[發(fā)明專利]基于圖案重復(fù)使用的寄生提取的圖案匹配

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310080246.X
• 申請日: 2013-03-13
• 公開（公告）號: CN103810317B
• 公開（公告）日: 2017-03-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 喻秉鴻;林欣蕓;黃正儀;王中興
• 申請（專利權(quán)）人: 臺灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類號: G06F17/50
• 分類號: G06F17/50
• 代理公司: 北京德恒律治知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11409
• 代理人: 章社杲,孫征

1.一種利用圖案匹配的RC提取的方法，包括：

通過布局對原理圖(LVS)工具驗(yàn)證原理圖與布局的一致性；

通過圖案匹配工具分析所述布局以將所述布局劃分為多個(gè)圖案，各個(gè)圖案都包括包含部分器件、器件或多個(gè)器件的一個(gè)或多個(gè)形狀以及它們周圍的環(huán)境；以及

確定所述多個(gè)圖案中的第一相應(yīng)圖案不具有存儲在被所述圖案匹配工具參考的圖案數(shù)據(jù)庫中的對應(yīng)第一參考圖案；以及

對所述第一相應(yīng)圖案執(zhí)行提取以獲得相關(guān)聯(lián)的第一提取參數(shù)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括：在所述圖案數(shù)據(jù)庫中分別將所述第一相應(yīng)圖案和所述相關(guān)聯(lián)的第一提取參數(shù)存儲為所述第一參考圖案和第一參考提取參數(shù)來用于重復(fù)使用。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括：

確定所述多個(gè)圖案中的第二相應(yīng)圖案具有存儲在所述圖案數(shù)據(jù)庫中的對應(yīng)第二參考圖案和相關(guān)聯(lián)的第二參考提取參數(shù)；以及

對所述第二相應(yīng)圖案應(yīng)用所述第二參考提取參數(shù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中，沒有預(yù)表征所述多個(gè)圖案中的圖案，使得所有圖案都被分配提取參數(shù)。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中，確定所述多個(gè)圖案中的相應(yīng)圖案是否具有存儲在所述圖案數(shù)據(jù)庫中的對應(yīng)參考圖案還包括旋轉(zhuǎn)和翻轉(zhuǎn)所述相應(yīng)圖案。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中，所述第一提取參數(shù)和所述第二提取參數(shù)包括所述相應(yīng)圖案的邊界框內(nèi)的三維電容。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，還包括：

識別所述第一相應(yīng)圖案的一個(gè)或多個(gè)第一縫合節(jié)點(diǎn)；

識別所述第二相應(yīng)圖案的一個(gè)或多個(gè)第二縫合節(jié)點(diǎn)，

將第一縫合腳插入到每個(gè)對應(yīng)的所述第一縫合節(jié)點(diǎn)；以及

將第二縫合腳插入到每個(gè)對應(yīng)的所述第二縫合節(jié)點(diǎn)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，還包括：在縫合腳插入之后，確定所述布局的子集內(nèi)剩余的提取參數(shù)不包括所述第一相應(yīng)圖案或所述第二相應(yīng)圖案。

9.一種限定布局的圖案的方法，包括：

限定包括具有器件、器件子集和多邊形的多邊形集合的一個(gè)或多個(gè)主要形狀的集合；

為所述一個(gè)或多個(gè)主要形狀的集合限定包括限定主要形狀與其交互的布局的設(shè)計(jì)等級的子集的背景；

限定包括關(guān)于所述一個(gè)或多個(gè)主要形狀的厚度和所述背景的信息的形狀參考文件；以及

限定關(guān)于所述一個(gè)或多個(gè)主要形狀的集合在限定所述圖案的邊界的所述背景內(nèi)的位置。

10.一種圖案和提取存儲系統(tǒng)，包括：

寄生提取工具，包括被配置為將設(shè)計(jì)劃分為多個(gè)圖案的圖案匹配工具，其中相應(yīng)圖案都包括具有部分器件、器件或多個(gè)器件的一個(gè)或多個(gè)形狀以及它們周圍的環(huán)境；以及

圖案數(shù)據(jù)庫，被所述圖案匹配工具參考，并且被配置為存儲作為參考圖案的相應(yīng)圖案和相關(guān)聯(lián)的提取參數(shù)。