[發明專利]小晶粒三維存儲器有效
| 申請號: | 201310091513.3 | 申請日: | 2013-03-21 |
| 公開(公告)號: | CN103367365A | 公開(公告)日: | 2013-10-23 |
| 發明(設計)人: | 張國飆 | 申請(專利權)人: | 成都海存艾匹科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/10 | 分類號: | H01L27/10;H01L27/102 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 610041 四川*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 晶粒 三維 存儲器 | ||
1.一種小晶粒三維存儲器,其特征在于含有:
一含有一半導體襯底(00)的襯底層(50),該襯底層含有多個有效晶體管(58a、58b);
至少一疊置在所述襯底層(50)上方且通過多個連接通道孔(51)與所述襯底層耦合的存儲層(60),該存儲層(60)含有多個存儲元(68a、68b…),每個存儲元(68a)含有一個特征尺寸(f)不大于40nm的小晶粒二極管(61),所述小晶粒二極管(61)的晶粒尺寸(G)小于二極管尺寸(D);
所述存儲層(60)的特征尺寸(f)小于所述襯底層(50)的特征尺寸(F)。
2.根據權利要求1所述的小晶粒三維存儲器,其特征還在于:該小晶粒二極管(61)含有納米晶材料。
3.根據權利要求2所述的小晶粒三維存儲器,其特征還在于:該納米晶材料的晶粒尺寸(G)小于10nm。
4.根據權利要求2所述的小晶粒三維存儲器,其特征還在于:該納米晶材料是非晶材料。
5.根據權利要求1所述的小晶粒三維存儲器,其特征還在于:所述存儲層(60)含有掩膜編程只讀存儲元或電編程存儲元。
6.根據權利要求1所述的小晶粒三維存儲器,其特征在于還含有:至少一疊置在所述存儲層(60)上方的另一存儲層(80),該存儲層(80)的特征尺寸(f*)小于所述襯底層(50)的特征尺寸(F)。
7.一種非晶多位元三維掩膜編程只讀存儲器,其特征在于含有:
一含有一半導體襯底(00)的襯底層(50),該襯底層含有多個有效晶體管(58a、58b);
至少一疊置在所述襯底層(50)上方且通過多個連接通道孔(51)與所述襯底層耦合的存儲層(60),該存儲層(60)含有多個掩膜編程只讀存儲元(68b、68d…),每個存儲元存儲的數據大于一位(bit),每個存儲元含有一個特征尺寸(f)不大于40nm的非晶二極管(61);
所述存儲層(60)的特征尺寸(f)小于所述襯底層(50)的特征尺寸(F)。
8.根據權利要求7所述的非晶多位元三維掩膜編程只讀存儲器,其特征還在于:至少一所述存儲元(68b)還含有至少一層電阻膜(71)。
9.根據權利要求7所述的非晶多位元三維掩膜編程只讀存儲器,其特征還在于:至少一所述存儲元(68d)還含有至少兩層電阻膜(71、73)。
10.根據權利要求7所述的非晶多位元三維掩膜編程只讀存儲器,其特征在于還含有:至少一疊置在所述存儲層(60)上方的另一存儲層(80),該存儲層(80)的特征尺寸(f*)小于所述襯底層(50)的特征尺寸(F)。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





