不限于下述實施例。
具體實施方式
實施例1
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