[發(fā)明專利]多對(duì)二硫鍵定點(diǎn)環(huán)化固相合成多肽新工藝無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310079963.0 | 申請(qǐng)日: | 2013-03-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103214550A | 公開(公告)日: | 2013-07-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王錫平 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 蘇州強(qiáng)耀生物科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C07K1/06 | 分類號(hào): | C07K1/06;C07K1/04 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215200 江蘇省蘇州市吳江市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 二硫鍵 定點(diǎn) 環(huán)化 相合 多肽 新工藝 | ||
1.一種多對(duì)二硫鍵定點(diǎn)環(huán)化固相合成多肽新工藝,所述的新工藝亦稱樹脂上氧化工藝,其特征在于,所述的新工藝按如下具體步驟如下:
第一步,由于需要多對(duì)二硫鍵,所以適宜的多肽序列含有四個(gè)以上半胱氨酸殘基,將要配對(duì)的半胱氨酸殘基進(jìn)行編號(hào);
第二步,將配對(duì)的半胱氨酸殘基選擇一對(duì)用單保護(hù)的半胱氨酸,一對(duì)用H-Cys(Acm)-OH,一對(duì)用H-Cys(MMT)-OH;
第三步,應(yīng)用多肽固相合成技術(shù)將多肽序列固定在固相載體上,其中對(duì)應(yīng)的半胱氨酸殘基采用單保護(hù)或者用H-Cys(Acm)-OH或者用H-Cys(MMT)-OH;
第四步,序列合成完成后,將樹脂載體浸泡在有機(jī)溶劑中,然后添加氧化劑,將序列中兩個(gè)單保護(hù)的半胱氨酸殘基的-SH氧化,形成二硫鍵;
第五步,用砂芯濾柱過濾掉溶劑,用純DCM和DMF清洗樹脂;
第六步,將樹脂加入含有1%的脫除劑的有機(jī)溶劑的容器中,對(duì)其中兩個(gè)半胱氨酸殘基保護(hù)基的特異性去除;
第七步,用砂芯濾柱過濾溶劑,用ELLMAN試劑檢測(cè),用純DCM和DMF清洗樹脂;
第八步,將樹脂載體浸泡在有機(jī)溶劑中,添加氧化劑,將已去除-HS保護(hù)基的兩個(gè)半胱氨酸殘基的-SH氧化,形成二硫鍵;
第九步,用砂芯濾柱過濾掉溶劑,用純DCM和DMF清洗樹脂;
第十步,用ELLMAN試劑檢測(cè),查看反應(yīng)是否完全,對(duì)比本發(fā)明和常規(guī)工藝的兩對(duì)二硫鍵氧化肽合成的優(yōu)劣。
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