[發明專利]一種用于B細胞抗原表位篩查的多肽陣列合成技術

有效

• 申請號: 201310093099.X
• 申請日: 2013-03-22
• 公開（公告）號: CN103245788A
• 公開（公告）日: 2013-08-14
• 發明（設計）人: 趙樹民;鮑勇剛;石松傳
• 申請（專利權）人: 趙樹民
• 主分類號: G01N33/68
• 分類號: G01N33/68;C07K1/06;C07K1/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種用于B細胞抗原表位篩查的多肽陣列合成技術，其特征在于，包括以下步驟：

1)多肽芯片的合成，具體包括：

1.1多肽微陣列芯片上的多肽合成：用半自動合成儀吸取足量的氨基酸活化溶液點印于纖維素膜上，進行多肽點合成反應；

1.2多肽微陣列芯片合成中側鏈鈍化；

1.3多肽微陣列芯片合成中每層Fmoc保護基團的去除；

1.4多肽微陣列芯片合成過程中的染色；

1.5重復1.2至1.4步驟繼續合成多肽微陣列芯片，按照預先設定的程序，直至多肽合成完成；

1.6將完成最后一層氨基酸合成的多肽微陣列芯片膜置于-20℃冰箱保存或直接進行下一步反應；

2)多肽側鏈保護基團的去除；

3)多肽芯片的雜交反應。

2.根據權利要求1所述的一種用于B細胞抗原表位篩查的多肽陣列合成技術，其特征在于，所述步驟1.1中的的氨基酸活化溶液的配制方法為：

1)配制氨基酸激活劑：以DMF為溶劑，配制0.5M?DIC溶液；

2)配制各種氨基酸儲備液溶液：以DMF為溶劑，配制0.5M?HOBt溶液，再將配制好的0.5M的HOBt溶液作為溶劑分別配制不同種類的Fmoc保護氨基酸，使溶液達到濃度為0.5M的氨基酸儲備液；

3)配制氨基酸激活溶液：用步驟1)中配制0.5M的DIC氨基酸激活劑和步驟2)中各種氨基酸儲備液溶液以1∶1的比例混合，所得溶液即濃度為0.25M的氨基酸激活溶液。

3.根據權利要求2所述的一種用于B細胞抗原表位篩查的多肽陣列合成技術，其特征在于，所述氨基酸激活溶液配制后室溫靜置15min以上使用。

4.根據權利要求1所述的一種用于B細胞抗原表位篩查的多肽陣列合成技術，其特征在于，還包括步驟4)多肽微陣列芯片的再生。

5.根據權利要求1所述的一種用于B細胞抗原表位篩查的多肽陣列合成技術，其特征在于，所述步驟1.2多肽微陣列芯片合成中側鏈鈍化的方法為：在多肽微陣列芯片合成每一層結束后，纖維素膜正面朝下置于玻璃平皿中，用鈍化溶液I完全浸潤10min后，棄去鈍化溶液I，加入鈍化溶液II，再次靜置10min，棄去鈍化溶液II，將纖維素膜正面朝上，加入DMF溶液，再震蕩洗膜6次，每次2min，所述鈍化溶液I為2％乙酸酐的DMF溶液，所述鈍化溶液II為含2％酸酐、2％二異丙基胺的DMF溶液。

6.根據權利要求1所述的一種用于B細胞抗原表位篩查的多肽陣列合成技術，其特征在于，所述步驟1.3多肽微陣列芯片合成中每層Fmoc保護基團的去除方法為：多肽微陣列芯片合成中側鏈鈍化后，將纖維素膜放入新的玻璃平皿中，加入去Fmoc保護基團溶液后震蕩反應去除Fmoc氨基保護基團，此步驟重復兩次，每次10min，之后用DMF溶液震蕩洗膜6次，每次2min；再用無水乙醇震蕩洗膜兩次，每次2min，室溫晾干，所述去Fmoc保護基團溶液為含20％Piperidine的DMF溶液。

7.根據權利要求1所述的一種用于B細胞抗原表位篩查的多肽陣列合成技術，其特征在于，所述步驟1.4多肽微陣列芯片合成過程中的染色方法為：在多肽微陣列芯片合成中每層Fmoc保護基團的去除后，將纖維素膜放入新的玻璃平皿中，加入足量無水乙醇完全浸沒纖維素膜，并加入5-6滴溴酚藍染色溶液，搖動染色2min至膜上呈現藍色多肽點時用無水乙醇震蕩洗膜2-5次直至洗液無藍色出現，取出纖維素膜室溫晾干或者使用冷風從芯片反面使纖維素膜干燥，所述溴酚藍染色溶液為含0.1％溴酚藍的乙醇溶液。