[發(fā)明專利]產(chǎn)生方法和信息處理設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310076853.9 | 申請日: | 2013-03-12 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103309171A | 公開(公告)日: | 2013-09-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 荒井禎 | 申請(專利權(quán))人: | 佳能株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G03F7/20 | 分類號(hào): | G03F7/20;G03F1/38 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038 | 代理人: | 李曉芳 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 產(chǎn)生 方法 信息處理 設(shè)備 | ||
1.一種產(chǎn)生用于要被用于曝光設(shè)備的掩模圖案的數(shù)據(jù)的產(chǎn)生方法,所述曝光設(shè)備包括用于將包括主圖案和輔助圖案的掩模圖案投射到基板上的投射光學(xué)系統(tǒng),所述產(chǎn)生方法包括:
第一步驟,設(shè)置產(chǎn)生條件,在所述產(chǎn)生條件下產(chǎn)生輔助圖案;
第二步驟,計(jì)算要由投射光學(xué)系統(tǒng)使用在曝光設(shè)備中設(shè)置的曝光條件以及包括設(shè)置的主圖案和根據(jù)設(shè)置的產(chǎn)生條件產(chǎn)生的輔助圖案的掩模圖案在基板上形成的掩模圖案的圖像;和
第三步驟,確定描述指示在第二步驟中計(jì)算的掩模圖案的圖像的質(zhì)量的指數(shù)的估計(jì)函數(shù)的值是否落入容許范圍之內(nèi),
其中,如果確定估計(jì)函數(shù)的值落入容許范圍之內(nèi),則產(chǎn)生包括設(shè)置的主圖案和根據(jù)在第一步驟中設(shè)置的產(chǎn)生條件產(chǎn)生的輔助圖案的數(shù)據(jù)作為用于該掩模圖案的數(shù)據(jù),以及
如果確定估計(jì)函數(shù)的值落在容許范圍之外,則改變產(chǎn)生條件以在第一步驟中設(shè)置新的產(chǎn)生條件,并且使用新的產(chǎn)生條件執(zhí)行第二步驟和第三步驟。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)生方法,其中
如果確定估計(jì)函數(shù)的值落入容許范圍之內(nèi),則產(chǎn)生與在第二步驟中計(jì)算掩模圖案的圖像時(shí)的設(shè)置的曝光條件對應(yīng)的數(shù)據(jù)作為用于該曝光設(shè)備中的曝光條件的數(shù)據(jù),以及
如果確定估計(jì)函數(shù)的值落在容許范圍之外,則改變在第二步驟中計(jì)算掩模圖案的圖像時(shí)的設(shè)置的曝光條件以設(shè)置新的曝光條件,并且使用新的曝光條件執(zhí)行第二步驟和第三步驟。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)生方法,其中
如果確定估計(jì)函數(shù)的值落在容許范圍之外,則改變在第二步驟中計(jì)算掩模圖案的圖像時(shí)的設(shè)置的主圖案以設(shè)置新的主圖案,并且使用新的主圖案執(zhí)行第二步驟和第三步驟。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的產(chǎn)生方法,其中
所述產(chǎn)生條件包括用于決定輔助圖案的位置和形狀中的至少一個(gè)的參數(shù)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的產(chǎn)生方法,其中
所述參數(shù)包括以下中的至少一個(gè):用于基于要在基板上形成的掩模圖案的圖像的每個(gè)位置處的強(qiáng)度來決定輔助圖案的位置的強(qiáng)度閾值,要在基板上形成的圖像被區(qū)分的方向,以及產(chǎn)生輔助圖案所需的、輔助圖案和相鄰圖案之間的距離。
6.一種產(chǎn)生用于要被用于曝光設(shè)備的掩模圖案的數(shù)據(jù)的信息處理設(shè)備,所述曝光設(shè)備包括用于將包括主圖案和輔助圖案的掩模圖案投射到基板上的投射光學(xué)系統(tǒng),其中所述信息處理設(shè)備包括被配置為執(zhí)行以下步驟的處理器:
第一步驟,設(shè)置產(chǎn)生條件,在所述產(chǎn)生條件下產(chǎn)生輔助圖案;
第二步驟,計(jì)算要由投射光學(xué)系統(tǒng)使用在曝光設(shè)備中設(shè)置的曝光條件以及包括設(shè)置的主圖案和根據(jù)設(shè)置的產(chǎn)生條件產(chǎn)生的輔助圖案的掩模圖案在基板上形成的掩模圖案的圖像;和
第三步驟,確定描述指示在第二步驟中計(jì)算的掩模圖案的圖像的質(zhì)量的指數(shù)的估計(jì)函數(shù)的值是否落入容許范圍之內(nèi),
其中,如果確定估計(jì)函數(shù)的值落入容許范圍之內(nèi),則產(chǎn)生包括設(shè)置的主圖案和根據(jù)在第一步驟中設(shè)置的產(chǎn)生條件產(chǎn)生的輔助圖案的數(shù)據(jù)作為用于該掩模圖案的數(shù)據(jù),以及
如果確定估計(jì)函數(shù)的值落在容許范圍之外,則改變產(chǎn)生條件以在第一步驟中設(shè)置新的產(chǎn)生條件,并且使用新的產(chǎn)生條件執(zhí)行第二步驟和第三步驟。
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