[發明專利]一種基片承載裝置有效
| 申請號: | 201310087567.2 | 申請日: | 2013-03-18 |
| 公開(公告)號: | CN103132043A | 公開(公告)日: | 2013-06-05 |
| 發明(設計)人: | 梁會波;仲梁維 | 申請(專利權)人: | 上海理工大學 |
| 主分類號: | C23C14/50 | 分類號: | C23C14/50 |
| 代理公司: | 上海德昭知識產權代理有限公司 31204 | 代理人: | 郁旦蓉 |
| 地址: | 200093 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 承載 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及一種基片承載裝置。
背景技術
光學薄膜基本上是藉由干涉作用而達到效果的。是在光學元件上或獨立的基板上鍍上一層或多層的介電質膜或金屬膜或介電質膜與金屬膜組成的膜堆來改變光波傳導的特性。因此,波在薄膜中行進才?會發生透射、反射、吸收、散射、相位偏移等變化。目前,光學薄膜廣泛應用于光學儀器,如傳感器、半導體鐳射、干涉儀、眼鏡以及光纖通訊組件等很多領域。
真空蒸發鍍膜是真空鍍膜技術中發展最早、應用最廣的一種。特別是電阻加熱式蒸發鍍膜至今已有近百年的歷史。近年來由于電子轟擊蒸發,高頻感應蒸發以及激光蒸發等技術在蒸發鍍膜技術中的廣泛應用,使這一技術更趨完善。因此,目前真空蒸發鍍膜技術在鍍膜技術中處于相當重要的地位。
將膜材置于由金屬或玻璃制成的真空室內,通過蒸發源加熱使其蒸發,當蒸發分子的平均自由程大于真空室的線性尺寸以后,蒸汽的原子和分子從蒸發源表面逸出后,很少受到其它分子或原子的沖擊與阻礙,可直接到達被鍍的基片表面上,由于基片溫度較低.便凝結其上而成膜。
在現有的真空鍍膜機中,通常使用多個螺栓和法蘭將基片承載裝置與轉動軸上固定在一起。當需要安裝基片或夾具時,就需要取出基片承載單元,但是由于基片承載單元是固定在基片承載裝置上的,因此,就需要將整個基片承載裝置拆下,裝好基片或夾具后再將基片承載裝置安裝在轉動軸上。
但是,由于安裝或拆下基片承載架時均需對多個螺栓進行操作,安裝和拆卸的過程非常麻煩,不僅給操作員帶來不便,還會延長操作時間,同時也加劇了螺栓、法蘭的磨損,并且操作員在安裝時也不容易控制多個螺栓的預緊力相同,從而會導致基片承載架的中心軸線傾斜,影響其安裝精度,進而影響基片的鍍膜質量。
發明內容
為了解決以上問題點,本發明提供了一種基片承載裝置,結構如下。
本發明提供一種安裝在真空鍍膜機的轉動軸上的基片承載裝置,其特征在于,具有:連接單元,與轉動軸相連;和基片承載單元,與連接單元卡合相連,包括定位臺和與定位臺固定相連的基片承載架,其中,定位臺含有定位臺本體和設置在該定位臺本體上的卡槽,連接單元含有與轉動軸相匹配的轉動軸連接部和與基片承載單元相匹配的基片承載單元連接部,該基片承載單元連接部包含具有凹槽和設置在該凹槽的槽壁上向外突出的凸槽的連接部本體和安裝在連接部本體上的卡緊機構,凹槽與定位臺本體相嵌合,卡緊機構含有安裝在凸槽內的鎖舌、用于推動鎖舌進入卡槽內的推力構件以及用于拉動鎖舌離開卡槽的拉柄。
進一步地,在本發明的基片承載裝置中,還可以具有這樣的特征:鎖舌含有一個鎖桿和一個在與定位臺本體相抵接時推動鎖桿向著拉柄移動的抵接面。
進一步地,在本發明的基片承載裝置中,還可以具有這樣的特征:推力構件為推力彈簧。
發明的作用與效果
根據本發明涉及的基片承載裝置,因為該基片承載裝置包括連接單元和基片承載單元,通過連接單元與轉動軸相連,并使基片承載單元與連接單元卡合相連,所以不僅能夠通過卡合的方式使基片承載單元與連接單元相連,而且能夠通過拉柄將連接單元中的鎖舌拉出,從而將基片承載單元拆下,因此,大大簡化了安裝、拆卸的基片承載單元工序,不僅更便于用戶操作使用,而且能夠節省操作時間,更不會磨損裝置,并且操作員在安裝時能夠容易地使基片承載單元與連接單元的凹槽相嵌合,從而不會導致基片承載單元的中心軸線傾斜,保證了其安裝精度,進而能夠達到提高基片鍍膜質量的效果。
附圖說明
圖?1?是本發明涉及的基片承載裝置在實施例中的結構示意圖;
圖?2?是本發明涉及的基片承載裝置在實施例中的分解圖;
圖?3?是本發明涉及的基片承載裝置在實施例中的剖視圖;以及
圖?4?是本發明涉及的連接單元在實施例中的剖視圖。
具體實施方式
以下結合附圖對本發明所涉及的基片承載裝置的優選實施例做詳細闡述,但本發明并不僅僅限于該實施例。為了使公眾對本發明有徹底的了解,在以下本發明優選實施例中詳細說明了具體的細節。
實施例
圖?1?是本發明涉及的基片承載裝置在實施例中的結構示意圖。
圖?2?是本發明涉及的基片承載裝置在實施例中的分解圖。
如圖?1、2?所示,基片承載裝置10包括連接單元11和基片承載單元12。
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