[發明專利]專用于掠入射XAFS實驗的裝置及其調整方法

有效

• 申請號: 201310081613.8
• 申請日: 2013-03-14
• 公開（公告）號: CN103175857A
• 公開（公告）日: 2013-06-26
• 發明（設計）人: 謝亞寧;張靜;張久昶;宋冬燕
• 申請（專利權）人: 中國科學院高能物理研究所
• 主分類號: G01N23/223
• 分類號: G01N23/223
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 石海霞;鄭特強

1.一種專用于掠入射XAFS實驗的裝置，包括：

用于產生所述掠入射XAFS實驗所需的X射線的裝置；

前狹縫，用于限定所述用于產生所述掠入射XAFS實驗所需的X射線的裝置發出的X射線的尺寸；

第一升降臺，用于安裝所述前狹縫，并使所述前狹縫在與所述X射線的光軸方向垂直的方向上升降；

樣品架，用于承載樣品，所述樣品的表面與從所述前狹縫出射的X射線相互作用；

旋轉臺，用于安裝所述樣品架，并使得所述樣品架上的樣品轉動，以獲得所需的X射線掠入射角度；

第二升降臺，用于安裝所述旋轉臺，并使得所述旋轉臺在與所述X射線的光軸方向垂直的方向上升降；

后狹縫，用于限定與所述樣品的表面相互作用后的全反射X射線的尺寸；

第三升降臺，用于安裝所述后狹縫，并使得所述后狹縫在與所述X射線垂直的方向上升降；

基座升降部，用于安裝所述第一升降臺、所述第二升降臺和所述第三升降臺，使得所述第一升降臺、第二升降臺和所述第三升降臺同時在與所述X射線的光軸方向垂直的方向上升降；

第一探測器，用于探測從所述樣品發出的熒光信號；

第二探測器，用于探測從所述后狹縫出射的X射線信號。

2.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述旋轉臺的轉軸沿著所述樣品的表面延伸方向經過所述樣品的表面。

3.根據權利要求1所述的裝置，還包括狹縫組件，設置在所述樣品架與所述第一探測器之間；所述狹縫組件包括一組不平行的葉片并且具有焦點。

4.根據權利要求3所述的裝置，其中，所述樣品的中線至所述旋轉臺的臺面的距離為所述狹縫組件的焦點距離。

5.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述第一探測器上設置有遮光罩。

6.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述第二探測器設置在所述第三升降臺上；

所述第三升降臺設置于直線滑動臺上，所述第三升降臺在所述直線滑動臺上的滑動方向與所述X射線的光軸方向平行。

7.根據權利要求1-6中任一權利要求所述的裝置，所述基座升降部包括：

安裝基板，用于安裝所述第一升降臺、所述第二升降臺和所述第三升降臺；

第四升降臺，用于安裝所述安裝基板，使得所述安裝基板在與所述X射線的光軸方向垂直的方向上升降。

8.一種如權利要求1-7中任一權利要求所述的裝置的調整方法，包括：

調節基座升降部，使得所述基座升降部達到與準直光束相匹配的垂直高度；

打開前狹縫，移開樣品，通過第三升降臺調節所述后狹縫在與X射線的光軸垂直的方向上的高度，直到第二探測器的輸出達到最大；

調節前狹縫的縫寬，并通過第一升降臺調節所述前狹縫在與X射線的光軸垂直的方向上的高度，直到第二探測器的輸出達到最大；

將樣品放置在樣品架上，通過第二升降臺調節所述樣品架在與X射線的光軸垂直的方向上的高度，直到第二探測器的輸出達到最大時的一半；然后驅動旋轉臺，直到第二探測器的輸出達到最大；重復垂直調節所述樣品架的步驟，直到所述第二探測器的輸出達到最大時的一半，并且在順時針和逆時針兩個方向旋轉所述旋轉臺時，所述第二探測器的輸出均減小。

9.根據權利要求8所述的方法，還包括：

根據所需的掠入射角度旋轉所述旋轉臺；

設置所述后狹縫到所述樣品架的距離，根據所述掠入射角度、所述后狹縫到所述樣品架的距離，計算并設置所述后狹縫的垂直位置；

轉動所述旋轉臺，直到所述第二探測器的輸出達到最大值。